Originally, the thermoforming method has been developed to produce the plastic parts which have simple geometric characteristics such as door trims and wrapping materials within the short time. But the thermoformed parts have non-uniform thickness distributions over the surface according to the material characteristics, set-up angle and geometry of the parts. But, only few analysis methods have been developed so far, due to the difficulties of the selection of important factors, and contribution of each factor in the simulation. So, to guarantee the dimensional accuracy and mechanical properties of crucial points in the thermoformed parts, it is necessary to develop the thickness prediction method. This research suggests a new approaching methodology to predict the thermoformed parts by modulating the control points of the NURBS curve. The newly developed method makes it possible not only to choose the suitable thickness of polymer sheets but also to induce data modification for vacuum forming.
In this study, drying kinetics of onion slices was examined in a laboratory scale vacuum dryer at an air temperature in a range of $50-70^{\circ}C$. Moisture transfer from onion slices was described by applying the Fick's diffusion model, and the effective diffusivity was calculated. Temperature dependency of the effective diffusivity during drying process obeyed the Arrhenius relationship. Effective diffusivity increased with increasing temperature and the activation energy for the onion slices was estimated to be 16.92 kJ/mol. The experimental drying data were used to fit 9 drying models, and drying rate constants and coefficients of models tested were determined by non-linear regression analysis. Estimations by the page and Two-term exponential models were in good agreement with the experimental data obtained.
Field Emission display (FEDs) require enhancement in both driving methods and process techniques to improve the display image quality. However, from the point of view of manufacturing, it is difficult to find methods and techniques to realize low cost manufacturing. New and simple color phosphor screen designs were suggested with non-crossed electrode lines and full color anode panels for small area displays were demonstrated. To avoid unwanted reaction with gases produced from phosphors in a high vacuum glass container, a very thin polyimide layer was coated on the phosphor screen. Moreover, to improve the display image quality, black matrix composed of inorganic materials was fabricated. This paper describes the performance and characteristics of the new full color anode panels.
Solution-processed amorphous metal-oxide thin-film transistors (TFTs) are considered as promising candidates for the upcoming transparent and flexible electronics due to their transparent property, good performance uniformity and possibility to fabricate at a low-temperature. In addition, solution processing metal oxide TFTs may allow non-vacuum fabrication of flexible electronic which can be more utilizable for easy and low-cost fabrication. Recently, for high-mobility oxide TFTs, multi-layered oxide channel devices have been introduced such as superlattice channel structure and heterojunction structure. However, only a few studies have been mentioned on the bias illumination stress in the multi- layered oxide TFTs. Therefore, in this research, we investigated the effects of bias illumination stress in solution-processed bilayer oxide TFTs which are fabricated by the deep ultraviolet photochemical activation process. For studying the electrical and stability characteristics, we implemented positive bias stress (PBS) and negative bias illumination stress (NBIS). Also, we studied the electrical properties such as field-effect mobility, threshold voltage ($V_T$) and subthreshold slop (SS) to understand effects of the bilayer channel structure.
In this study, we investigated that the resistance switching characteristics of Nb-doped HfO2 films with increasing Nb doping concentration. The Nb-doped HfO2 based ReRAM devices with a TiN/Nb-doped HfO2/Pt/Ti/SiO2 were fabricated on Si substrates. The Nb-doped HfO2 films were deposited by reactive dc magnetron co-sputtering at $300^{\circ}C$ and oxygen partial ratio of 60% (Ar: 16sccm, O2: 24sccm). Microstructure of Nb-doped HfO2 films and atomic concentration were investigated by XRD, TEM, and XPS, respectively. The Nb-doped HfO2 films showed set/reset resistance switching behavior at various Nb doping concentrations. The process voltage of forming/set is decreased and whereas the initial current level is increased in doped HfO2 films. However, the switching properties of Nb-doped HfO2 were changed above the specific doping concentration of Nb. The change of resistance switching behavior depending on doping concentration was discussed in terms of concentration of non-lattice oxygen and micro-structure of Nb-doped HfO2.
Kim, Sangsoo;Nam, Kihyun;Park, Jaehyun;Kim, Kwangoo;Kim, Bongsoo;Ko, Insoo
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2016년도 제50회 동계 정기학술대회 초록집
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pp.85.2-85.2
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2016
With the advent of ultra-short high-intense XFEL (X-ray Free Electron Laser), time-resolved dynamics has become of great importance in exploring femtosecond real-world phenomena of nanoscience and biology. These include studying the response of materials to femtosecond laser excitation and investigating the interaction of XFEL itself with condensed matter. A variety of dynamic phenomena have been investigated such as radiation damage, ultrafast melting process, non-equilibrium phase transitions caused by orbital-lattice-spin couplings. As far as bulk materials are concerned, the sample size has no effect on the following dynamic process. As a result, imaging information is not required by and large. If the sample size is of tens of nanometers, however, sample starts to experience quantum confinement effect which, in turn, affects the following dynamic process. Therefore, to understand the fundamental dynamic phenomena in nano-science, time-resolved imaging information is essential. In this talk, we will briefly introduce scientific highlights achieved in XFEL-based dynamics. In case of bio-imaging, recent scientific topics will be mentioned as well. Finally, we will aim to present feasible topics in ultrafast time-resolved imaging and to discuss the future plan of CXI beamline at PAL-XFEL.
Journal of Advanced Marine Engineering and Technology
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제30권6호
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pp.677-684
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2006
An ejector is a fluid transfer device to be used for mixing of fluids, maintaining vacuum, and overcoming a poor suction condition. To date, most ejectors have been made from the casting process. which is time-consuming and high-cost process. Therefore, a new production method of ejectors is desired if any. In this experimental study, we proposed a new type ejector manufactured from the commercial fitting materials and the welding process, which is equipped with an orifice type nozzle. The proposed ejector has a good integrity compared with the conventional ejector because the fittings have manufactured by forging and they have more strength than the casting materials. Furthermore we adopted a multi-opening orifice type nozzle for improving a suction capacity and compared with a single-opening orifice type nozzle. From the experimental results. we confirmed that the multi-opening nozzle had a food suction capacity than the single-opening nozzle and the proposed new type ejector showed higher vacuum than the conventional type ejector in non-load condition. These improved characteristics suggests that a new type ejector by using the commercial fittings opens the feasibility to be adopted in various industry fields and that the increased suction capacity can be achieved by altering the nozzle design of a conventional ejector.
Molybdenum (Mo) thin films are widely used as back contact in copper indium diselenide (CISe) solar cells. However, despite this, there are only few published studies on the properties of Mo and characteristics of CISe solar cells formed on such Mo substrates. In this studies, we investigated the properties of sputter deposited Mo bilayer, and fabricated non-vacuum CISe solar cells using bilayer Mo substrates. The changes in surface morphology and electrical resistivity were traced by varying the gas pressure during deposition of the bottom Mo layer. In porous surface structure, it was confirmed that the electrical resistivity of Mo bilayer was increased as the amount of oxygen bonded to the Mo atoms increased. The resulting solar cell characteristics vary as the bottom Mo layer deposition pressure, and the maximum solar cell efficiency was achieved when the bottom layer was deposited at 7 mTorr with a thickness of 100 nm and the top layer deposited at 3 mTorr with a thickness of 400 nm.
Recently, nonvolatile memories (NVM) of various types have been researched to improve the electrical performance such as program/erase voltages, speed and retention times. Also, the charge trap memory is a strong candidate to realize the ultra dense 20-nm scale NVM. Furthermore, the high charge efficiency and the thermal stability of SiC nanocrystals NVM with single $SiO_2$ tunnel barrier have been reported. [1-2] In this study, the SiC charge trap NVM was fabricated and electrical properties were characterized. The 100-nm thick Poly-Si layer was deposited to confined source/drain region by using low-pressure chemical vapor deposition (LP-CVD). After etching and lithography process for fabricate the gate region, the $Si_3N_4/SiO_2/Si_3N_4$ (NON) and $SiO_2/Si_3N_4/SiO_2$ (ONO) barrier engineered tunnel layer were deposited by using LP-CVD. The equivalent oxide thickness of NON and ONO tunnel layer are 5.2 nm and 5.6 nm, respectively. By using ultra-high vacuum magnetron sputtering with base pressure 3x10-10 Torr, the 2-nm SiC and 20-nm $SiO_2$ were successively deposited on ONO and NON tunnel layers. Finally, after deposited 200-nm thick Al layer, the source, drain and gate areas were defined by using reactive-ion etching and photolithography. The lengths of squire gate are $2\;{\mu}m$, $5\;{\mu}m$ and $10\;{\mu}m$. The electrical properties of devices were measured by using a HP 4156A precision semiconductor parameter analyzer, E4980A LCR capacitor meter and an Agilent 81104A pulse pattern generator system. The electrical characteristics such as the memory effect, program/erase speeds, operation voltages, and retention time of SiC charge trap memory device with barrier engineered tunnel layer will be discussed.
마그네트론 타겟에서 일어나는 다양한 물리적 현상에 의한 결과로 인해 발생하는 타겟 표면의 온도를 측정함으로써 그 분포가 플라즈마, 혹은 증착되는 박막에 영향을 줄 수 있는 가능성을 분석하였다. 마그네트론 스퍼터링의 타겟은 크게 원형 타겟과 사각 타겟으로 구분되는데, 사각 타겟에서는 자기장에 의한 corner effect 등에 의해 전자 집중 방전 영역이 발생하고 그것에 의해 타겟 표면에서 불균일한 온도분포가 생성됨을 확인했다. 국부적으로 온도가 높게 올라가는 지역은 비스퍼터링 지역에 비해 $10{\sim}20^{\circ}C$ 정도 높았으며, 스퍼터링 공정 시 문제점 중에 하나인 particle이 발생하면 그 부분에서 온도가 $20^{\circ}C$ 정도 더 상승함을 알 수 있었다. 이런 영향은 증착되는 박막의 균일도에도 적지 않은 영향을 주었으며 세라믹 타겟의 경우, 균열의 원인이 될 수 있고, 불균일한 타겟 침식으로 타겟의 수명을 단축시키는 문제를 유발하기도 한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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