A study on a silicon surface modification by $CHF_3/C_2F_6$ reactive ion etching
($CHF_3/C_2F_6$ 반응성이온 건식식각에 의한 실리콘 표면의 변형에 관한 연구)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.1 no.4
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- pp.214-220
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- 1991