전자선 묘화를 이용한 0.2 ${\mu}{\textrm}{m}$ 의 게이트 길이를 갖는 MIMIC용 Wide-Head T-gate 제작
(Fabrication of wide-head T-gate with 0.2 ${\mu}{\textrm}{m}$ gate length using E-beam lithography for MIMIC applications.)
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- 대한전자공학회:학술대회논문집
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- 대한전자공학회 1999년도 추계종합학술대회 논문집
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- pp.187-190
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- 1999