• 제목/요약/키워드: PZT Wafer

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박막형 압전재료 3203HD의 재료 비선형성을 고려한 바이모프 보 작동기의 비선형 유한 요소해석 (Finite element analysis of the PZT 3203HD bimorph beam actuator based on material non-linear characteristics)

  • 장성훈;김영성;이상기;박훈철;윤광준
    • 한국항공우주학회지
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    • 제32권4호
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    • pp.18-23
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    • 2004
  • 본 논문에서는 고 전압, 고 응력 하에 있는 압전 재료의 재료 비선형 거동을 실험적으로 밝히고, 수치적으로 모사하였다. 응력 하에서, 압전 재료의 비선형 거동을 표현 할 수 있는 실험식을 압전 변형율에서 만들어 내었다. 그 식은 재료 비선형 해석을 위하여, 증분 형태의 유한요소 식에 적용되었다. 압전 상수에 대한 새로운 정의와 증분 형태로 표현된 압전 변형율이 보다 나은 비선형 거동의 복원을 위하여 유한 요소 정식화과정에 적용되었다. 이것으로, 높은 전기장 영역에서도, 박판형 압전 재료의 비선형 거동을 정확하게 복원하였다. 일련의 수행된 실험과 연구 과정의 검증을 위하여, 압전재료 바이모프 보 작동기가 수치적으로와 실험적으로 사용되었다. 재료 비선형 유한요소해석으로 예측된 변위와 실험으로 구해진 변위가 잘 일치함을 확인하였다.

인장하중을 받을 때 PZT 웨이퍼의 크립 거동: 실험과 모델링 (Creep Behavior of a PZT Wafer Under Tensile Stress: Experiments and Modeling)

  • 김상주;이창환
    • 대한기계학회논문집A
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    • 제34권1호
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    • pp.61-65
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    • 2010
  • 두께방향으로 분극처리되어 있는 상업용 PZT 웨이퍼가 폐쇄회로와 개방회로의 두 가지 전기적 경계조건에서 길이 방향으로 일정한 크기의 인장하중을 받는다. 하중과정 동안 두께 방향으로의 전기밀도와 평면내 변형률의 시간에 따른 변화를 측정한다. 두 가지 전기적 경계조건에서의 서로 다른 거동 특성을 시편 내부에서 발생하는 전기장과 분극역전 현상으로 설명한다. 마지막으로 관측된 크립 거동을 예측하기 위한 정규분포 형식을 가지는 자유 에너지 함수를 도입하고 모델의 예측과 실험결과를 비교한다.

판구조물에 부착된 압전소자의 전기역학적 어드미턴스 스펙트럼 요소 해석 (Spectral Element Analysis for the Electro-Mechanical Admittance of a Piezoelectric Wafer Bonded on a Plate)

  • 김은진;손훈;박현우
    • 한국전산구조공학회:학술대회논문집
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    • 한국전산구조공학회 2009년도 정기 학술대회
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    • pp.239-242
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    • 2009
  • 구조물의 표면에 부착된 압전소자(이하 PZT)의 전기역학적 어드미턴스(Electro-mechanical admittance)는 PZT와 구조물의 상호작용에 의해 발생하는 PZT의 압전효과와 유전성(dielectric)이 결합되어 발생되는 신호이다. 고주파수 대역에서 PZT의 전기역학적 어드미턴스는 구조물의 국부손상에 민감하게 반응하는 것으로 알려져 있다. 실험에서 측정된 PZT의 전기역학적 어드미턴스 분석에 널리 쓰이는 Liang 모델은 구조물을 단자유도계로 단순화하여 구조물의 동적특성이 전기역학적 어드미턴스에 미치는 영향을 정확하게 나타내기 어렵다. 유한요소법을 통해 PZT와 구조물의 상호작용을 해석하면 이러한 문제점을 해결할 수 있다. 그러나 고주파 대역에서 정확한 해석을 위해서는 유한요소망을 조밀하게 구성해야 하므로 많은 계산비용이 수반된다. 이 연구에서는 유한요소법과 비교하여 월등히 적은 계산비용으로 고주파 대역의 동적 응답을 매우 정확하게 모사할 수 있는 스펙트럼 요소법(Spectral Element Method ; 이하 SEM)을 통해 판구조물에 부착된 PZT의 전기-역학적 어드미턴스를 해석한다. 수치 예제 및 실험 예제를 통하여 내민보에 부착된 PZT에서 발생하는 전기-역학적 어드미턴스를 취득하고 이를 SEM해석 결과와 비교한다.

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이종접합 SrBi$_2Ta_2O_9$/Pb(Zr,Ti)O$_3$박막 케패시터의 강유전 특성 (Ferroelectric Properties of Hetero-Junction SrBi$_2Ta_2O_9$/Pb(Zr,Ti)O$_3$)

  • 이광배;김종탁
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 1997년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.217-221
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    • 1997
  • We have investigated the ferroelectric properties of multi-layered SrBi$_2$Ta$_2$$O_{9}$Pb(Zr,Ti)O$_3$, SBT/PZT, thin film capacitors. Specimens were prepared onto Pt-coated Si wafer by sol-gel method. Ferroelectric properties of these finns could be obtained only for thin SBT layers below 50nm in thickness. The values of dielectric constant and remnant polarization depend mainly on the thickness of SBT layer, which arises from the paraelectric interface layer between SBT and PZT due to the thermal diffusion of Pb. The value of remnant poarization of PZT/SBT is greater than that of SBT, and the plarization fatigue behaviors of PZT/SBT/Pt capacitors are somewhat improved as compared with those of PZT/Pt.t.

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CMP 공정후 세정공정 여부에 따른 $Pb(Zr,Ti)O_3$ 박막 캐패시터의 피로 특성 (Fatigue Properties of $Pb(Zr,Ti)O_3$ Thin Film Capacitor by Cleaning Process in Post-CMP)

  • 전영길;김남훈;이우선
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2006년도 추계학술대회 논문집 Vol.19
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    • pp.139-140
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    • 2006
  • PZT박막은 비휘발성 재료로 유전율이 높고 항전력이 작으면서 잔류 분극랑이 크기 때문에 적합한 특성을 가지고 FeRAM에 매력적인 물질이다. CMP(chemical mechanical polishing)는 기존의 회생막의 전면 식각 공정과는 달리 특정 부위의 제거 속도를 조절함으로써 평탄화 하는 기술로 wafer 전면을 회전하는 탄성 패드 사이에 액상의 Slurry를 투입하여 연마하는 기술이다. 본 논문에서는 CMP 공정으로 제조한 PZT박막 캐패시터에서 CMP 후처리공정(세척)의 유무 및 종류에 따라 피로특성에 대하여 연구하였다, PZT 박막의 캐패시터의 피로 특성을 연구한 결과 CMP 후처리공정 SC-l용액을 사용하여 세정공정을 하였을때 가장 향상된 PZT 캐패시터의 피로특성이 나타났다.

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플라스틱 기판위의 기계적으로 유연성을 가진 PZT 박막 (Mechanically Flexible PZT thin films on Plastic Substrates)

  • 노종현;안종현;안정호;이내응;김상진;이환수
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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    • pp.13-13
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    • 2009
  • We have investigated the fabrication and properties of bendable PZT film formed on plastic substrates for the application in flexible memory. These devices used the PZT active layer formed on $SiO_2/Si$ wafer by sol-gel method with optimized device layouts and Pt electrodes. After etching Pt/PZT/Pt layers, patterned by photolithography process. these layers were transferred on PET plastic substrate using elastomeric stamp. The level of performance that can be achieved approaches that of traditional PZT. devices on rigid bulk wafers.

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A High-Speed Single Crystal Silicon AFM Probe Integrated with PZT Actuator for High-Speed Imaging Applications

  • Cho, Il-Joo;Yun, Kwang-Seok;Nam, Hyo-Jin
    • Journal of Electrical Engineering and Technology
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    • 제6권1호
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    • pp.119-122
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    • 2011
  • A new high speed AFM probe has been proposed and fabricated. The probe is integrated with PZT actuated cantilever realized in bulk silicon wafer using heavily boron doped silicon as an etch stop layer. The cantilever thickness can be accurately controlled by the boron diffusion process. Thick SCS cantilever and integrated PZT actuator make it possible to be operated at high speed for fast imaging. The resonant frequency of the fabricated probe is 92.9 kHz and the maximum deflection is 5.3 ${\mu}m$ at 3 V. The fabricated probe successfully measured the surface of standard sample in an AFM system at the scan speed of 600${\mu}m$/sec.

압전 세라믹의 재료 비선형성을 고려한 LIPCA 작동기의 성능 해석 (Performance Analysis of LIPCA Actuator considering Material Non-linearity of embedded PZT wafer)

  • 이상기;김영성;박훈철;윤광준;구남서;조창민
    • 한국항공우주학회지
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    • 제32권3호
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    • pp.37-44
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    • 2004
  • 본 논문에서는 압전재의 재료 비선형성을 고려한 경량 압전 복합재 작동기(LIPCA)의 성능 해석을 수행하였다. 성능 해석을 위해 9절점 쉘 요소 정식화에 바탕을 둔 압전 쉘 요소를 이용하였다. LIPCA의 작동 변위를 보다 정확히 예측하기 위하여, 실험을 통해 얻은 압전 변형률 함수와 증분 정식화를 추가하여 기존 선형 유한요소 프로그램을 수정하였다. 이렇게 개발된 재료 비선형 압전 옐 프로그램을 이용하여 LIPCA의 작동변위를 재 계산하였고, 재료 비선형 해석으로 얻은 작동 변위가 선형 해석으로 계산된 작동 변위 보다 측정 변위에 훨씬 근접함을 확인하였다.

Ru/$RuO_2$ 하부전극에 성장한 PZT 박막의 전기적 특성 연구 (Electrodic properties of PZT thin films growed on Ru/$RuO_2$ bottom eletrode)

  • 최장현;강현일;김응권;박영;송준태
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2002년도 춘계학술대회 논문집 유기절연재료 전자세라믹 방전플라즈마 일렉트렛트 및 응용기술
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    • pp.58-62
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    • 2002
  • Pb($Zr_{0.52}Ti_{0.48}$)$O_3$ (PZT) thin films deposited on the Pt/Ti and Ru/$RuO_2$ bottom electrode by rf magnetron sputtering methode. Ru/$RuO_2$ bottom electrode deposited on the p-type wafer as Ru thickness by in-situ process. Our results show that all PZT films indicated perovskite polycrystalline structure with perferred orientation (110) and no pyrochlore phase is observed. A well-fabricated $RuO_2$/PZT/Ru(100nm)/$RUO_2$ capacitor showed a leakage current density in the order of $2.13{\times}10^{-7}A/cm^2$ as 100 kV/cm, a remanent polarization of 7.20 ${\mu}C/cm^2$, and a coercive field of 58.37 kV/cm. The results show that the new Ru/$RuO_2$ bottom electrodes are expected to reduce the degradation ferroelectric fatigue and excellent ferroelectric properties.

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RF 스위치 적용을 위한 박막 PZT 엑추에이터의 $d_{31}$ 구동과 $d_{33}$ 구동 특성 비교 (Comparison between $d_{31}\;and\;d_{33}$ actuation characterization of the PZT micro-actuator for RF MEMS switch)

  • 신민재;서영호;최두선;황경현
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
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    • 한국정밀공학회 2006년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.467-468
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    • 2006
  • In this work, we present the comparison between $d_{31}\;and\;d_{33}$ mode characterization using the PZT micro-actuator for large displacement. The PZT micro-actuator consisted of Si, PZT, and Pt layer on SOI wafer. The electrode shapes were laminated and interdigitated for $d_{31}\;and\;d_{33}$ mode, respectively. In order to characterize the actuation mode, we measured the displacement using laser interferometer. The maximum displacement of d31 mode was $12.2{\mu}m$ at 10V, the actuation characterization of d31 was better than that of d33 mode. We estimated that displacement of d33 mode would be larger than that of d31 above 30V.

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