• 제목/요약/키워드: Photosensitive Polymer

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Methacryloyl기를 함유한 가용성 폴리이미드의 합성과 감광 특성 (Preparation and Properties of Soluble Polyimide with Methacryloyl Group)

  • 윤근병;손형준;이동호
    • 공업화학
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    • 제17권2호
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    • pp.217-222
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    • 2006
  • 폴리이미드는 높은 열안정성, 우수한 기계적, 전기적 성질을 가지고 있어 많은 연구가 진행되어 왔지만, 대부분의 유기용매에 불용인 관계로 그 용도가 제한되어 있다. 본 연구에서는 방향족 디아민인 2,2,-bis(3-amino-4-hydroxyphenyl) hexafluoropropane (BAPAF)와 3,3,-diamino-4,4- dihydroxybyphenyl (HAB)를 사용하고 방향족 디안하이드라이드인 4,4-(hexafluoroisopropylidene)diphthalic dianhydride (6FDA), pyromellitic dianhydride (PMDA), 4,4-oxydiphthalic dianhydride (OPDA), 3,3,4,4-benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) 및 3,3,4,4-diphenylsulfone tetracarboxylic dianhydride (DSDA)를 사용하여 가용성 폴리이미드를 합성하였다. 폴리이미드의 성질은 NMR, FR-IR 및 TGA를 이용하여 조사하였으며, 유전상수는 축전용량을 측정하여 계산하였다. 히드록시기를 포함한 폴리이미드와 methacryloyl chloride를 반응시켜 감광성 폴리이미드를 합성하고, photolithography기술을 이용하여 micro-패턴을 형성하였다.

저온동시소성용 감광성 은(Ag)페이스트의 광식각 특성 (Photolithographic Properties of Photosensitive Ag Paste for Low Temperature Cofiring)

  • Park, Seong-Dae;Kang, Na-Min;Lim, Jin-Kyu;Kim, Dong-Kook;Kang, Nam-Kee;Park, Jong-Chul
    • 한국세라믹학회지
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    • 제41권4호
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    • pp.313-322
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    • 2004
  • 후막 광식각 기술은 스크린 인쇄 등의 일반적인 후막공정에 노광 및 현상 등의 리소그라피 공정을 접목시킨 새로운 기술이다. 본 연구에서는 후막 광식각 기술을 이용하여 미세라인을 형성할 수 있는 저온동시소성용 Ag 페이스트를 개발하였다. 페이스트를 구성하는 Ag분말과 폴리머, 모노머, 광개시제 등의 양을 조절하여 미세라인을 형성할 수 있는 최적 조성을 연구하였으며. 또한 노광량과 같은 공정변수가 미세라인 형성에 미치는 영향을 연구하였다. 실험결과 폴리머/모노머비, Ag 분말 중량비, 광개시제의 양 등이 미세라인의 해상도에 영향을 미치는 주요 인자임을 확인할 수 있었다. 개발된 감광성 Ag 페이스트를 저온동시소성용 그린 시트에 전면 인쇄한 후 건조, 노광, 현상, 적층, 소성 과정을 통하여, 소성 후 20$\mu\textrm{m}$ 이하의 선폭을 가지는 후막 미세라인을 형성할 수 있었다.

폴리이미드 LB 필름을 이용한 패터닝 및 생물전자 소자로의 응용에 관한 연구 (Studies on the Patterning of Polyimide LB Film and Its Application for Bioelectronic Device)

  • 오세용;박준규;정찬문;최정우
    • 폴리머
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    • 제26권5호
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    • pp.634-643
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    • 2002
  • 고분자 주사슬에 벤젠과 sulfonyloxvimide moiety를 가지고 있는 polyamic acid 초박막을 LB 기법을 이용하여 제조한 다음 200 $^{\circ}C$에서 1시간 동안 열처리에 의해 감광성 폴리이미드 LB 필름을 얻었다. Polyamic acid는 THF-pyridine 공용매를 가지고 축중합에 의해 합성하였다. 모든 단량체와 고분자는 원소분석, FT-IR, $^1$H-NMR의 분광학적 측정을 통해 정량 정성분석을 행하였다. UV lithography 방법을 사용하여 금 기판 위에 제조한 감광성 폴리이미드 LB 필름의 마이크로 어레이 패턴을 제조하였다. 형성된 마이크로 어레이 패턴을 따라 두 가지의 자기조립 방법으로 단백질 cytochrome c 단분자 막을 고정화시켰다. 자기조립된 cytochrome c 단분자 막의 물리ㆍ전기 화학적 특성은 cyclic voltammetry와 AFM을 통해 조사하였으며 생물전자소자로의 응용 가능성에 대해서도 검토하였다.

Barrier Rib Patterning Technology for Cost Effective High Resolution PDP

  • Park, Lee-Soon;Paek, Sin-Hye;Yun, Sang-Won;Choi, Hyung-Suk
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2002년도 International Meeting on Information Display
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    • pp.989-993
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    • 2002
  • Barrier ribs in the color plasma display panel(PDP) function to maintain the discharge space between to glass plates as well as to prevent optical crosstalk. Patterning of barrier ribs is one of unique processes for making PDP. In this work photosensitive barrier rib pastes were prepared by incorporating binder polymer, solvent, functional monomers photoinitiator, mid barrier rib powder. Study on the function of materials for the barrier rib paste were undertaken. After optimization of paste formulation, both photolithographic and transparent soft molding method resulted in fine pattern of barrier ribs with high aspect ratio.

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감광성 수용성 고분자를 이용한 Lipid 센서의 제조 (Fabrication of Lipid Sensor Utilizing Photosensitive Water Soluble Polymer)

  • 박이순;김기현;손병기
    • 센서학회지
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    • 제2권1호
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    • pp.35-40
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    • 1993
  • $Si_{3}N_{4}$ 박막의 코팅된 pH-ISFET의 게이트 부위 위에 lipase 효소를 고정화하여 FET(field effect transistor) 형지질(lipid) 센서를 제조하였다. 효소 고정화막 형성 물질로는 수용성 고분자인 polyvinyl alcohol(PVA)에 감광성기인 1-methyl-4-(formylstyryl) pyridinium methosulfate(SbQ)를 결합시킨 PVA-SbQ를 사용하였다. PVA-SbQ 수용액 (SbQ 1mole %, 10 wt%) $200{\mu}L$, bovine serum albumin (BSA) 7.5 mg, lipase 10 mg으로 구성 된 현탁액을 사용한 사진식각(photolithographic) 공정의 최적 조건은 피막의 상온 진공 건조 시간 45분, spin coater의 회전수 $5,000{\sim}6,000$ rpm, UV 노광시간 $20{\sim}30$초, 증류수 현상 시간 $30{\sim}40$초로 나타났다. 이렇게 구성된 지질 센서는 triacetin을 지질 시료로 하였을 때 $10{\sim}100$ mM의 농도 범위에서 직선성의 검정선을 나타내었다.

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Liquid Crystal Alignment on the Films of Polymethacrylate and Polyurethane Bearing an Aminotroazobenzene Chromophore

  • Park, Dong-Hoon;Kim, Jae-Hyung;Cho, Kang-Jin
    • Macromolecular Research
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    • 제8권4호
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    • pp.172-178
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    • 2000
  • We synthesized polymethacrylate and polyurethane bearing a photosensitive azobenzene chromophore. Photo-induced birefringence of the thin film was observed under a linearly polarized light(λ = 532 nm). Dynamic behaviors of birefringence in two polymers were investigated in terms of the rate constants of growth and decay. An induced dichroism was observed from polarized UV-VIS absorption spectroscopy. Layers of two photosensitive polymers were used for aligning liquid crystal (LC) molecules instead of one of the rubbed polyimide layers in the conventional twisted nematic cell. For producing homogeneous alignment of a nematic LC molecule, a linearly polarized light was exposed to the films of two polymers. The stability of the LC alignment upon the linearly polarized light exposure was also studied.

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에폭시 아크릴레이트를 이용한 감광성 폴리머 저항 페이스트 조성 (Compositions for Photosensitive Polymer Resistor Paste Using Epoxy Acrylates)

  • 김동국;박성대;이규복;경진범
    • 공업화학
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    • 제23권2호
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    • pp.157-163
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    • 2012
  • 6종의 에폭시 아크릴레이트와 전도성 카본블랙을 이용하여 감광성 저항 페이스트를 제작하고, 그들의 알칼리 수용액에 대한 현상성과 열경화 후 저항값을 평가하였다. 자외선에 의한 광경화성 및 알칼리 용액에 대한 현상성을 부여하기 위해서 카르복시기를 가진 에폭시 아크릴레이트 올리고머, 아크릴레이트 모노머, 광개시제 등이 사용되었다. 또한 열경화성 조성물을 얻기 위하여 유기 과산화물을 페이스트에 첨가하였다. 실험 결과, 올리고머의 종류에 따라서 일부 페이스트들은 현상이 되지 않았으며, 현상된 페이스트 중, 측정된 저항값은 동일한 카본블랙 함량에서도 페이스트 조성에 따라 다른 값들을 나타내었다. 최종적으로 최적의 올리고머를 선정하고, 카본블랙의 함량과 모노머의 종류, 경화 온도를 조절함으로써 약 0.5 $k{\Omega}/sq.$의 면저항을 나타내는 감광성 저항 페이스트 조성물을 얻을 수 있었다.

Effects of Oxygen on the Photochemical Behaviors of Methacrylic Homopolymer Containing Anthracene Groups

  • Kim, Yong-Woon;Chae, Kyu-Ho
    • Journal of Photoscience
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    • 제9권3호
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    • pp.57-63
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    • 2002
  • A homopolymer containing anthracene groups, poly[6-(9-anthryloxy)hexyl methacrylate] (PAn) was prepared and the effect of oxygen on its photochemical reaction was studied by UV and IR absorption spectroscopy in order to understand its photochemical behavior. Photochemical reaction of the PAn in THF solution under an atmosphere of air resulted in the formation of endoperoxide at the beginning stage of reaction followed by photodimerization reaction after all the oxygen was consumed, whereas photodimerization and endoperoxide formation took place concomitantly in the film state. The photoreversible reaction of the anthracene photodimer groups in the polymer by photolysis with 254 nm UV light was not efficient. The IR absorption spectral changes of the PAn film upon irradiation indicate that various photooxidation products were produced in the atmosphere of air.

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New Photopolymers Composed of Photoreactive Binder for Holographic Applications (I)

  • Choi, Dong-Hoon;Yoon, Han-Na;Yoon, Hyuk;Lee, Geon-Joon;Feng, De-jun;Kim, Jae-Hong;Paik, Sang-Hyun;Choi, Suk-Ho
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
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    • pp.230-233
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    • 2003
  • New photopolymers were designed and prepared using the photosensitive polymer binders. The photochemical reaction of the photosensitive polymer binder was studied by virtue of UV absorption and infrared spectroscopy. The holographic gratings were successfully fabricated in these photopolymer film samples by conventional optical interference method. We also investigated the effect of photocrosslink in the polymer binder on the diffraction behavior of the photopolymer. The dynamic behaviors of the grating formation were studied with the change of exposure intensity in terms of the diffraction efficiency. Particularly, we focused our efforts to observe the variation of the diffraction efficiency during post UV curing process.

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