Proceedings of the Korean Institute of Navigation and Port Research Conference
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2000.11a
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pp.108-111
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2000
Bi2212 and Bi2223 thin films are fabricated by ion beam sputtering method. Three phases of Bi2201, Bi2212 and Bi2223 appear as stable ones in spite of the condition for thin film fabrication of Bi2212 and bi2223 compositions, depending on substrate temperature(T$\sub$sub/) and ozone pressure (PO$_3$). It is found out that these phases show similar T$\sub$sub/ and PO$_3$dependence, and that the stable regions of these phases are limited within very narrow temperature.
The effect of liquid crystal (LC) alignment on a homeotropic polyimide (PI) surface induced by ion beam (IB) irradiation and rubbing process was studied. LC alignment was not affected by IB irradiation with an exposure time of 10 s, and an IB irradiation with an exposure time of 60 s more effectively oriented the LCs on the PI layer than the rubbing process. It was assumed that the LC alignment depended on the C-O bonds created from the C=O bonds on the PI surface broken by IB irradiation after an exposure time of 60 s, which resulted in a strong surface energy that transformed the homeotropic LC alignment to homogeneous states.
Kim, Kyung-Chan;Ahn, Han-Jin;Kim, Jong-Bok;Hwang, Byung-Har;Baik, Hong-Koo
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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2005.07a
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pp.328-329
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2005
Inorganic alignment layer (IAL) was deposited on an indium-tin-oxide (ITO) by using reactive sputtering deposition method. After deposited, IAL was irradiated by $Ar^+$ ion beam (IB) for liquid crystal (LC) alignment. IAL treated by various conditions such as IB energy, IB incident angle, and IB irradiation time had excellent alignment property and electro-optical property the same as that of PI. We investigated into the stability of ion beam treated IAL after a lapse of long time. However IAL irradiated IB did not occur degradation of electro-optical property. The results implied that IAL irradiated IB was adopted as LC alignment layer instead of rubbed polyimide.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.1
no.4
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pp.7-10
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2000
Bi$_2$Sr$_2$CuI$\_$x/(Bi(2001)) thin films are fabricated by atomic layer by layer deposition using ion beam sputtering(IBS) method. During the deposition , 10 %-ozone/oxygen mixture gas of typical 25.0$\times$10$\^$-5/ Torr is applied with ultraviolet light irradiation for oxidation. XRD and RHEED investigations reveal out that a buffer layer with some different compositions is formed at the early deposition stage of less then 10 units cell and then c-axis oriented Bi(2201) is grown.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2000.11a
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pp.108-111
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2000
Bi2212 and Bi2223 thin films are fabricated by ion beam sputtering method. Three phases of Bi2201, Bi2212 and Bi2223 appear as stable ones in spite of the condition for thin film fabrication of Bi2212 and bi2223 compositions, depending on substrate temperature(T$\sub$sub/) and ozone pressure (PO$_3$). It is found out that these phases show similar T$\sub$sub/ and PO$_3$ dependence, and that the stable regions of these phases are limited within very narrow temperature.
The plasma-spray technique is currently the most frequently used method to produce calcium phosphate coatings. Hydroxyapatite(HAp), one form of calcium phosphate, is preferred by its ability to form a direct bond with living bone, resulting in improvements of implant fixation and faster bone healing. Recently, concerns have been raised regarding the viable use and long-term stability of plasma-spray HAp coatings due to its nature of comparatively thick, porous, and poor bonding strength to metal implants. Thin layers (maximum of few microns) of calcium phosphate were formed by an e-beam evaporation with and without ion bombardments. The Ca/P ration of film was controlled by either using the evaporants having the different ration of Ca/P with addition of CaO, or adjusting the ion beam assist current. The Ca/P ration had great effects on the structure formation after heat treatment and the dissolution bahavior. The calcium phosphate films produced by IBAD exhibited high adhesion strength.
Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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2011.10a
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pp.7-7
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2011
Quantum beam technology has been expected to develop breakthroughs for nanotechnology during the third basic plan of science and technology (2006~2010). Recently, Green- or Life Innovations has taken over the national interests in the fourth basic science and technology plan (2011~2015). The NIMS (National Institute for Materials Science) has been conducting the corresponding mid-term research plans, as well as other national projects, such as nano-Green project (Global Research for Environment and Energy based on Nanomaterials science). In this lecture, the research trends in Japan and NIMS are firstly reviewed, and the typical achievements are highlighted over key nanotechnology fields. As one of the key nanotechnologies, the quantum beam research in NIMS focused on synchrotron radiation, neutron beams and ion/atom beams, having complementary attributes. The facilities used are SPring-8, nuclear reactor JRR-3, pulsed neutron source J-PARC and ion-laser-combined beams as well as excited atomic beams. Materials studied are typically fuel cell materials, superconducting/magnetic/multi-ferroic materials, quasicrystals, thermoelectric materials, precipitation-hardened steels, nanoparticle-dispersed materials. Here, we introduce a few topics of neutron scattering and ion beam nanofabrication. For neutron powder diffraction, the NIMS has developed multi-purpose pattern fitting software, post RIETAN2000. An ionic conductor, doped Pr2NiO4, which is a candidate for fuel-cell material, was analyzed by neutron powder diffraction with the software developed. The nuclear-density distribution derived revealed the two-dimensional network of the diffusion paths of oxygen ions at high temperatures. Using the high sensitivity of neutron beams for light elements, hydrogen states in a precipitation-strengthened steel were successfully evaluated. The small-angle neutron scattering (SANS) demonstrated the sensitive detection of hydrogen atoms trapped at the interfaces of nano-sized NbC. This result provides evidence for hydrogen embrittlement due to trapped hydrogen at precipitates. The ion beam technology can give novel functionality on a nano-scale and is targeting applications in plasmonics, ultra-fast optical communications, high-density recording and bio-patterning. The technologies developed are an ion-and-laser combined irradiation method for spatial control of nanoparticles, and a nano-masked ion irradiation method for patterning. Furthermore, we succeeded in implanting a wide-area nanopattern using nano-masks of anodic porous alumina. The patterning of ion implantation will be further applied for controlling protein adhesivity of biopolymers. It has thus been demonstrated that the quantum beam-based nanotechnology will lead the innovations both for nano-characterization and nano-fabrication.
International Journal of Precision Engineering and Manufacturing
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v.7
no.4
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pp.18-22
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2006
Although many efforts have been made in making nanometer-sized holes, there is still a major challenge in fabricating individual single-digit nanometer holes in a more controllable way for different materials, size distribution and hole shapes. In this paper we describe our efforts to use a top down approach in nanofabrication method to make single-digit nanoholes. There are three major steps towards the fabrication of a single-digit nanohole. 1) Preparing the freestanding thin film by epitaxial deposition and electrochemical etching. 2) Making sub-micro holes ($0.2{\mu}\;to\;0.02{\mu}$) by focused ion beam (FIB), electron beam (EB), atomic force microscope (AFM), and others methods. 3) Reducing the hole size to less than 10 nm by epitaxial deposition, FIB or EB induced deposition and micro coating. Preliminary work has been done on thin films (30 nm in thickness) preparation, sub-micron hole fabrication, and E-beam induced deposition. The results are very promising.
Micropatterns of streptavidin and human epidermal carcinoma A431 cells were successfully imaged, as received and without any labeling, using cluster $Au_3{^+}$ ion beam-based time-of-flight secondary ion mass spectrometry (TOF-SIMS) together with a principal component analysis (PCA). Three different analysis ion beams ($Ga^+$, $Au^+$ and $Au_3{^+}$) were compared to obtain label-free TOF-SIMS chemical images of micropatterns of streptavidin, which were subsequently used for generating cell patterns. The image of the total positive ions obtained by the $Au_3{^+}$ primary ion beam corresponded to the actual image of micropatterns of streptavidin, whereas the total positive-ion images by $Ga^+$ or $Au^+$ primary ion beams did not. A PCA of the TOF-SIMS spectra was initially performed to identify characteristic secondary ions of streptavidin. Chemical images of each characteristic ion were reconstructed from the raw data and used in the second PCA run, which resulted in a contrasted - and corrected - image of the micropatterns of streptavidin by the $Ga^+$ and $Au^+$ ion beams. The findings herein suggest that using cluster-ion analysis beams and multivariate data analysis for TOF-SIMS chemical imaging would be an effectual method for producing label-free chemical images of micropatterns of biomolecules, including proteins and cells.
IBED is a very promosing thin film deposition method because of its many advantages, such as excellent adhesion property of films to substrates, room temperature processing, ease of control over the composition and thickness of films, and so on, over the conventional techniques, It has been widely applied in the field of surface modification of materials in the last decade. In our laboratory, many kinds of thin films, such as wear-resistant hard coatings, corrosion and oxidation protective coatings, biomaterial films, buffer layer for high temperature superconductor films, and oxygen sensitive film, have been synthesized by IBED, and several industrial applications of the IBED films have been conducted.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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