The aligning between the punch and die governs no only the burr formation characteristics but also the life time of the punch and die in the sheet metal blanking process. There are many ways to adjust the two elements in the general punching systems but in the case of micro punch system, the punch size is reduced to a few tenth of micrometer range and the general aligning methods are almost impossible to apply. The image processing is the most widely used method in micro punch aligning, but in order to apply the method, it needs quite a large space for visionary system to approach the punch-die aligning zone. In this paper, the new punch-die aligning method with using the total capacitance between the punch and die hole is proposed. In this method, the tip surface of the punch tool locates at the same plane of the die surface and the capacitance variation between the two elements are measured. When the center of the two elements are coincided, the capacitance is minimized, but when the align is changed to any direction, the capacitance between the two elements increase. In order to verify the feasibility of this method, the aligning and punching tests was performed.
The aligning between the punch and die governs no only the burr formation characteristics but also the life time of the punch and die in the sheet metal blanking process. There are many ways to adjust the two elements in the general punching systems but in the case of micro punch system, the punch size is reduced to a few tenth of micrometer range and the general aligning methods are almost impossible to apply. The image processing is the most widely used method in micro punch aligning, but in order to apply the method, it needs quite a large space for visionary system to approach the punch-die aligning zone. In this paper, the new punch-die aligning method with using the total capacitance between the punch and die hole is proposed. In this method, the tip surface of the punch tool locates at the same plane of the die surface and the capacitance variation between the two elements are measured. When the center of the two elements are coincided, the capacitance is minimized, but when the align Is changed to any direction, the capacitance between the two elements increase. In order to verify the feasibility of this method, the aligning and punching tests was performed.
Substitution of the stacked antenna for the normally pressed antenna in the mobile phone was tried for the purpose of decreasing its size. However, reduced size resulted in the difficulties obtaining the targeted characteristics with the bandwidth over 70MHz. The cross-section of the vias in the low temperature co-firing ceramics process was studied to find out effects on the bandwidth characteristics. Circular and rectangular cross-section of the via beneath different types of antenna patterns were simulated. Better bandwidth characteristics were acquired for the larger diameter of the circular section and for the rectangular section as the cross-section area increased. From the viewpoint of the shape of the cross-section, rectangular area showed better characteristics than the circular area with the same longest length in the cross-section.
Recent electronic equipment becomes smaller, more functional, and more complex. According to these trends, LTCC(low temperature co-fired ceramic) has been emerged as a promising technology in packaging industry. It consists of multi-layer ceramic sheet, and the circuit has 3D structure. In this technology via hole formation plays an important role because it provides an electric path for the packaging interconnection network. Therefore via hole quality is very important for ensuring performance of LTCC product. Via holes are formed on the green sheet that consists of ceramic(before sintering) layer and PET(polyethylene Terephthalate) one. In this paper we found the correlation between hole quality and process condition such as ceramic thickness, and tool size. The shear behavior of double layer sheet by micro hole punching which is different from that of single layer one was also discussed.
Recent electronic equipment becomes smaller, more functional, and more complex. According to these trends, LTCC(low temperature co-fired ceramic) has been emerged as a promising technology in packaging industry. It consists of multi-layer ceramic sheet, and the circuit has 3D structure. In this technology via hole formation plays an important role because it provides an electric path for the packaging interconnection network. Therefore via hole qualify is very important for ensuring performance of LTCC product. Via holes are formed on the green sheet that consists of ceramic(before sintering) layer and PET(polyethylene terephthalate) one. In this paper we found the correlation between hole quality and process condition such as PET thickness and ceramic thickness. The shear behavior of double layer sheet by micro hole punching which is different from that of single layer one was also discussed.
In this paper Research development about a micro metal forming manufacturing system has been developed. A micro forming system has been achieved in Japan and it's developed micro press is limited to single forming process. To coincide with the purpose to be more practical, research and development is necessary about the press which the multi forming process is possible. We set the development of the equipment including micro deep drawing, micro punching and micro restriking process to the goal. To achieve this goal, Research about micro forming process to be related to multi process forming must be preceded first. Material selection and analysis about micro forming process are accomplished in this paper. And the basis research to make actual system is accomplished.
The shearing process for the sheet metal is normally used in the precision elements such as a frame of TFT-LCD or lead frame of If chips. In these precision elements, the burr formation prevents the system assembly and needs the additional burr removing process. In this paper, we developed the small size NC punching system which has an aligning kinematics between the rectangular shaped punch and die. The punch is driven by an ai cylinder and the sheet metal is moving on the X-Y table system which is driven by two stewing motors. The microprocessor control the whole system and communicate with the monitoring PC by RS232C serial communication protocol. The graphic user interface program in PC monitors nil control the punching system. The cross shaped joint hinge supports the punching die and positioned by two differential screws, whose are installed in perpendicular directions. The aligning between the punch and die is performed using the sheets of half thickness(0.1mm Brass) of the real process for the frame of the TFT-LCD. Using half thickness Brass, the burr formation is magnified and we can decide the aligning direction more easily then using the real thickness(0.2mm) Aluminum. In this paper, the aligning results are measured manually using the SEM photographs and we hope to make the automated aligning procedures using some kinds of image processing techniques.
This paper presents a method by which multiple holes of ultra small size can be punched simultaneously. Silicon wafers were used to fabricate punching die. Workpiece used in the present investigation were the rolled pure copper of $3{\mu}m$ in thickness and CP titanium of $1.5{\mu}m$ in thickness. The metal foils were punched with the dies and arrays of circular and rectangular holes were made. The diameter of holes ranges from $2-10{\mu}m$. The process set-up is similar to that of the flexible rubber pad forming or Guerin process. Arrays of holes were punched successfully in one step forming. The punched holes were examined in terms of their dimensions, surface qualities, and potential defect. The effects of the die hole dimension on ultra small size hole formation of the thin foil were discussed. The optimum process condition such as proper die shape and diameter-thickness ratio (d/t) were also discussed. The results in this paper show that the present method can be successfully applied to the fabrication of ultra small size hole array in a one step operation.
Micro-EDM is widely used in metallic pattern, electronics, nuclear power and industry in the form of precision process. The improvement of Electro Discharge Machining has been on a steady progress since $19^{th}$ century. The technology has overcome the limits of the traditional precision process, enabling micro-EDM, micro electrolytic machining, micro drilling, micro punching and laser beam machining, which create versatile products with smaller sizes. What have been known about the major feature of Micro-EDM is high thermal energy so that their products are free from the hardness of their products as long as they are electrical conductor. However, each metal is suspected to have different features and natures even if they are created through the same procedure. In this thesis, the methodology of Micro-EDM and how to categorize them are explained. Also, the nature of the examined materials with surface shape and surface roughnes are analyzed. The results of the experiments are expected to understand surface roughness and workability of other materials for Micro-EDM.
LTCC(Low temperature co-fired ceramic) is being recognized as a significant packaging material of electrical devices for the advantages such as relatively low temperature being needed for process, low conductor resistance and high printing resolution. In the process of LTCC electrical devices, the punched via-hole quality is one of the most important factors on the performance of the device. However, its mechanism is very complicated and optimization of the process seems difficult. In this paper, to clarify the process, via-hole punching experiments were carried out and the punched holes were examined in terms of their burr formation. The effects of thickness of PET sheet, ceramic sheet and punch-to- die clearance on via-hole quality were also discussed. Optimum process conditions are proposed and a factor $\kappa$ is introduced to express effect of the process variables.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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