Silicon Oxidation in Inductively-Coupled N2O Plasma and its Effect on Polycrystalline-Silicon Thin Film Transistors (유도결합 N2O 플라즈마를 이용한 실리콘 산화막의 저온성장과 다결정 실리콘 박막 트랜지스터에의 영향)
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- Korean Journal of Materials Research
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- v.12 no.9
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- pp.724-728
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- 2002