Transactions of the Korean Society of Machine Tool Engineers
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v.15
no.6
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pp.71-75
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2006
The application of focused ion beam (FIB) technology in micro/nano machining has become increasingly popular. Its usage in micro/nano machining has advantages over contemporary photolithography or other micro/nano machining technologies such as small feature resolution, the ability to process without masks and being accommodating for a variety of materials and geometries. The target of this paper is the analysis of FIB sputtering process according to tilt angle, dwell time and overlap for application of 3D micro and pattern fabrication and to find the effective beam scanning conditions using Taguchi method. Therefore we make the conclusions that tilt angle is dominant parameter for sputtering yield. Burr size is reduced as tilt angle is higher.
We propose an implementation scheme for an optical encryption system with hybrid-pattern random keys. In the encryption process, a pair of random phase keys composed of a white-noise phase key and a structured phase key are positioned in the input plane and Fourier-spectrum plane respectively. The output image is recoverable by digital reconstruction, using the conjugate of the encryption key in the Fourier-spectrum plane. We discuss the system encryption performance when different combinations of phase-key pairs are used. To measure the effectiveness of the proposed method, we calculate the statistical indicators between original and encrypted images. The results are compared to those generated from a classical double random phase encoding. Computer simulations are presented to show the validity of the method.
Ultra-high brightness and thin displays need to optical micro-patterns which can uniformly diffuse the lights and low loss. The micro random patterns have characteristics to rise the optical efficiency such as light extraction, uniform diffusion. For this reason, various fabrication processes are studied for random patterns. In this study, the micro random patterns were machined by diamond turning which used a controlled cutting tool path with random cutting depth. The machined patterns had random shape and directionality along the circumferential direction. The average width and length of machined random pattern according to rotation radius were 40.13㎛~55.51㎛ and 37.25㎛~59.49㎛, and these results were compared with the designed result. Also, the machining error according to rotation radius in diamond turning using randomly controlled cutting depth was discussed.
Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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v.13
no.4
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pp.7-12
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2014
A transparent poly methyl methacrylate (PMMA) optical micro-pyramid array-pattern is designed and fabricated using an injection modeling technique. The device's optical characteristics are tested and analyzed theoretically. In the optical pattern generated using the fabricated PMMA pattern, the components, due to not only refraction but also diffraction, are observed simultaneously. Wave optic modeling and analysis reveals that the energy ratio between the diffraction and refraction in the optical pattern are dependent on the critical dimension of the optical pattern such that the refraction and diffraction tend to be directly and inversely proportional to the pattern dimension, respectively.
Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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v.13
no.4
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pp.21-27
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2014
The injection molding process has several advantages enabling it to produce large quantities of molded plastic products using a repetitive process. In recent years, it has been necessary to develop an injection molding process with micro/nano-sized patterns for application to the semiconductor industry and to the bio/nano manufacturing industry. In this study, we apply gas pressure to the inside of a mold and consider the gas dissolution phenomenon for a resin filling into a micro pattern with a line structure. Using numerical analysis, we calculate the filling ratio with respect to time for various internal gas pressures and various aspect ratios of the micro-patterns.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2003.11a
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pp.71-71
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2003
Hot embossing has been widely accepted as an alternative to photolithography in generating patterns on polymeric substrates. The optimization of embossing process should be accomplished based on polymer substrate materials. In this paper, the effect of polymer substrates on nano scale hot embossing process was studied. Silicon molds with nano size patterns were fabricated by e-beam direct writing. Molds were coated with self-assembled monolayer (SAM) of (1, 1, 2.2H -perfluorooctyl)-trichlorosilane to reduce the stiction between mold and substrates. For an embossing, pressure of 55, 75 bur, embossing time of 5 min and temperature of above transition temperature were peformed. Polymethylmethacrylates (PMMA) with different molecular weights of 450,000 and 950,000, MR-I 8010 polymer (Micro Resist Technology) and polyaliphatic imide copolymer were applied for hot embossing process development in nano size. These polymers were spun coated on the Si wafer with the thickness between 150 and 200 nm. The nano size patterns obtained after hot embossing were observed and compared based on the polymer properties by scanning electron microscopy (SEM). The imprinting uniformity dependent on the Pattern density and size was investigated. Four polymers have been evaluated for the nanoimprint By optimizing the process parameters, the four polymers lead to uniform imprint and good pattern profiles. A reduction in the friction for smooth surfaces during demoulding is possible by polymer selection.
This paper addresses effects of nanoscale structures on structural colors of micropatterned transparent substrate by light diffraction. Structural colors is widely investigated because they present colors without any chemical pigments. Typically structural colors is presented by diffraction of light on a micropatterned surface or by multiple interference of light on a surface containing a periodic or quasi-periodic nano-structures. In this paper, each structural colors induced by quasi-periodic nano-structures, periodic micro-structures, and nano/micro dual structures is measured in order to investigate effects of nanoscale and microscale structures on structural colors in the transparent substrate. Using pre-fabricated pattern mold and hot-embossing process, nanoscale and microscale structures are replicated on the transparent PMMA(Poly methyl methacrylate) substrate. Nanoscale and microscale pattern molds are prepared by anodic oxidation process of aluminum sheet and by reactive ion etching process of silicon wafer, respectively. Structural colors are captured by digital camera, and their optical transmittance spectrum are measured by UV/visible spectrometer. From experimental results, we found that nano-structures provide monotonic colors by multiple interference, and micro-structures induce iridescent colors by diffraction of light. Structural colors is permanent and unchangeable, thus it can be used in various application field such as security, color filter and so on.
Recent mold industry uses many roll-to-roll processes that can produce high production speed and precision machining and automation process. In the circular cylinder mold, however, patterns of less than $10{\mu}m$ are difficult to manufacture and maintain. In this study, we fabricated a circular cylindrical mold with a DLC thin film which have high hardness, low coefficient of friction and high releasability by using lithography and lift-off process. The height, line width, and pitch of the fabricated DLC macro pattern are $3.1{\mu}m$, $9.1{\mu}m$ and $20.2{\mu}m$, respectively. The pattern size is finer than the current applied to the aluminum cylinder type, and this shows the possibility of practical use of DLC micro pattern roll mold.
Kim, Chang-Eui;Jeon, Eun-chae;Je, Tae-Jin;Kang, Myung Chang
Journal of Powder Materials
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v.22
no.3
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pp.169-174
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2015
The optical film for light luminance improvement of BLU that is used in LCD/LED and retro-reflective film is used as luminous sign consist of square and triangular pyramid structure pattern based on V-shape micro prism pattern. In this study, we analyzed machining characteristics of Cu-plated flat mold by shaping with diamond tool. First, cutting conditions were optimizing as V-groove machining for the experiment of micro prism structure mold machining with prism pattern shape, cutting force and roughness. Second, the micro prism structure such as square and triangular pyramid pattern were machined by cross machining method with optimizing cutting conditions. Burr and chip shape were discussed with material properties and machining method.
Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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2005.06a
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pp.1531-1534
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2005
Nano pattern is being utilized to produce micro optical components, sensors, and information storage devices. In this study, a study on nano pattern fabrication using raster-scan type Focused Ion Beam (FIB) milling is introduced. Because the intensity of ion beam has Gaussian distribution, the overlapping of the Gaussian beam results in a 3D pattern, and the shape of the pattern can be adjusted by variation of FIB milling parameters, such as overlap, ion dose, and dwell time. The Gaussian shape of single beam intensity has been investigated by experiment, and 3D nano patterns with pitch of 200nm generated by FIB is demonstrated.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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