본 연구에서는 LCD, 이미지 센서 등의 개별 소자인 비정질 실리콘 박막 트랜지스터에서 게이트 유전층 및 절연층으로 사용되는 비정질 질화 실리콘 박막을 사일렌$(SiH_4)$ 및 암모니아가스를 사용해서 PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 진공 증착장비로 최적의 비정질질화실리콘 박막 증착 조건을 확립한다. 먼저 반응실의 진공도, rf 전력 , $SiH_4$ 및 질소 그리고 암모니아가스의 flow rate를 변화시키면서 형성된 박막의 특성을 조사한다. 계속해서 다른 변수를 고정시킨 상태에서 rf 전력을 변화시키고 다음에는 반응실의 진공도 등을 변화시켜 최적의 증착조건을 확립한다. 이렇게 확립된 증착조건을 사용하여 비정질질화실리콘박막을 제작하여 특성을 측정한결과 우수한 성능을 나타냈음을 확인하였다.
The size of TV and TFT-LCD are bigger and bigger for the next generation exposure equipment install that existing fab are getting a lot of additions. When the new fab build an extension that the shortening of the construction and non-vibration are use cast in place concrete pile method. In this study when lay the foundation of existing fab adjoin use vibration monitoring system are rotator type all casing method among cast in place concrete pile method. The evaluation of ground vibration of rotator type all casing method effect to precision equipment and vibration area of influence.
Recently, high vacuum pumps are widely used in the semi-conduction and liquid-crystal display ( LCD ) process. The composite-type high vacuum pumps are widely used in the various processes. In this study, the pumping performance of composite-type molecular pumps has been investigated experimentally. The experimented pumps are a compound molecular pump ( CMP ) and hybrid molecular pump ( HMP ). The CMP consists with helical-type drag pump, at lower part, and with turbomolecular pump ( TMP ), at upper part. The HMP consists with disk-type drag pump, at lower part, and with TMP, at upper part. The experiments are performed in the outlet pressure of $0.2\;{\sim}\;533\;Pa$. We have measured the ultimate pressure, compression ratio, and pumping speed
Nowadays laser cutting is the most promising method of cutting FPD(Flat Panel Display) glass in mass-production line. And this method can also be used to cut other brittle materials such as quartz, sapphire, ceramic and semiconductor The concept of this method is shown in picture 1. Laser beam heats glass up to strain point, not to melting point and cooling system chills glass to induce maximun thermal stress in glass surface and then the thermal stress generates micro thermal crack, in other words blind depth of crack, along laser beam and cooling line.
최근 IC 설계 및 제조 기술의 급격한 진보에 따라 PC 보급이 포화상태에 이르면서 가전제품으로서 첨단을 자랑하던 PC가 일반 가정에서 TV의 보급률과 비슷해지며 대중화에 되어가고 있다. 이에 따라 임베디드 시스템 기술이 PC뿐 아니라 정보 가전, 정보 단말, 통신 장비, 항공, 군사, 물류, 금융, 차량, 교통, 사무 사업 제어 의료 등 전 분야에 걸쳐 다양하게 적용되고 있는 실정이다. 본 논문에서는 이러한 임베디드 시스템에서의 여러 디바이스를 효율적으로 관리하기 위한 한 가지 기법으로 프레임버퍼를 이용한 디바이스 통합 제어 모듈을 설계 및 구현하였다. 본 논문에서 제안하는 기법은 임베디드 시스템에서 사용자 인터페이스로만 부각되던 LCD 화면을 통해서 임베디드 시스템의 각종 디바이스를 진단하고 제어할 수 있게 하여 특별한 외부 장치 없이 곧바로 디버깅이 가능하도록 하였다.
본고에서는 비/저활용(57-66GHz) 대역에 대한 새로운 주파수 자원을 개척하여 HDTV급 신호를 케이블 및 위성방송 셋톱박스, 게임콘솔, DVD플레이어, 캠코더 및 이동식 멀티미디어 장비와 무선으로 연결시키는 전송 기술 개발을 위하여 Intel, Philips, Motorola, IBM, SiBeam, Panasonic, Sony등 세계적인 기업들이 국제 표준화(IEEE802.15, ETSI/BRAN, ECMA International) 공동 협력 및 기술 개발 경쟁을 벌이고 있는 상황이다. 본 표준기술은 국내 기업이 세계 시장을 장악하고 있는 LCD, PDP 및 차세대 DVD플레이어 등에 적용될 Wireless HD-SDI(High Definition Serial Data Interface)/ DVI(Digital Visual Interface)와, 외장 하드 디스크, 메모리 등 외부 기억 장치와의 자원 공유에 사용될 Muti-Gbps급 Wireless LAN, Wireless PAN, Wireless SAN(System Area Network) 등에 적용될 무선 전송 기술이다. 비/저활용 $59{\sim}66GHz$ 대역에 대한 국제 표준화로 IEEE802.15.3c를 중심으로 활발히 일어나고 있는 표준기술과 표준화 동향을 살펴본다.
최근, LCD(Liquid Crystal Display) 산업에서 클린룸의 규모가 커짐에 따라 Stocker 시스템의 사이즈가 커지고 길이가 장거리화 되고 있다. 이에 제조업체는 생산수율을 높이기 위해 Stocker 시스템의 전체 택타임을 줄이기 위한 방안으로 Stocker 시스템의 속도를 증가시키도록 요구하고 있다. 또한, 제조업체는 고유가 시대에 여러 장비들에 대한 에너지 절약을 통한 공장 운영비용이 최소화되도록 요구하고 있다. 따라서 본 논문은 차세대 Stocker 시스템의 에너지 절감과 이송 속도증가에 따른 비접촉 전원시스템의 최적설계를 제안하고, 에너지 절감을 위한 비접촉 전원시스템의 시제품을 제작하여 부하인 크레인의 여러 운전 패턴에 따른 비접촉 전원시스템의 실증시험과 입/출력 특성, 효율 개선에 따른 비접촉 전원시스템을 개발하여 에너지 절감 효과에 대하여 서술하였다.
현재까지 대부분의 반도체 공정이나 LCD 공정에 사용되는 플라즈마는 진공 플라즈마이다. 이는 대기압에서의 플라즈마 발생의 어려움, 공정 품질 등이 원인이기도 하다. 그러나 진공 장비의 고가 및 진공 시스템 부피의 거대화 등의 많은 단점이 있다. 현재의 진공 플라즈마공정을 대기압 플라즈마 공정으로 대체 할 수 있다면 많은 경제적인 이득을 얻을 수 있을 것이다. 본 연구실에서 개발한 직류아크 플라즈마트론은 기존의 대기압 플라즈마 장치에 비해 수명이 길고, 광학적으로 깨끗하고, 활성도가 높은 플라즈마를 얻을 수 있는 장점이 있다. 직류아크 플라즈마트론의 식각공정에 적용을 위해 플라즈마트론을 저 진공 및 대기압에서 적용하여 실험하였다. 식각 가스로는 SF6를 사용하였고, Ar과 O2를 혼합하여 플라즈마트론의 음극 보호 및 식각률을 높이도록 하였다. 실험결과 저진공 플라즈마의 경우, 플라즈마 영역이 20 cm를 넘는 반면, 대기압에서는 플라즈마 유효 길이가 약 20 mm로 매우 짧았다. 하지만 저 진공(~ 3 mbar)에 적용하여 최대 $60\;{\mu}m/min$의 식각률을 보였고, 대기압 플라즈마의 경우 $300\;{\mu}m/min$ 넘는 식각률을 달성하였다.
반도체와 LCD 산업분야, 나노급 공정 및 검사기술이 요구되는 산업분야의 수요증가에 따라 초정밀 가공/생산/검사 장비를 설치, 운용하는 FAB. 구조물의 설계요구가 증대되고 있으며, 건물의 환경진동 규제치도 강화되고 있는 실정이다. 이와 같은 대형 구조물에서의 서브 마이크로 수준의 미진동(微振動)을 제어하는 문제는 진동 응답을 결정하는 구조와 재료가 복잡하고 다양한 형태를 갖고 있는 반면, 다루어야 할 동적 응답은 극한적으로 작은 마이크로 이하의 값을 다루어야 하기 때문에 매우 어렵다. 따라서 기존에 이용되고 있는 해석과 실험의 결과만으로는 신모델 설계에 적용하기 어렵다. 따라서, 본 논문에서는 실험적 데이터와 경험적 데이터들을 기반으로 구축된 데이터베이스를 이용하여 새로운 초정밀 FAB. 동적 구조 설계 시스템을 구현한다.
반도체와 LCD 산업 분야, 나노급 공정 및 검사 기술이 요구되는 산업 분야의 수요 증가에 따라 초정밀 가공/생산/검사 장비를 설치, 운용하는 FAB. 구조물의 설계 요구가 층증대 되고 있다. 이에 따라 건물의 환경진동 규제치도 강화되고 있는 실정이다. 이와 같은, 대형 구조물에서 서브마이크로 수준의 미진동(微振動)을 제어하는 문제는 여전히 어려운 과제로 남아 있다. 이는 진동 응답을 결정하는 구조와 재료가 복잡하고 다양한 형태를 갖고 있는 반면, 다루어야 할 동적 응답은 극한적으로 작은 마이크로(micro) 이하의 값을 다루어야 한다. 그러므로, 기존에 이용되고 있는 해석과 실험의 결과만으로는 신모델 설계에 적용하는 것은 어렵다. 따라서, 본 논문에서는 이러한 영역의 경험적 데이터물을 체계적인 데이터베이스로 구축하여 새로운 동적 구조 설계 기술의 기반을 제공하고자 한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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