• 한국정보통신학회논문지
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• 제8권4호
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• pp.821-825
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• 2004

본 연구는 에치스토퍼를 기존의 방식과 다르게 적용하여 수소화 된 비정질 실리콘 박막 트랜지스터의 제조공정을 단순화하고, 박막 트랜지스터의 게이트와 소오스-드레인간의 기생용량을 줄인다. 본 연구의 수소화 된 비정질 실리콘 박막 트랜지스터는 Inverted Staggered 형태로 게이트 전극이 하부에 있다. 실험 방법은 게이트전극, 절연층 , 전도층, 에치스토퍼 및 포토레지스터층을 연속 증착한다. 스토퍼층을 게이트 전극의 패턴으로 남기고, 그 위에 n+a-Si：H 층 및 NPR(Negative Photo Resister)을 형성시킨다. 상부 게이트 전극과 반대의 패턴으로 NPR층을 패터닝하여 그것을 마스크로 상부 n+a-Si：H 층을 식각하고, 남아있는 NPR층을 제거한다. 그 위에 Cr층을 증착한 후 패터닝하여 소오스-드레인 전극을 위한 Cr층을 형성시켜 박막 트랜지스터를 제조한다. 이렇게 제조하면 기존의 박막 트랜지스터에 비하여 특성은 같고, 제조공정은 줄어들며, 또한 게이트와 소오스-드레인간의 기생용량이 줄어들어 동작속도를 개선시킬 수 있다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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• pp.913-918
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• 2005

It is expected that the inkjet technology offers prospect for reliable and low cost manufacturing of FPD (Flat Panel Display). This inkjet technology also offers a more simplified manufacturing process for various part of the FPD than conventional process. For example, recently the novel manufacturing processes of color filter (C/F) in LCD, or RGB patterning in OLED by inkjet printing method have been developed. This elaborates will be considered as the precious point of manufacturing process for the mass production of enlarged-display panel with a low price. On this point of view, we would like to review the status of inkjet technology in FPD, with some results on forming micro line by inkjet patterning of suspension type silver nano ink as below. We have studied the inkjet patterning of synthesized aqueous silver nano-sol on interface-controlled ITO glass substrate. Furthermore, we designed the conductive ink for direct inkjet patterning on bare ITO glass substrate. The first, the highly concentrated polymeric dispersant-assisted silver nano sol was prepared. The high concentration of batch-synthesized silver nano sol was possible to 40 wt%. At the same time the particle size of silver nanoparticles was below $10{\sim}20nm$. The second, the synthesized silver nano sol was inkjet - patterned on ITO glass substrate. The connectivity and width of fine line depended largely on the wettability of silver nano sol on ITO glass substrate, which was controlled by surfactant. The relationship was understood by wetting angle. The line of silver electrode as fine as $50{\sim}100\;{\mu}m$ was successfully formed on ITO glass substrate. The last, the direct inkjet-patternable silver nano sol on bare ITO glass substrate was designed also.

• Journal of Korean Vacuum Science & Technology
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• 제3권1호
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• pp.79-84
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• 1999

the photolithographic patterning on an indium-tin oxide (ITO) glass and the electro-phoretic deposition were combined for preparing the screen of the full-color field emission display(FED). the patterns with a pixel of 400$\mu\textrm{m}$ on the ITO-glass were made by etching the ITO with well-prepared etchant consisting of HCL, H2O, and HNO3. Electrophoretic method was carried out in order to deposit each spherical red (R), green(G), and blue (B) phosphor on the patterned ITO-glass. The process parameters such as bias voltage, salt concentration, and deposition time were optimized to achieve clear boundaries. It was found that the etching process of ITO combined with electrophoretic method was cost-effective, provided distinct pattern, and even reduced process steps compared with conventional processes. The application of reverse bias to the dormant electrodes while depositing the phosphors on the stripe pattern was found to be very critical for preventing the cross-contamination of each phosphor in a pixel.

• 한국추진공학회:학술대회논문집
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• 한국추진공학회 2007년도 제28회 춘계학술대회논문집
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• pp.91-94
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• 2007

마이크로 고체 추진제 추력기의 점화 시스템의 제작 및 점화 실험에 관한 연구 결과를 기술하겠다. 유리 박막 마이크로 백금 점화기는 일반적인 금속 박리 공정과 감광 유리 제작 공정을 이용하여 제작되었다. 백금 층의 두께는 $2000{\AA}$, 점화기 패턴의 폭은 $40{\mu}m$ 였다. 제작된 유리 박막의 두께는 $15{\mu}m$, 유리 박막의 지름은 1 mm 였다. HTPB/AP 추진제를 이용하여 점화 실험을 수행하였다. 12 V의 전압을 사용한 경우, 점화 지연 시간은 1.6 s 였으며 이 때의 점화 에너지는 1.4 J로 측정되었다.

• 한국소음진동공학회:학술대회논문집
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• 한국소음진동공학회 2013년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.809-809
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• 2013

We report a new method for highly controllable local patterning of a hydrogel on microfabricated cantilevers and fabrication of all hydrogel microcantilevers. We constructed a dynamic mask based photolithography setup using a commercial beam projector, a 3-axis microstage and other optical components. Dynamic masks generated from the beam projector controlled the shape, size, and position of hydrogel patterns while the 3-axis microstage mainly controlled the thickness of hydrogel patterns and hydrogel microcantilevers. Using the constructed setup, polyethyleneglycol diacrylate (PEGDA) was patterned on microfabricated cantilevers in a highly controlled manner. Currently, the smallest PEGDA patternable is a 5-${\mu}m$-diameter circle with a thickness of ~$10{\mu}m$. To confirm thicknesses of patterned PEGDAs on silicon microcantilevers, resonance frequencies of microcantilevers were measured before and after each PEGDA patterning. Thicknesses extracted from resonance measurements showed good agreement with measurements using an optical microscope. In addition, PEGDA microcantilevers with various dimensions and thicknesses were fabricated on glass and silicon substrates. Surfaces of fabricated all hydrogel microcantilevers were flat enough to facilitate other post processing and to be used for various sensing applications.

• 한국정밀공학회지
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• 제19권1호
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• pp.196-203
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• 2002

Generally, non-uniformity and removal rate are important factors on measurements of both wafer and die scale. In this study, we verify the effects of the pressure and relative velocity on the results of the chemical mechanical polishing and the effect of pattern density on inter layer dielectric chemical mechanical polishing of patterned wafer. We suggest an appropriate modeling equation, transformed from Preston\`s equations which was used in glass polishing, and simulate the removal rate of patterned wafer in chemical mechanical polishing. Results indicate that the pressure and relative velocity are dominant factors for the chemical mechanical polishing and pattern density effects on removal rate of pattern wafers in die scale. The modeling is well agreed to middle and low density structures of the die. Actually, the die used in Fab. was designed to have an appropriate density, therefore the modeling will be suitable for estimating the results of ILD CMP.

• 한국정밀공학회지
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• 제23권8호
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• pp.178-184
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• 2006

Hot embossing is to fabricate desired pattern on the polymer substrate by pressing the patterned mold against the substrate which is heated above the glass transition temperature, and it is a high throughput fabrication method for bio chip, optical microstructure, etc. due to the simultaneous large area patterning. However, the bad pattern fidelity in large area patterning is one of the obstacles to applying the hot embossing technology for mass production. In the present study, PDMS pad was used as a cushion on the backside of the micro-patterned 4 inch Si mold to improve the pattern fidelity over the 4 inch PMMA sheet by increasing the conformal contact between the Si mold and the PMMA sheet. The pattern replicability improvement over 4 inch wafer scale was evaluated by comparing the replicated pattern height and depth for PDMS-cushioned Si mold against the rigid Si mold without PDMS cushion.

• 한국자기학회지
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• 제17권4호
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• pp.172-177
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• 2007

셀(cell) 단위의 생체분자의 자성특성 검출을 위한 거대자기저항-스핀밸브(giant magnetoresistance-spin valves; GMR-SV) 바이오센서로서 미세 패턴된 모양에 따라 길이 방향과 폭 방향 용이축에 의존하는 자기저항 특성을 연구하였다. 바이오센서(biosensor)로서 사용할 스핀밸브 다층구조는 glass/NiO/NiFe/CoFe/Cu/CoFe/NiFe 이었다. 자성 다층박막의 일축이방성을 만들기 위해 증착시와 소자 패턴닝 후 진공 열처리를 $200^{\circ}C$에서 300 Oe 정도 외부자기장을 인가하였다. 형상자기이방성 효과를 고려하여 광 리소그래피 과정으로 얻은 미세 활성영역 패턴 사이즈는 $2{\times}5{\mu}m^2$로 정하였다. 2단자법으로 길이방향의 센싱전류와 폭 방향의 고정층의 용이축 방향 각도에 의존하는 자장민감도의 변화는 바이오센서 소자로서 활용에 중요한 요인임을 확인하였다.

• 감성과학
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• 제26권4호
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• pp.71-92
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• 2023

본 연구의 목적은 구슬 문양 디자인의 상징성과 의미 및 신라문화와의 연관성, 유리구슬 제조의 제반 여건을 조사하여 예술성과 기술성이 뛰어난 신라 인면 상감 유리구슬의 신라 자체 제작설을 검증하는 것이다. 연구방법으로는 디자인 분석 이외에 고문헌과 신화, 유리 유물, 유리 및 금속의 생산기술, 실크로드 교차로의 특성 등을 조사하였으며 홍산문화 유물, 다른 상감 유리구슬의 사례들을 수집하였다. 마한, 부여, 신라인은 구슬을 보배로 삼고 장신구에 애용하였는데, 구슬 속의 인면상 상투와 금관장식, 새와 꽃나무의 모든 디자인 요소가 김알지, 김수로, 박혁거세, 주몽 등 위인들의 난생설화, 북방의 새 및 신수 숭상 등과 밀접하였고, 디자인 요소와 배치가 신라의 다른 유물에서도 동일하게 표현되고 있음을 확인하였다. 구슬과 인면상의 기원은 홍산문화였으며 하가점하층문화의 고조선 북표에서는 구슬용 석범이 발견되었다. 또 경주 식리총의 상감 유리구슬과 일본 토간모리 고분의 인면 상감 유리구슬의 출토는 신라 자체 제작설을 확증시켜주는 것이다. 백제인이 5세기 일본에 유리구슬 제작소를 둔 사실은 신라인이 인도네시아 자바에도 제작소를 두었음을 의미한다. 신라와 밀접한 관계였던 인도네시아 자바는 신라의 해상실크로드 교차로, 원석 및 노동력 제공지이고 유리구슬의 소비 지역이나 기원지는 아니었다. 이에 구슬에 대한 신화와 전통을 보유하고 머리에 상투와 금관을 착용하였으며, 금속 및 상감 기술 등 난이도 높은 기술을 보유했던 신라가 자체 제작한 것이 틀림없다.

• 한국표면공학회지
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• 제46권3호
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• pp.99-104
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• 2013

The simple and cost-effective microfabrication method of photosensitive glass (PSG) using metal patterning and blank exposure was proposed. Conventional photolithography for micromachining of PSG needs a costly quartz mask which has high transmittance as an optical property. However, in this study the process was improved through the combination of micro-patterned Ti thin film and blank UV exposure without quartz mask. The effect of UV exposure time as well as the DHF etching condition was investigated. UV exposure test was performed within the range from 3 min to 9 min. The color and etch result of PSG exposed for 5 min were the most clear and effective to etch more precisely, respectively. The etching results of PSG in diluted hydrofluoric acid (DHF) with a concentration of 5, 10, 15 vol% were compared. The effect on the side etch was insignificant while the etch rate was proportional as the concentration increased. 10 vol% DHF results not only high etch rate of 75 ${\mu}m/min$ also lower side etch value after PSG etching. This method facilitates the microfabrication of PSG with various patterns and high aspect ratio for applying to advanced applications.