Study on mechanism for etching of $SrBi_{2}Ta_{2}O_{9}$ thin film in $SF_6$ /Ar gas plasma
($SF_6$ /Ar 가스 플라즈마에 의한 $SrBi_{2}Ta_{2}O_{9}$ 박막의 식각 메커니즘 연구)
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- Proceedings of the KIEE Conference
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- 1999.11d
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- pp.867-869
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- 1999