• 제목/요약/키워드: Laser lithography

검색결과 158건 처리시간 0.033초

DMD를 이용한 마스크리스 리소그래피 시스템의 고해상도 구현을 위한 다중 빔 에너지 분석에 관한 연구 (A Study on the Analysis of Multi-beam Energy for High Resolution with Maskless Lithography System Using DMD)

  • 김종수;신봉철;조용규;조명우;이수진
    • 한국산학기술학회논문지
    • /
    • 제12권2호
    • /
    • pp.829-834
    • /
    • 2011
  • 고 집적 회로의 제작에 있어서 노광 공정은 가장 중요한 기술로 주로 마스크 방식의 노광 방법을 사용하지만 다품종 소량 생산 및 주기적인 제품 변화에 있어서 효율적이지 못하기 때문에 마스크리스 리소그래피 기술이 노광공정에서 각광받고 있다. 본 연구에서는 DMD를 이용한 마스크리스 리소그래피에 있어 다중 레이저 빔의 에너지와 중첩도와의 연관성을 시뮬레이션을 통해 분석하였다. 시뮬레이션을 통해 최적의 스캔 라인 간격을 제시하였고, LDI 시스템을 이용한 노광 실험을 통해 미세 페턴의 정밀도를 향상시킬 수 있었다.

광파장 이하의 주기를 갖는 다결정 실리콘 격자 기반의 컬러필터 (Color Filter Based on a Sub-Wavelength Patterned Poly-Silicon Grating Fabricated using Laser Interference Lithography)

  • 윤여택;이홍식;이상신;김상훈;박주도;이기동
    • 한국광학회지
    • /
    • 제19권1호
    • /
    • pp.20-24
    • /
    • 2008
  • 본 논문에서는 광파장 이하의 주기를 갖는 다결정 실리콘1차원 격자 기반의 컬러필터를 제안하고 구현하였다. 이 소자는 레이저 간섭 리소그래피 방식을 도입하여 제작되었으며, 기존의 전자빔 리소그래피 방식에 비해 훨씬 큰 유효 면적을 얻을 수 있었다. 특히, 실리콘 격자 층 상부에 산화막을 도입하여 마스크 층으로 활용함으로써 실리콘의 식각 깊이를 용이하게 조절할 수 있었고, 또한 필터의 컷오프 특성을 개선할 수 있었다. 설계된 소자의 파라미터는 실리콘 박막 두께 100 nm, 산화막 두께 200 nm, 격자 주기 450 nm였다. 제작된 청색 컬러필터의 중심파장은 470 nm이고 투과율은 약 40%였다. 그리고 유효 면적 $3mm{\times}3mm$ 내에서 중심파장의 변화는 2 nm 이하, 상대적인 투과율 변화는 <10%였다. 그리고 빔의 입사각에 대한 상대적인 투과율 변화는 약 1.5%/degree였다.

레이저-플라즈마를 이용한 X-선 레이저의 연구 (X-ray laser development using laser-produced plasmas)

  • 남창희
    • 한국광학회지
    • /
    • 제3권1호
    • /
    • pp.67-72
    • /
    • 1992
  • 7년전 두 개의 그룹에 의해 강한 증폭된 자발 방출이 200.angs. 영역에서 관찰된 이래, 증폭도의 증가와 작동 파장영역의 확장등에서 세계적으로 많은 X-선 레이저 연구가 이루어져 왔다. X-선 레이저의 개발은 살아있는 생체조직을 고분해능으로 관찰할 수 있는 X-선 현미경 기술, 세포의 3차원 상을 가능케 하는 X-선 홀로그래피 기술, 고밀도 플라즈마의 진단 등의 여러 분야에 응용될 것이다. 국내에서도 기초적인 X-선 레이저 개발에 대한 연구가 과학기술원과 포항공과대학에서 시작되고 있어 곧 고무적인 연구결과가 나올 것으로 기대된다.

  • PDF

Recent development of polymer optical circuits for the next generation fiber to the home system

  • Kaino, Toshikuni
    • 한국고분자학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국고분자학회 2006년도 IUPAC International Symposium on Advanced Polymers for Emerging Technologies
    • /
    • pp.13-14
    • /
    • 2006
  • The use of soft-lithography instead of standard photolithography and dry etching technologies is attractive because inexpensive optical device can be realized. Polymerization using multi-photon absorption of materials is also a good method for optical waveguide fabrication. Laser induced self-writing technology of optical waveguide is also very simple and attractive. Using these processes, we can fabricate and interconnect optical circuits at once. In this presentation, several simple fabrication methods will be introduced. New optical loss evaluation method for polymer optical waveguides will also be presented

  • PDF

유기 자기조립 단분자막을 이용한 레이저 포토패터닝 기술 (Laser Photo Patterning Using Organic Self-Assembled Monolayers)

  • 최무진;장원석;신보성;김재구;황경현
    • 한국광학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국광학회 2003년도 하계학술발표회
    • /
    • pp.288-289
    • /
    • 2003
  • 금속 박막 위의 알칸티올분자의 흡착에 의한 자기조립단분자막(SAMs)은 접착 방지, 마찰 저하 등의 기능을 가진 코팅층으로서의 응용과 분자 또는 생분자의 미세 구조물 형성을 위한 방법으로 널리 연구되어지고 있다. 이러한 연구 중에서 자기조림단분자막(SAMs)의 매우 얇은 두께(수 nm)의 특성을 활용하여 AFM tip Scratching Lithography 또는 알칸티올 포토패터닝(alkanethiol Photopatterning) 방법을 사용함으로써 microscale의 패턴을 형성하는 연구 결과가 많은 이들의 관심을 받아왔다. (중략)

  • PDF

근접상 주사 현미경(NSOM)을 이용한 금(Au)나노입자의 패터닝과 기술응용 (Nano-scale Au nanopaticles Pattern and Application by Using NSOM Lithography)

  • 허갑수;장원석
    • 한국정밀공학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국정밀공학회 2005년도 춘계학술대회 논문집
    • /
    • pp.1539-1542
    • /
    • 2005
  • Self-assembled monolayers (SAMs) formed by the adsorption of alkanethiols, $HS(CH_2)_nX$, where X is an organic functional group, onto gold surfaces have attracted widespread interest as templates for the fabrication of molecular and biomolecular microstructures. Previously photopatterning has been thought of as being restricted to the micron scale, because of the wellknown diffraction limit. So, we have explored a novel approach to nanofabrication by utilizing a femtosecond laser coupled to a near-field scanning optical microscope (NSOM).

  • PDF

Amorphous chalcogenide 박막의 $Ag^+$ 의존적 회절효율 특성에 관한 연 구 (A Study of Diffraction Efficiency Depended on $Ag^+$ of Amorphous Chalcogenide Thin Films)

  • 정원국;남기현;정홍배
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국전기전자재료학회 2010년도 하계학술대회 논문집
    • /
    • pp.134-134
    • /
    • 2010
  • We have investigated the holographic grating formation on Ag-doped amorphous chalcogenide AsGeSeS thin films with Ag thickness. Holographic gratings have been formed using Diode Pumped Solid State laser (DPSS, 532.0nm) under [P:P] polarized the intensity polarization holography. The diffraction efficiency was obtained by +1st order intensity.

  • PDF

속 빈 레이저 빔을 이용한 원자 가이드 (Hollow Beam Atom Tunnel)

  • 송연호
    • 한국광학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국광학회 2000년도 제11회 정기총회 및 00년 동계학술발표회 논문집
    • /
    • pp.130-131
    • /
    • 2000
  • One of the more promising proposals for guiding and focusing neutral atoms involves dark hollow laser beams. When the frequency of the laser is detuned to the blue of resonance, the dipole force the atoms feel in the light confines them to the dark core where the atoms can be transported with minimal interaction with the light. The ability of the all-light atom guides to transport large number of ultracold atoms for long distances without physical walls leads to the possibility of a versatile tool for atom lithography, atom interferometry, atomic spectroscopy as well as for transporting and manipulating Bose-Einstein condensates. Furthermore since the atoms transported in all-light atom guides do not come into contact with matter, they can in principle be used to transport antimatter as well. The ability to vary the core size of the hollow beam makes the all-light atom guide potentially useful for focusing neutral atoms. The atoms could be focused as tight as the core size of the hollow beam at its waist. This new focusing scheme, called the atom funnel, would not show spherical and chromatic aberrations that conventional harmonic focusing suffers from. (omitted)

  • PDF

비선형 단결정 $LiB_{3}O_{5}$$CsLiB_{6}O_{10}$을 이용한 Nd:YAG 레이저의 4차 및 5차 조화파 발생 (Fourth and Fifth Harmonic Generations of an Nd:YAG Laser using Nonlinear Optical $LiB_{3}O_{5}$ and $CsLiB_{6}O_{10}$ Crystals)

  • Jang Jong Hun;Kim Ji Won;Yun Chun Seop
    • 한국광학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국광학회 2003년도 제14회 정기총회 및 03년 동계학술발표회
    • /
    • pp.234-235
    • /
    • 2003
  • All solid-state UV lasers provide efficient, clean and semipermanent light sources for various applications, such as eye surgery, microchip lithography. $CsLiB_{6}O_{10}$ (CLBO) is one of the most suitable crystals for UV generation because of its small walk-off, large effective nonlinear susceptibility in UV region and high damage threshold. We produced fourth (266 nm) and fifth (213 nm) harmonic generation of an Nd:YAG laser (1064 nm) with $LiB_{3}O_{5}$ as a second harmonic generation medium and CLBO as a fourth harmonic and fifth harmonic mediums. (omitted)

  • PDF

양자교환된 LiNbO$_{3}$에서 박막도파형 음향광학 광변위기 (Thin film acoustooptic beam deflector in proton-exchanged LiNbO$_{3}$)

  • 김성국;백운석;김광택;정성갑;송재원
    • 전자공학회논문지A
    • /
    • 제32A권7호
    • /
    • pp.94-103
    • /
    • 1995
  • Thin film acoustooptic beam deflector in proton-exchanged Y-cut LiNbO$_{3}$ was fabricated and measured. The planar waveguide was fabricated by using the proton-exchanged and annealing method in Y0cut LiNbO$_{3}$. Interdigital transducer for SAW(surface acoustic wave) was made by the laser lithography. Using above method, the thin film acoustooptic beam deflector was constructed. Its SAW wavelength was 20.mu.m at 174MHz center frequency. The interaction length between guided optical wave and SAW was 2.16mm. The measured 3dB bandwidth was 17MHz using He-Ne laser. And 70% diffraction efficiency was obtained at 970mW RF driving power.

  • PDF