• 한국레이저가공학회지
• /
• 제12권4호
• /
• pp.1-5
• /
• 2009

Conventional patterning based on wet-process for multi-layered film is a relatively complex and costly process though it is a necessary step for fabrication of TFT-LCD module. Recently, a direct pattering by laser has been studied because it is low cost and simple process compared to the wet process. In this work, the selective removal process of multi-layered film (polyimide/indium tin oxide/glass) is studied by modeling the thermal and mechanical behavior for multi-layered structure. Especially, the effects of thickness of polyimide layer are examined.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
• /
• pp.203-203
• /
• 2012

The SWCNTs network are formed on various plastic substrates such as poly(ethylene terephthalate) (PET), polyimide (PI) and soda lime glass using roll-to-roll printing and spray process. Selective patterning of carbon nanotubes film on transparent substrates was performed using a femtosecond laser. This process has many advantages because it is performed without chemicals and is easily applied to large-area patterning. It could also control the transparency and conductivity of CNT film by selective removal of CNTs. Furthermore, selective cutting of carbon nanotube using a femtosecond laser does not cause any phase change in the CNTs, as usually shown in focused ion beam irradiation of the CNTs. The patterned SWCNT films on transparent substrate can be used electrode layer for touch panels of flexible or flat panel display instead indium tin oxide (ITO) film.

• 한국광학회지
• /
• 제17권2호
• /
• pp.203-206
• /
• 2006

펨토초 레이저 펄스를 이용하여 Slide glass 위에 코팅된 Al 박막표면에 나노패턴 구조를 생성하였다. 생성된 나노패턴 구조의 공간적 주기는 레이저 강도와 펄스 수에 의존함을 확인하였고, 레이저 강도와 펄스 수를 미세하게 조절함으로써 Al 샘플 표면에 균일한 나노패턴을 형성 시킬 수 있다. 이와 같은 현상은 레이저 입사빔과 샘플 표면에서 산란되는 빛의 광학적 간섭에서 야기 된다. 또한, Al 박막표면 위에 형성된 산화막이 짧은 주기의 나노패턴을 형성하는데 중요한 역할을 수행하는 것을 확인하였다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2003년도 제25회 학술발표회 초록집
• /
• pp.163-163
• /
• 2003

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2003년도 제25회 학술발표회 초록집
• /
• pp.189-189
• /
• 2003

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
• /
• 한국정보디스플레이학회 2004년도 Asia Display / IMID 04
• /
• pp.592-594
• /
• 2004

We have investigated the photolithographic patterning method of light emitting polymer film for polymer light emitting diodes (PLEDs). Blue light emitting polymers based on polyfluorene, which can be cured photochemically to yield an insoluble form, have been synthesized using Ni(0) mediated Yamamoto polymerization. The relationship between patterning property and several variables such as the intensity of the exposed UV light, the concentrations of additives, has been studied by using optical microscope analysis, UV/visible spectroscopy, and photoluminescence. We have successfully fabricated PLEDs composed of the patterned emissive layer and their electroluminescence property has been also investigated. In this presentation, the detailed photolithographic patterning method and its application for polymer light emitting display will be discussed.

• 한국자기학회:학술대회 개요집
• /
• 한국자기학회 2002년도 동계연구발표회 논문개요집
• /
• pp.234-235
• /
• 2002

NdFeB 박막자석은 Sputtering, MBE, Laser ablation법에 의해 제조되고 있으며[1-3] milli-size motor[4], magnetic recording media[5], micro-patterning[3]등에 응용될 수 있다. 최근에는 MEMS(Micro-electro mechanical system)분야에서도 잠재적 응용가능성을 지니고 있는 것으로 알려져 있다. 최근에는 NdFeB 박막 제조 시 자성층의 산화방지 및 자기 특성을 향상을 위하여 buffer layer를 이용한 많은 연구가 이루어지고 있다.[6] (중략)

• 한국진공학회지
• /
• 제20권1호
• /
• pp.63-69
• /
• 2011

본 연구에서는 기존 실리콘 반도체 기술 기반의 포토 및 이빔 리소그래피 공정을 통하여 유기 반도체 소자를 패터닝하였다. P3HT나 PEDOT 등의 유기 반도체는 용매에 녹기 때문에 MIMIC (micro-molding in capillaries)이나 inkjet printing 기술을 이용하여 마이크로미터 크기의 소자 제작이 가능하였으나, 펜타신은 용매에 녹지 않기 때문에 매우 복잡한 방법으로 마이크로미터 크기의 소자를 제작하여왔다. 그러나, 본 연구에서는 원자층 증착 방법으로 증착한 산화 알루미늄막을 펜타신의 보호층으로 이용하여 기존의 포토 및 이빔 리소그래피 방법으로 마이크로미터크기의 펜타신 소자를 제작하였으며 그 전기 특성을 확인하였다.

• 마이크로전자및패키징학회지
• /
• 제27권3호
• /
• pp.73-76
• /
• 2020

은 나노와이어는 금속 특유의 고전도 특성, 낮은 Percolation threshold 및 고투과 특성을 나타내어 차세대 투명전극 물질로 각광받고 있다. 이를 플렉서블 및 웨어러블 디바이스, 전자피부 디바이스 등과 같은 다양한 분야에 활용하기 위해서는 은 나노와이어 전극을 필요한 형태로 패터닝 하기 위한 기술이 필수적으로 요구된다. 일반적으로, 은 나노와이어를 패터닝하기 위한 공법으로는 포토리소그래피 및 에칭, 프린팅, 레이저 Ablation 등을 들 수 있으나, 이러한 패터닝 기술들은 공정 절차가 복잡하거나 높은 공정 비용 등의 단점이 있다. 이에 본 연구에서는 UV-curable 점착제 기반의 low-cost 은 나노와이어 패터닝 공법을 개발하고자 하였다. 은 나노와이어 네트워크가 형성된 폴리우레탄 필름에 UV 경화형 테이프를 부착하고, UV를 선택적으로 조사한 뒤, 다시 UV 경화형 테이프를 벗겨내는 3단계의 간단한 공정만으로 은 나노와이어 패턴을 성공적으로 형성할 수 있었으며, 간단한 구현 원리 및 분석 결과를 본 논문에서 보고하고자 한다.

• 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
• /
• 한국신재생에너지학회 2007년도 추계학술대회 논문집
• /
• pp.281-284
• /
• 2007

Recently, we have developed p-i-n a-Si:H single junction thin film solar cells with RF (13.56MHz) plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) system, and also successfully fabricated the mini modules ($>300cm^2$), using the laser patterning technique to form an integrated series connection. The efficiency of a mini module was 7.4% ($Area=305cm^2$, Isc=0.25A, Voc=14.74V, FF=62%). To fabricate large area modules, it is important to optimise the integrated series connection, without damaging the cell. We have newly installed the laser patterning equipment that consists of two different lasers, $SHG-YVO_4$ (${\lambda}=0.532{\mu}m$) and YAG (${\lambda}=1.064{\mu}m$). The mini-modules are formed through several scribed lines such as pattern-l (front TCO), pattern-2 (PV layers) and pattern-3 (BR/back contact). However, in the case of pattern-3, a high-energy part of laser shot damaged the textured surface of the front TCO, so that the resistance between the each cells decreases due to an incomplete isolation. In this study, the re-deposition of SnOx from the front TCO, Zn (BR layer) and Al (back contact) on the sidewalls of pattern-3 scribed lines was observed. Moreover, re-crystallization of a-Si:H layers due to thermal damage by laser patterning was evaluated. These cause an increase of a leakage current, result in a low efficiency of module. To optimize a-Si:H single junction thin film modules, a laser beam profile was changed, and its effect on isolation of scribed lines is discussed in this paper.