$N_2$ O 분위기에서 RTP로 제조한 실리콘 산화막의 산화 반응
(Oxidation Reaction of silicon Oxids fabricated by Rapid Thermal Process in $N_2$ O ambient)
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- 한국재료학회지
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- 제3권1호
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- pp.7-11
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- 1993