In a hope to better understand the flow and convective heat transfer characteristics inside a ball bearing, air flow between the rolling elements and raceways at high speed bearing rotation is numerically investigated using a simplified inner geometry of bearing and a CFD technique. Flow simulation results reveal the pressure distribution of airflow and the shear stress distribution on the ball surface, of which nonuniformity becomes significant with the increasing rotational speed. Also, the local point of maximum shear stress coincides with the stagnation flow area on the surface of rolling elements. A complex pattern of three-dimensional vortex structures is found in the air flow due to the relative motion of bearing elements and three different types of vortex pairs exist around the rotating and orbiting rolling elements.
International Journal of Precision Engineering and Manufacturing
/
제9권3호
/
pp.3-6
/
2008
Electrolytic in-process dressing (ELID) grinding is a new technique for achieving a nanoscale surface finish on hard and brittle materials such as optical glass and ceramics. This process applies an electrochemical dressing on the metal-bonded diamond wheels to ensure constant protrusion of sharp cutting grits throughout the grinding cycle. In conventional ELID grinding, a constant source of pulsed DC power is supplied to the ELID cell, but a feedback mechanism is necessary to control the dressing power and obtain better performance. In this study, we propose a new closed-loop wheel dressing technique for grinding wheel truing that addresses the efficient correction of eccentric wheel rotation and the nonuniformity in the grinding wheel profile. The technique relies on an iterative control algorithm for the ELID power supply. An inductive sensor is used to measure the wheel profile based on the gap between the sensor head and wheel edge, and this is used as the feedback signal to control the pulse width of the power supply. We discuss the detailed mathematical design of the control algorithm and provide simulation results that were confirmed experimentally.
렌즈의 실시간 성능축정을 위하여 MTF측정장치에 CCD를 많이 사용하고 있다. 본 연구에서는 2차원 CCD를 복사기 렌즈의 실시간 MFT측정장치에 사용했을 때 CCD에 의한 각종 MTF특성을 분석하였다. CCD로 측정한 복사기 렌즈의 MTF는 2차원 CCD의 shift register가 배열된 방향과 셔터 속도, 광신호 증폭회로의 증폭률에 따라 다른 특성을 나타내었다. 광원의 밝기에 의한 MTF 값의 변화를 줄이기 위하여 축상면 및 비축상면에서 복사조도가 균일한 광원장치를 제작하였으며 MTF 값이 측정된 표준렌즈를 사용하여 복사기 렌즈용 실시간 MTF측정장치를 교정하였다.
In this paper, the authors present the fabrication of high-yield Si thin-membranes by electrochemical etch-stop in tetramethyl ammonium hydroxide (TMAH): isopropyl alcohol (IPA):pyrazine solutions. The current-voltage (I-V) characteristics of n- and p-type Si in TMAH:IPA;pyrazine solutions were analysed, repsectively. Open circuit potential (OCP)and passivation potential (PP) of n- and p-type Si, respectively, were obtained and applied potential was selected between n- and p-type Si PPs. The electrochemical etch-stop method was applied to the fabrication of 801 micro-membranes with 20.0 $\mu\textrm{m}$ thickness on a 5" Si wafer. The average thickness of fabricated 801 micro-membranes on one wafer 20.03$\mu\textrm{m}$ and the standard deviation was ${\pm}$0.26$\mu\textrm{m}$. The Si surface of the etch-stopped micro-membranes was extremely flat with no noticeable taper or nonuniformity. The results indicate that use of the electrochemical etch-stop method for the etching of Si in TMAH:IPA;pyrazine solutions provides a powerful and versatile alternative process for fabricating high-yield Si micro-membranes.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
/
제2권2호
/
pp.26-31
/
2001
This paper presents the electrochemical etch-stop characteristics of single-crystal Si(001) wafers in tetramethyl ammonium hydroxide(TMAH):isopropyl alcohol(IPA):pyrazine solutions. The addition of pyrazine to TMAH:IPA solutions increased the etch rate of (100) Si, thus the etching time required by the etch-stop process shortened. The current-voltage(I-V) characteristics of n- and p-type Si in TMAH:IPA:pyrazine solutions were obtained, respectively. Open circuit potential(OCP) and passivation potential(PP) of n- and p-type Si, respectively, were obtained and applied potential was selected between n- and p-type Si PPs. The electrochemical etch-stop method was used to fabricate 801 microdiaphragms of 20 ${\mu}{\textrm}{m}$ thickness on a 5-inch Si wafer. The average thickness of fabricated 801 microdiaphragms on one Si wafer was 20.03 ${\mu}{\textrm}{m}$ and the standard deviation was $\pm$0.26 ${\mu}{\textrm}{m}$. The Si surface of the etch-stopped microdiaphragm was extremely flat with no noticeable taper or nonuniformity.
Uniaxial square Helmholtz coils for testing SQUID sensors were designed and their field distributions were calculated. Optimum parameters for maximizing the uniform region in the Helmholtz mode were obtained for different uniformity tolerances. The coil system consists of 2 pairs of identical square loops, a Helmholtz pair for generating uniform fields and the other for the 2nd-order gradient fields in combination with the Helmholtz pair. Full expressions of the axial component of the field were calculated by using Biot-Savart's law. To understand the behavior of the field near the coil center, analytical expressions were obtained up to the 4th-order in the midplane and along the coil axis. The Helmholtz condition for generating uniform fields was calculated to be $d/{\alpha}=0.544505643$, where 2d is the inter-coil distance and $2{\alpha}$ is the side length of the coil square. Maximized uniform range can be obtained for a given nonuniformity tolerance by choosing $d/{\alpha}$ slightly lower than the Helmholtz condition. The pure second-order gradient field can be generated by subtracting the Helmholtz field from the field of the 2nd pair with equal magnitudes of the center fields of the two pairs. The coil system is useful for testing balance and sensitivity of SQUID gradiometers.
A micro-macroscopic analysis on the conduction-controlled directional casting of Al-Cu alloys is performed, in which emphases are placed on the microstructural features. In order to facilitate the solution procedure, an iterative micro-macroscopic coupling algorithm is developed. The predicted results show that the effect of finite back diffusion on the transient solidification process in comparison with the lever rule depends essentially on the initial concentration of an alloy. In the final casting, the eutectic fraction is distributed in an increasing-decreasing-increasing pattern, each mode of which is named the chill, interior and end zones. This nonuniformity per se suffices to justify the necessity of this work because it originates from the combined effects of finite back diffusion and cooling path-dependent nature of the eutectic formation. As the cooling rate is enhanced, not only the influence depths of boundaries narrow, but also the eutectic fractions in the chill and interior zones increase. In addition, it is revealed for the first time that the micro segregation band is formed in response to a sudden change in cooling rate during the directional casting. An increasing change creates an overshooting band in the eutectic fraction distribution, and vice versa.
In this paper, a new reactor core design is proposed on the basis of a mixed core concept consisting of a thermal zone and a fast zone. The geometric structure of the fuel assembly of the thermal zone is similar to that of a conventional thermal supercritical water-cooled reactor(SCWR) core with two fuel pin rows between the moderator channels. In spite of the counter-current flow mode, the co-current flow mode is used to simplify the design of the reactor core and the fuel assembly. The water temperature at the exit of the thermal zone is much lower than the water temperature at the outlet of the pressure vessel. This lower temperature reduces the maximum cladding temperature of the thermal zone. Furthermore, due to the high velocity of the fast zone, a wider lattice can be used in the fuel assembly and the nonuniformity of the local heat transfer can be minimized. This mixed core, which combines the merits of some existing thermal SCWR cores and fast SCWR cores, is proposed for further detailed analysis.
We have studied liquid crystal (LC) molecular alignment on rubbed and photoaligned surfaces. Particular attention was paid to the intermolecular liquid crystalline interaction. We will first show that uniform molecular orientation on a rubbed surface does not mean spatially uniform interaction between the surface and LC molecules. Rather LCs tend to align themselves through LC interaction. The existence of nonuniformity of rubbing was successfully visualized by double surface treatment. The importance of intermolecular LC interaction was also found in the orientation formation process in 5CB evaporated on rubbed and photoaligned surfaces. By simultaneously analyzing polarized UVNIS absorption and second-harmonic generation (SHG) using the maximum entropy method, we succeeded in obtaining the temporal variation of the orientational distribution functions in the film forming process. The distribution anisotropy and pretilt are found to be generated under the influence of intermolecular LC interaction.
Chemical mechanical polishing(CMP) process was studied in terms of tribology in this paper. CMP performed by the down force and the relative motion of pad and wafer with the slurry is typically tribological system composed of friction, wear and lubrication. The piezoelectric quartz sensor for friction force measurement was installed and the friction force was detected during CMP process. Various coefficient of friction was attained and analyzed with the kind of pad, abrasive and the abrasive concentration. The lubrication regime is also classified with ${\eta}v/p(\eta,\;v\;and\;p;$ the viscosity, relative velocity and pressure). Especially, the co-relation not only between the friction force and the removal per unit distance but also between the coefficient of friction and within-wafer-nonuniformity was estimated.
본 웹사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나
그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며,
이를 위반시 정보통신망법에 의해 형사 처벌됨을 유념하시기 바랍니다.
[게시일 2004년 10월 1일]
이용약관
제 1 장 총칙
제 1 조 (목적)
이 이용약관은 KoreaScience 홈페이지(이하 “당 사이트”)에서 제공하는 인터넷 서비스(이하 '서비스')의 가입조건 및 이용에 관한 제반 사항과 기타 필요한 사항을 구체적으로 규정함을 목적으로 합니다.
제 2 조 (용어의 정의)
① "이용자"라 함은 당 사이트에 접속하여 이 약관에 따라 당 사이트가 제공하는 서비스를 받는 회원 및 비회원을
말합니다.
② "회원"이라 함은 서비스를 이용하기 위하여 당 사이트에 개인정보를 제공하여 아이디(ID)와 비밀번호를 부여
받은 자를 말합니다.
③ "회원 아이디(ID)"라 함은 회원의 식별 및 서비스 이용을 위하여 자신이 선정한 문자 및 숫자의 조합을
말합니다.
④ "비밀번호(패스워드)"라 함은 회원이 자신의 비밀보호를 위하여 선정한 문자 및 숫자의 조합을 말합니다.
제 3 조 (이용약관의 효력 및 변경)
① 이 약관은 당 사이트에 게시하거나 기타의 방법으로 회원에게 공지함으로써 효력이 발생합니다.
② 당 사이트는 이 약관을 개정할 경우에 적용일자 및 개정사유를 명시하여 현행 약관과 함께 당 사이트의
초기화면에 그 적용일자 7일 이전부터 적용일자 전일까지 공지합니다. 다만, 회원에게 불리하게 약관내용을
변경하는 경우에는 최소한 30일 이상의 사전 유예기간을 두고 공지합니다. 이 경우 당 사이트는 개정 전
내용과 개정 후 내용을 명확하게 비교하여 이용자가 알기 쉽도록 표시합니다.
제 4 조(약관 외 준칙)
① 이 약관은 당 사이트가 제공하는 서비스에 관한 이용안내와 함께 적용됩니다.
② 이 약관에 명시되지 아니한 사항은 관계법령의 규정이 적용됩니다.
제 2 장 이용계약의 체결
제 5 조 (이용계약의 성립 등)
① 이용계약은 이용고객이 당 사이트가 정한 약관에 「동의합니다」를 선택하고, 당 사이트가 정한
온라인신청양식을 작성하여 서비스 이용을 신청한 후, 당 사이트가 이를 승낙함으로써 성립합니다.
② 제1항의 승낙은 당 사이트가 제공하는 과학기술정보검색, 맞춤정보, 서지정보 등 다른 서비스의 이용승낙을
포함합니다.
제 6 조 (회원가입)
서비스를 이용하고자 하는 고객은 당 사이트에서 정한 회원가입양식에 개인정보를 기재하여 가입을 하여야 합니다.
제 7 조 (개인정보의 보호 및 사용)
당 사이트는 관계법령이 정하는 바에 따라 회원 등록정보를 포함한 회원의 개인정보를 보호하기 위해 노력합니다. 회원 개인정보의 보호 및 사용에 대해서는 관련법령 및 당 사이트의 개인정보 보호정책이 적용됩니다.
제 8 조 (이용 신청의 승낙과 제한)
① 당 사이트는 제6조의 규정에 의한 이용신청고객에 대하여 서비스 이용을 승낙합니다.
② 당 사이트는 아래사항에 해당하는 경우에 대해서 승낙하지 아니 합니다.
- 이용계약 신청서의 내용을 허위로 기재한 경우
- 기타 규정한 제반사항을 위반하며 신청하는 경우
제 9 조 (회원 ID 부여 및 변경 등)
① 당 사이트는 이용고객에 대하여 약관에 정하는 바에 따라 자신이 선정한 회원 ID를 부여합니다.
② 회원 ID는 원칙적으로 변경이 불가하며 부득이한 사유로 인하여 변경 하고자 하는 경우에는 해당 ID를
해지하고 재가입해야 합니다.
③ 기타 회원 개인정보 관리 및 변경 등에 관한 사항은 서비스별 안내에 정하는 바에 의합니다.
제 3 장 계약 당사자의 의무
제 10 조 (KISTI의 의무)
① 당 사이트는 이용고객이 희망한 서비스 제공 개시일에 특별한 사정이 없는 한 서비스를 이용할 수 있도록
하여야 합니다.
② 당 사이트는 개인정보 보호를 위해 보안시스템을 구축하며 개인정보 보호정책을 공시하고 준수합니다.
③ 당 사이트는 회원으로부터 제기되는 의견이나 불만이 정당하다고 객관적으로 인정될 경우에는 적절한 절차를
거쳐 즉시 처리하여야 합니다. 다만, 즉시 처리가 곤란한 경우는 회원에게 그 사유와 처리일정을 통보하여야
합니다.
제 11 조 (회원의 의무)
① 이용자는 회원가입 신청 또는 회원정보 변경 시 실명으로 모든 사항을 사실에 근거하여 작성하여야 하며,
허위 또는 타인의 정보를 등록할 경우 일체의 권리를 주장할 수 없습니다.
② 당 사이트가 관계법령 및 개인정보 보호정책에 의거하여 그 책임을 지는 경우를 제외하고 회원에게 부여된
ID의 비밀번호 관리소홀, 부정사용에 의하여 발생하는 모든 결과에 대한 책임은 회원에게 있습니다.
③ 회원은 당 사이트 및 제 3자의 지적 재산권을 침해해서는 안 됩니다.
제 4 장 서비스의 이용
제 12 조 (서비스 이용 시간)
① 서비스 이용은 당 사이트의 업무상 또는 기술상 특별한 지장이 없는 한 연중무휴, 1일 24시간 운영을
원칙으로 합니다. 단, 당 사이트는 시스템 정기점검, 증설 및 교체를 위해 당 사이트가 정한 날이나 시간에
서비스를 일시 중단할 수 있으며, 예정되어 있는 작업으로 인한 서비스 일시중단은 당 사이트 홈페이지를
통해 사전에 공지합니다.
② 당 사이트는 서비스를 특정범위로 분할하여 각 범위별로 이용가능시간을 별도로 지정할 수 있습니다. 다만
이 경우 그 내용을 공지합니다.
제 13 조 (홈페이지 저작권)
① NDSL에서 제공하는 모든 저작물의 저작권은 원저작자에게 있으며, KISTI는 복제/배포/전송권을 확보하고
있습니다.
② NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 상업적 및 기타 영리목적으로 복제/배포/전송할 경우 사전에 KISTI의 허락을
받아야 합니다.
③ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 보도, 비평, 교육, 연구 등을 위하여 정당한 범위 안에서 공정한 관행에
합치되게 인용할 수 있습니다.
④ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 무단 복제, 전송, 배포 기타 저작권법에 위반되는 방법으로 이용할 경우
저작권법 제136조에 따라 5년 이하의 징역 또는 5천만 원 이하의 벌금에 처해질 수 있습니다.
제 14 조 (유료서비스)
① 당 사이트 및 협력기관이 정한 유료서비스(원문복사 등)는 별도로 정해진 바에 따르며, 변경사항은 시행 전에
당 사이트 홈페이지를 통하여 회원에게 공지합니다.
② 유료서비스를 이용하려는 회원은 정해진 요금체계에 따라 요금을 납부해야 합니다.
제 5 장 계약 해지 및 이용 제한
제 15 조 (계약 해지)
회원이 이용계약을 해지하고자 하는 때에는 [가입해지] 메뉴를 이용해 직접 해지해야 합니다.
제 16 조 (서비스 이용제한)
① 당 사이트는 회원이 서비스 이용내용에 있어서 본 약관 제 11조 내용을 위반하거나, 다음 각 호에 해당하는
경우 서비스 이용을 제한할 수 있습니다.
- 2년 이상 서비스를 이용한 적이 없는 경우
- 기타 정상적인 서비스 운영에 방해가 될 경우
② 상기 이용제한 규정에 따라 서비스를 이용하는 회원에게 서비스 이용에 대하여 별도 공지 없이 서비스 이용의
일시정지, 이용계약 해지 할 수 있습니다.
제 17 조 (전자우편주소 수집 금지)
회원은 전자우편주소 추출기 등을 이용하여 전자우편주소를 수집 또는 제3자에게 제공할 수 없습니다.
제 6 장 손해배상 및 기타사항
제 18 조 (손해배상)
당 사이트는 무료로 제공되는 서비스와 관련하여 회원에게 어떠한 손해가 발생하더라도 당 사이트가 고의 또는 과실로 인한 손해발생을 제외하고는 이에 대하여 책임을 부담하지 아니합니다.
제 19 조 (관할 법원)
서비스 이용으로 발생한 분쟁에 대해 소송이 제기되는 경우 민사 소송법상의 관할 법원에 제기합니다.
[부 칙]
1. (시행일) 이 약관은 2016년 9월 5일부터 적용되며, 종전 약관은 본 약관으로 대체되며, 개정된 약관의 적용일 이전 가입자도 개정된 약관의 적용을 받습니다.