$Cl_2/BCl_3$ /Ar 유도 결합 플라즈마에서 온도에 따른 $ZrO_2$ 박막의 식각
(Temperature Dependence on Dry Etching of $ZrO_2$ Thin Films in $Cl_2/BCl_3$ /Ar Inductively Coupled Plasma)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2008년도 추계학술대회 논문집 Vol.21
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- pp.145-145
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- 2008