저압 화학 기상 증착 조건에서 Si$H_4$ , W$F_6$ 환원 반응에 의한 텅스텐 박막의 성장 양식
(Growth Mode of Tungsten Thin Film by Using Si$H_4$ Reduction of W$F_6$ in LPCVD System)
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- 한국결정성장학회지
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- 제3권2호
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- pp.107-116
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- 1993