We investigate the influence of the ambient gas during thermal annealing on the photoluminescence (PL) properties of europium-silicate thin films. The films were fabricated on substrates by using a radio-frequency magnetron sputtering method and subsequent rapid thermal annealing (RTA). The mechanism for the formation of the europium silicates during the annealing process was investigated by using X-ray diffraction (XRD) spectroscopy, Auger electron spectroscopy (AES) and transmission electron microscopy (TEM). A series of narrow PL spectra from $Eu^{3+}$ ions was observed from the film annealed in $O_2$ ambient. Broad PL spectra associated with $Eu^{2+}$ ions, with a maximum intensity at 600 nm and a FWHM of 110 nm, were observed from the thin film annealed at $1000^{\circ}C$ in $N_2$ ambient.
Conjugated nanocrystals using CdSe/ZnS core/shell nanocrystal quantum dots modified by organic linkers and glucose oxidase (GOx) were prepared for use as biosensors. The trioctylphophine oxide (TOPO)-capped QDs were first modified to give them water-solubility by terminal carboxyl groups that were bonded to the amino groups of GOx through an EDC/NHS coupling reaction. As the glucose concentration increased, the photoluminescence intensity was enhanced linearly due to the electron transfer during the enzymatic reaction. The UV-visible spectra of the as-prepared QDs are identical to that of QDs-MAA. This shows that these QDs do not become agglomerated during ligand exchanges. A photoluminescence (PL) spectroscopic study showed that the PL intensity of the QDs-GOx bioconjugates was increased in the presence of glucose. These glucose sensors showed linearity up to approximately 15 mM and became gradually saturated above 15 mM because the excess glucose did not affect the enzymatic oxidation reaction past that amount. These biosensors show highly sensitive variation in terms of their photoluminescence depending on the glucose concentration.
Hot wall epitaxy법에 의하여 GaAs(100)aus 위에 ZnS-ZnSe 초격자를 성장하였다. ZnS-ZnSe 초격자의 주기는 x-선 회절 패턴에 의하여 확인되었고 이것은 변형을 고려하고 계산된 이론적인 패턴과 비교되었다. 경계면에 평행한 ZnS와 ZnSe의 변형의 비는 ZnSe에 대하여 ZnS의 두께기 증가할수록 감 소되었다. ZnS-ZnSe 초격자의 photoluminescence(PL)는 고에너지 영역의 예리한 스펙트럼과 저에너지 영역의 폭이 넓은 스펙트럼으로 구성되어있다. PL의 광자에너지는 Kronig-Penney 모델을 사용하여 계 산된 이론적인 에너지 값과 비교한 결과 type I의 초격자임을 알았다.
ZnO thin films on (100)p-type silicon substrates have been deposited by pulsed laser deposition(PLD) technique using an Nd:YGA laser with a wavelength of 266nm. The influence of the deposition parameters, such as oxygen pressure, substrate temperature and laser energy density variation on the properties of the grown film, was studied. The experiments were performed for substrate temperatures in the range of $200{\sim}500^{\circ}C$ and oxygen pressure in the range of $10^{-2}{\sim}10^2mTorr$. We investigated the structural, morphological and optical properties of ZnO thin films using X-ray diffraction(XRD), atomic force microscopy(AFM), photoluminescence(PL).
1-(9,9-Di-octyl-fluorenyl)-2-substituted-2-cyanvinylene was synthesized and emission feature in solution are presented. Photoluminescence characteristics of 1-(9,9-Di-octyl-fluorenyJ)-2-substituted-2-cyanvinylene are measured by solvents such as carbon tetrachloride, normal hexane, chloroform, ethylaccetate, acetonitrile, methanol. It is shown that depending in the strength of the donor-acceptor internal charge transfer, and emission spectra are more or less red-shifted.
한국정보디스플레이학회 2008년도 International Meeting on Information Display
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pp.561-564
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2008
$Ba_{1-x}M_xGa_2S_4:Eu^{2+}$ (M = Ca, Sr) phosphor was prepared for white light emitting diodes application. Photoluminescence (PL) emission and excitation bands were red-shifted with increase of Ca and Sr content due to the crystal field effect. Moreover, the PL intensity under 450 nm was increased by substitution of Ca and Sr.
The $AgInS_2$ epilayers with chalcopyrite structure grown by using a hot-wall epitaxy (HWE) method have been confirmed to be a high quality crystal. After the as-grown $AgInS_2$/GaAS was annealed in Ag-, S-, and In-atmosphere, the origin of point defects of the $AgInS_2$/GaAs has been investigated by using the photoluminescence (PL) at 10 K. The native defects of $V_{Ag}$, $V_s$, $Ag_{int}$, and $S_{int}$ obtained from PL measurement were classified to donors or acceptors type
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제2권2호
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pp.16-20
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2001
Optoelectronic characteristics of the superlattice diode as a function of deposition temperature and annealing conditions have been studied. The multilayer nanocrystalline silicon/adsorbed oxygen (nc/Si/O) superlattice formed by molecular beam epitaxy (MBE) system. Experimental results showed that deposition temperature of 550$^{\circ}C$, followed by hydrogen annealing leads to best results, in terms of optical photoluminescence (PL) and electrical current-voltage (I-V) characteristics. Consequently, the experimental results of multilayer Si/O superlattic device showed the stable photoluminescence and good insulating behavior with high breakdown voltage. This is very useful promise for Si-based optoelectronic devices, and can be readily integrated with conventional silicon ULSI processing.
Park, Sunghoon;Ko, Hyunsung;Mun, Youngho;Lee, Chongmu
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제34권11호
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pp.3367-3371
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2013
MgO nanorods were fabricated by the thermal evaporation of $Mg_3N_2$. The influence of ZnO sheathing and hydrogen plasma exposure on the photoluminescence (PL) of the MgO nanorods was studied. PL measurements of the ZnO-sheathed MgO nanorods showed two main emission bands: the near band edge emission band centered at ~380 nm and the deep level emission band centered at ~590 nm both of which are characteristic of ZnO. The near band edge emission from the ZnO-sheathed MgO nanorods was enhanced with increasing the ZnO shell layer thickness. The near band edge emission from the ZnO-sheathed MgO nanorods appeared to be enhanced further by hydrogen plasma irradiation. The underlying mechanisms for the enhancement of the NBE emission from the MgO nanorods by ZnO sheathing and hydrogen plasma exposure are discussed.
Highly c-axis oriented ZnO thin films were grown on Si(100)substrates with Zn buffer layers. Effects of the Zn buffer layer thickness on the structural and optical qualities of ZnO thin films were investigated using X-ray diffraction (XRD), photoluminescence (PL) and Atomic force microscopy (AFM) analysis techniques. It was confirmed that the quality of a ZnO thin film deposited by rf magnetron sputtering was substantially improved by using a Zn buffer layer. The highest ZnO film quality was obtained with a Zn buffer layer 110 nm thick. The surface roughness of the ZnO thin film increases as the Zn buffer layer thickness increases.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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