We examined characterizations of Paraloid B72 films when it dissolved in four different solvents-acetone, MEK, toluene and xylene. The surface before and after coating were observed by optical microscope and AFM. Thickness and contact angle of films was measured and surface energy was calculated for grasping properties of films. We also tested adhesive strength of films by scratch tester and durability of films by performing yellowing test. The result was that xylene has better coating property than other solvents. Because 10% Paraloid B72 in xylene film is even, non-mottled, thin, stabilized in yellowish and has proper hydrophobic, we confirmed xylene is good solvent for bronze artifact conservation. However, other tests will need for finding appropriate concentration of Paraloid B72.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2003.11a
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pp.154-154
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2003
A stoichiometric mixture of evaporating materials for CuGaSe2 single crystal thin films was prepared from horizontal electric furnace. Using extrapolation method of X-ray diffraction patterns for the polycrystal CuGaSe2, it was found tetragonal structure whose lattice constant at and co were 5.615 ${\AA}$ and 11.025 ${\AA}$, respectively. To obtain the single crystal thin films, CuGaSe2 mixed crystal was deposited on thoroughly etched semi-insulating GaAs(100) substrate by the hot wall epitaxy (MWE) system. The source and substrate temperatures were Slot and 450$^{\circ}C$, respectively. The crystalline structure of the single crystal thin films was investigated by the photoluminescence and double crystal X-ray diffraction (UXD). The carrier density and mobility of CuGaSe2 single crystal thin films measured with Hall effect by van der Pauw method are 5.0l${\times}$10$\^$17/ cm$\^$-3/ and 245 $\textrm{cm}^2$/V$.$s at 293K, respectively. The temperature dependence of the energy band gap of the CuGaSe2 obtained from the absorption spectra was well described by the Varshni's relation, Eg(T) = 1.7998 eV - (8.7489${\times}$10$\^$-4/ eV/K)T$^2$/(T + 335 K. After the as-grown CuGaSe2 single crystal thin films was annealed in Cu-, Se-, and Ca-atmospheres, the origin of point defects of CuGaSe2 single crystal thin films has been investigated by the photoluminescence(PL) at 10 K The native defects of V$\_$CU/, V$\_$Se/, Cu$\_$int/, and Se$\_$int/ obtained by PL measurements were classified as a donors or accepters type. And we concluded that the heat-treatment in the Cu-atmosphere converted CuGaSe2 single crystal thin films to an optical n-type. Also, we confirmed that Ga in CuGaSe2/GaAs did not form the native defects because Ga in CuGaSe2 single crystal thin films existed in the form of stable bonds.
Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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v.24
no.2
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pp.106-112
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2010
In order to compete with other flat display devices such as Liquid Crystal Displays (LCDs) and organic light emitting diodes (OLEDs), Plasma Display Panels (PDPs) require to have high performances like high image quality, low power consumption and high speed driving. In this paper, Fe doped MgO protective layer was introduced for higher performance. Both the surface characteristics of the deposited thin films and the electro-optical properties of 4 inch test panels were investigated. It has been demonstrated experimentally that ac PDP with Fe doped MgO protective layer has lower discharge voltage than that of undoped MgO film, which corresponds to measured secondary electron emission coefficients. The crystallinity and surface roughness of thin films were determined by XRD patterns and AFM images. In addition, ac PDP with Fe doped MgO protective layer has improved address discharge time lag for high speed driving.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers P
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v.64
no.3
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pp.182-186
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2015
We investigated that effects of annealing ambient on the characteristics of functional nano thin film synthesized on glass substrate. The functional nano thin films were annealed by using rapid thermal annealing (RTA) equipment in vacuum, oxygen and nitrogen ambient, respectively. The hardness of the functional nano thin films were measured by a standard hardness testing method (ASTM D3363) such as a H-9H, F, HB and B-6B pencil (Mitsubishi, Japan). Also, the adhesion of the functional nano thin films were measured by a standard adhesion testing method (ASTM D3359) using scotch tape (3M, Korea). The contact angle of the functional nano thin films was measured by a contact angle analyzer (Phoenix 300 Touch, S.E.O.). The optical property of functional nano thin films was measured via UV-visible spectroscopy (S-3100, Scinco).
Recently, thin-film solar cells of Cu(In,Ga)$Se_2$(CIGS) have reached a high level of performance, which has resulted in a 19.9%-efficient device. These conventional devices were typically fabricated using chemical bath deposited CdS buffer layer between the CIGS absorber layer and ZnO window layer. However, the short wavelength response of CIGS solar cell is limited by narrow CdS band gap of about 2.42 eV. Taking into consideration the environmental aspect, the toxic Cd element should be replaced by a different material. It is why during last decades many efforts have been provided to achieve high efficiency Cd-free CIGS solar cells. In order to alternate CdS buffer layer, ZnS buffer layer is grown by using chemical bath deposition(CBD) technique. The thickness and chemical composition of ZnS buffer layer can be conveniently by varying the CBD processing parameters. The processing parameters were optimized to match band gap of ZnS films to the solar spectrum and exclude the creation of morphology defects. Optimized ZnS buffer layer showed higher optical transmittance than conventional thick-CdS buffer layer at the short wavelength below ~520 nm. Then, chemically deposited ZnS buffer layer was applied to CIGS solar cell as a alternative for the standard CdS/CIGS device configuration. This CIGS solar cells were characterized by current-voltage and quantum efficiency measurement.
The unintentionally doped and bismuth (Bi) doped zinc oxide (ZnO) films were prepared by spray pyrolysis at $450^{\circ}C$ with zinc acetate and bismuth nitrate precursor. The n-type conduction with concentration $6.13{\times}10^{16}cm^{-3}$ can be observed for the unintentionally doped ZnO. With the increasing of bismuth nitrate concentration in precursor, the p-type conduction can be observed. The p-type concentration $4.44{\times}10^{17}cm^{-3}$ can be achieved for the film with the Bi/Zn atomic ratio 5% in the precursor. The photoluminescence spectroscopy with HeCd laser light source was studied for films with different Bi doping. The photocatalytic activity for the unintentionally doped and Bi-doped ZnO films was studied through the photodegradation of Congo red under UV light illumination. The effects of different Bi contents on photocatalytic activity are studied and discussed. Results show that appropriate Bi doping in ZnO can increase photocatalytic activity.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2006.11a
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pp.125-126
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2006
The stochiometric mix of evaporating materials for the $CdGa_2Se_4$ single crystal thin films was prepared from horizontal furnace. To obtain the single crystal thin films. $CdGa_2Se_4$ mixed crystal was deposited on thoroughly etched semi-insulating GaAs(100) substrate by the Hot Wall Epitaxy (HWE) system. The source and substrate temperature were $630^{\circ}C$ and $420^{\circ}C$, respectively. The crystalline structure of single crystal thin films was investigated by the photoluminescence and double crystal X-ray diffraction (DCXD). The carrier density and mobility of $CdGa_2Se_4$ single crystal thin films measured from Hall effect by van der Pauw method are $8.27{\times}10^{17}cm^{-3}$. $345cm^2/V{\cdot}s$ at 293 K, respectively. From the photoluminescence measurement on $CdGa_2Se_4$ single crystal thin film, we observed free excition ($E_x$) existing only high quality crystal and neutral bound exiciton ($D^{\circ},X$) having very strong peak intensity. Then. the full-width-at -half-maximum(FWHM) and binding energy of neutral donor bound excition were 8 meV and 13.7 meV, respectivity. By Haynes rule. an activation energy of impurity was 137 meV.
$Dy^{3+}$ and $Eu^{3+}$-codoped $SrWO_4$ phosphor thin films were deposited on sapphire substrates by radio frequency magnetron sputtering by changing the growth and thermal annealing temperatures. The results show that the structural and optical properties of the phosphor thin films depended on the growth and thermal annealing temperatures. All the phosphor thin films, irrespective of the growth or the thermal annealing temperatures, exhibited tetragonal structures with a dominant (112) diffraction peak. The thin films deposited at a growth temperature of $100^{\circ}C$ and a thermal annealing temperature of $650^{\circ}C$ showed average transmittances of 87.5% and 88.4% in the wavelength range of 500-1100 nm and band gap energy values of 4.00 and 4.20 eV, respectively. The excitation spectra of the phosphor thin films showed a broad charge transfer band that peaked at 234 nm, which is in the range of 200-270 nm. The emission spectra under ultraviolet excitation at 234 nm showed an intense emission peak at 572 nm and several weaker bands at 479, 612, 660, and 758 nm. These results suggest that the $SrWO_4$: $Dy^{3+}$, $Eu^{3+}$ thin films can be used as white light emitting materials suitable for applications in display and solid-state lighting.
Park Sung-Chan;Bae Chang-Hyun;Park Seung-Min;Ha Joeng-Sook
Journal of the Korean Vacuum Society
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v.15
no.4
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pp.427-433
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2006
We have fabricated nanodot arrays by using phase separated (PS- b- PMMA) diblock copolymer film and anodic aluminum oxide (AAO) membrane as templates with hexagonal arrays of cylindrical microdomains perpendicular to the substrate. Pulsed laser deposition technique was used to deposit various kinds of materials including Ag, Ni, ZnO, Si:Er, and Co/Pt onto Si substrates. The size and separation of nanodots correspond to those of the templates used, The density of nanodots was estimated to be $6{\times}10^{11}/cm^2$ and $1{\times}10^{10}/cm^2$ when the diblock copolymer and AAO were used, respectively. In particular, the optical properties of ZnO and Si: Er nanodot arrays were investigated and the strong photoluminescence at 380 nm and $1.54{\mu}m$ was observed from ZnO and Si:Er nanodot arrays, respectively.
We fabricate thermally stable and low resistance Ru ohmic contacts to $n-ZnO:Al(3\times10^{18}\textrm{cm}^{-3})$, grown by specially designed dual target sputtering system. It is shown that the as-deposited Ru contact produces a specific contact resistance of $2.1{\times}10^{-3}{\Omega}\textrm{cm}^2$. Annealing of the Ru contacts leads to the improvement of current-voltage characteristics. For example, annealing of the contact at $700^{\circ}C$ for 1 min produces a contact resistance of $3.2{\times}10^{-5}}{\Omega}\textrm{cm}^2$. furthermore, the metallisation scheme is found to be thermally stable: the surface of the contact is fairly smooth with a rms roughness of 1.4 nm upon annealing at $700^{\circ}C$. These results strongly indicate that the Ru contact represents a suitable metallisation scheme for fabrication of high-performance ZnO-based optical devices and high-temperature devices. In addition, possible mechanisms are suggested to describe the annealing temperature dependence of the specific contact resistance.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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