Cheong, Il Yeop;Cho, Kyung In;Cheong, Sang Hyuk;Park, Hyo Nam;Song, Ki Chang
Korean Chemical Engineering Research
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v.45
no.4
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pp.335-339
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2007
In order to overcome the problem of poor hardness of transparent polycarbonate (PC) sheets, organic-inorganic hybrid hard coating solutions, which show a high refractive index above 1.58, were made by the sol-gel method. These hybrid coating solutions were obtained from mixture of titanium tetraisopropoxide (TTIP), and (3-glycidoxypropyl)trimethoxysilane (GPTMS). The PC sheets were spin-coated, and cured at $120^{\circ}C$ for 2 hr. Change of refractive index in the range of 1.53-1.61 was obtained by varying the GPTMS content. The refractive index of the coated film decreased with increasing the GPTMS content, while the pencil hardness of the coated film was found to increase with increasing the GPTMS content.
Kim, Jung-Ju;Lee, Jung-Hyun;Lee, Yoon-Joo;Kwon, Woo-Teck;Kim, Soo-Ryong;Choi, Doo-Jin;Kim, Hyung-Sun;Kim, Young-Hee
Journal of the Korean Ceramic Society
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v.48
no.6
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pp.499-503
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2011
Recently, variety of organic and inorganic hybrid materials have recently investigated as alternative routes to SiOC, $SiO_2$ thin film formation at low temperatures for applications in electronic ceramics. Specially, silicon based polymers, such as polycarbosilane, polysilane and polysilazane derivatives have been studied for use in electronic ceramics and have been applied as dielectric or insulating materials. In this study, Polycarbosilane(PCS), which Si-$CH_2$-Si bonds build up the backbone of the polymer, has been investigated as low-k materials using a solution process. After heat treatment at 350$^{\circ}C$ under $N_2$ atmosphere, chemical composition and dielectric constant of the thin film were $SiO_{0.27}C_{1.94}$ and 1.2, respectively. Mechanical property measured using nanoindentor shows 1.37 GPa.
The SiOC film of carbon centered system was prepared using bistrimethylsilylmethane and oxygen mixed precursor by the chemical vapor deposition. The chemical properties of the SiOC film were analyzed by the I-V measurement and FTIR spectra analysis. The main bond of $950{\sim}1200cm^{-1}$ was composed of the Si-C, Si-O-C and Si-O bonds. The leakage current of the SiOC film increased with the increasing of the carbon content, and the drift of the current was in proportion to the Si-O-C bond content. The deconvoluted data of FTIR spectra could be classified the three types such as organic, hybrid and inorganic types, and the contact angle showed the difference of three types.
Kim, D.I.;Seol, Y.G.;Lee, N.E.;Woo, C.H.;Ahn, C.H.;Ch, H.K.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.479-479
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2011
Flexible inverters based on complementary thin-film transistor (CTFTs) are important because they have low power consumption and other advantages over single type TFT inverters. In addition, integrated CTFTs in flexible electronic circuits on low-cost, large area and mechanically flexible substrates have potentials in various applications such as radio-frequency identification tags (RFIDs), sensors, and backplanes for flexible displays. In this work, we introduce flexible complementary inverters using pentacene and amorphous indium gallium zinc oxide (IGZO) for the p-channel and n-channel, respectively. The CTFTs were fabricated on polyimide (PI) substrate. Firstly, a thin poly-4-vinyl phenol (PVP) layer was spin coated on PI substrate to make a smooth surface with rms surface roughness of 0.3 nm, which was required to grow high quality IGZO layers. Then, Ni gate electrode was deposited on the PVP layer by e-beam evaporator. 400-nm-thick PVP and 20-nm-thick ALD Al2O3 dielectric was deposited in sequence as a double gate dielectric layer for high flexibility and low leakage current. Then, IGZO and pentacene semiconductor layers were deposited by rf sputter and thermal evaporator, respectively, using shadow masks. Finally, Al and Au source/drain electrodes of 70 nm were respectively deposited on each semiconductor layer using shadow masks by thermal evaporator. Basic electrical characteristics of individual transistors and the whole CTFTs were measured by a semiconductor parameter analyzer (HP4145B, Agilent Technologies) at room temperature in the dark. Performance of those devices then was measured under static and dynamic mechanical deformation. Effects of cyclic bending were also examined. The voltage transfer characteristics (Vout- Vin) and voltage gain (-dVout/dVin) of flexible inverter circuit were analyzed and the effects of mechanical bending will be discussed in detail.
Cho, Doo-Hee;Shin, Jin-Wook;Moon, Jaehyun;Park, Seung Koo;Joo, Chul Woong;Cho, Nam Sung;Huh, Jin Woo;Han, Jun-Han;Lee, Jonghee;Chu, Hye Yong;Lee, Jeong-Ik
ETRI Journal
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v.36
no.5
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pp.847-855
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2014
We developed a highly refractive index planarization layer showing a very smooth surface for organic light-emitting diode (OLED) light extraction, and we successfully prepared a highly efficient white OLED device with an embossed nano-structure and highly refractive index planarization layers. White OLEDs act as an internal out-coupling layer. We used a spin-coating method and two types of $TiO_2$ solutions for a planarization of the embossed nano-structure on a glass substrate. The first $TiO_2$ solution was $TiO_2$ sol, which consists of $TiO_2$ colloidal particles in an acidic aqueous solution and several organic additives. The second solution was an organic and inorganic hybrid solution of $TiO_2$. The surface roughness ($R_a$) and refractive index of the $TiO_2$ planarization films on a flat glass were 0.4 nm and 2.0 at 550 nm, respectively. The J-V characteristics of the OLED including the embossed nano-structure and the $TiO_2$ planarization film were almost the same as those of an OLED with a flat glass, and the luminous efficacy of the aforementioned OLED was enhanced by 34% compared to that of an OLED with a flat glass.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.21
no.12
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pp.1083-1089
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2008
We studied the dielectric characteristics of low-k SiOCH thin films by Ellipsometry. The SiOCH thin films were prepared by deposition of BTMSM precursors on p-Si wafer by CCP-PECVD method. The nano-porous structural organic/inorganic hybrid-type of SiOCH thin films correlated directly to the formation of low dielectrics close to pore(k=1). The structural groups including highly dense pores in SiOCH thin films originated the anisotropic geometry type of network structure directing to complex refractive characteristics of SiOCH single layer on the p-Si wafer. The linearly polarized beam of Xe-ramp in the range from 190 nm to 2100 nm introduced to the surface of SiOCH thin film, and the reflected beam was Elliptically polarized by complex refractive coefficients of SiOCH dipole groups. The amplitude variation $\Psi$ and phase variation $\Delta$ of the relative reflective coefficients between perpendicular and parallel components to the incident plane were measured by Ellipsometry. The complex optical constants n and k as well as the dielectric constant and thickness of SiOCH thin films were driven by the measured value of $\Psi$ and $\Delta$.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.23
no.3
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pp.228-233
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2010
We studied the optical characteristics correlated with low dielectric constants of low-k SiOCH thin films through ellipsometry. The low-k SiOCH thin films were prepared by CCP-PECVD method using BTMSM(Bis-trimethylsilylmethane) precursors deposited on p-Si wafer. The Si-O-CHx, Si-O-Si, Si-CHx, CHx and Si-H bonding groups were specified by FTIR spectroscopic spectra, and the groups coupled with the nano-porous structural organic/inorganic hybrid-type of SiOCH thin films which has extremely low dielectric constant close to 2.0. The structural groups includes highly dense pore as well as ions in SiOCH thin films affecting to complex refraction characteristics of single layer on the p-Si wafer. The structural complexity originate the complex refractive constants of the films, and resulted the elliptical polarization of the incident linearly polarized light source of Xe-light source in the range from 190 nm to 2100 nm. Phase difference and amplitude ratio between s wave and p wave propagating through SiOCH thin film was studied. After annealing, the amplitude of p wave was reduced more than s wave, and phase difference between p and s wave was also reduced.
UV-curable hydrophilic coating solutions were prepared by mixing colloidal silica dispersed in alcohol with an acrylic monomer, pentaerythritol triacrylate (PETA). Hydrophilic coating films were also prepared by spin coating the hydrophilic coating solutions on PC substrates and UV curing for 10 minutes subsequently. The effect of the amount of colloidal silica in the coating solutions, which was varied from 10 g to 50 g, was investigated on the hydrophilic properties of UV-cured coating films. The results showed that the amount of colloidal silica had a great influence on the hydrophilic properties of UV-cured coating films and the coating film prepared with 30 g of colloidal silica showed a lowest contact angle of $37^{\circ}$ and an excellent pencil hardness of H.
Kim, Jin-Ho;Lee, Kwang-Hee;Lee, Mi-Jai;Hwang, Jonghee;Lim, Tae-Young
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.23
no.5
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pp.230-234
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2013
IR cut-off thin films consisted of ATO nanoparticles were successfully fabricated by sol-gel method. The coating solution was synthesized with organic/inorganic hybrid binder and ATO colloidal solution and ATO thin films were coated on a slide glass with the withdrawal speed of 5~40 mm/s. As the withdrawal speed increased from 5 mm/s to 40 mm/s, the thickness of coating thin films also increased from $1.05{\mu}m$ to $4.25{\mu}m$ and the IR cut-off in wavelength of 780~2500 nm increased from 49.5 % to 66.7 %. In addition, the pencil hardness of ATO thin films dried at $80^{\circ}C$ was ca. 5H and the coating films were not removed after a cross cutter tape test because of the hybrid binder synthesized with tetraethylorthosilicate and methyltrimethoxysilane. The surface morphologies, optical properties and film thickness of prepared thin films with a different withdrawal speed were measured by field emission scanning electron microscope (FE-SEM), UV-Vis spectrophotometer, and Dektak.
Ha, Jae-jun;Lee, Jun-hyuk;Oh, Ju-young;Lee, Dong-geun
The Journal of the Korea Contents Association
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v.22
no.7
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pp.55-62
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2022
The perovskite solar cell is an active part of research in renewable energy fields such as solar energy, wind, hydroelectric power, marine energy, bioenergy, and hydrogen energy to replace fossil fuels such as oil, coal, and natural gas, which will gradually disappear as power demand increases due to the increase in use of the Internet of Things and Virtual environments due to the 4th industrial revolution. The perovskite solar cell is a solar cell device using an organic-inorganic hybrid material having a perovskite structure, and has advantages of replacing existing silicon solar cells with high efficiency, low cost solutions, and low temperature processes. In order to optimize the light absorption layer thin film predicted by the existing empirical method, reliability must be verified through device characteristics evaluation. However, since it costs a lot to evaluate the characteristics of the light-absorbing layer thin film device, the number of tests is limited. In order to solve this problem, the development and applicability of a clear and valid model using machine learning or artificial intelligence model as an auxiliary means for optimizing the light absorption layer thin film are considered infinite. In this study, to estimate the light absorption layer thin-film optimization of perovskite solar cells, the regression models of the support vector machine's linear kernel, R.B.F kernel, polynomial kernel, and sigmoid kernel were compared to verify the accuracy difference for each kernel function.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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