• 제목/요약/키워드: In situ formation

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Magnetoresistance of Bi Nanowires Grown by On-Film Formation of Nanowires for In-situ Self-assembled Interconnection

  • Ham, Jin-Hee;Kang, Joo-Hoon;Noh, Jin-Seo;Lee, Woo-Young
    • 한국자기학회:학술대회 개요집
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    • 한국자기학회 2010년도 임시총회 및 하계학술연구발표회
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    • pp.79-79
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    • 2010
  • Semimetallic bismuth (Bi) has been extensively investigated over the last decade since it exhibits very intriguing transport properties due to their highly anisotropic Fermi surface, low carrier concentration, long carrier mean free path l, and small effective carrier mass $m^*$. In particular, the great interest in Bi nanowires lies in the development of nanowire fabrication methods and the opportunity for exploring novel low-dimensional phenomena as well as practical application such as thermoelectricity[1]. In this work, we introduce a self-assembled interconnection of nanostructures produced by an on-film formation of nanowires (OFF-ON) method in order to form a highly ohmic Bi nanobridge. A Bi thin film was first deposited on a thermally oxidized Si (100) substrate at a rate of $40\;{\AA}/s$ by radio frequency (RF) sputtering at 300 K. The sputter system was kept in an ultra high vacuum (UHV) of $10^{-6}$ Torr before deposition, and sputtering was performed under an Ar gas pressure of 2m Torr for 180s. For the lateral growth of Bi nanowires, we sputtered a thin Cr (or $SiO_2$) layer on top of the Bi film. The Bi thin films were subsequently put into a custom-made vacuum furnace for thermal annealing to grow Bi nanowires by the OFF-ON method. After thermal annealing, the Bi nanowires cannot be pushed out from the topside of the Bi films due to the Cr (or $SiO_2$) layer. Instead, Bi nanowires grow laterally as a mean s of releasing the compressive stress. We fabricated a self-assembled Bi nanobridge (d=192 nm) device in-situ using OFF-ON through annealing at $250^{\circ}C$ for 10hours. From I-V measurements taken on the Bi nanobridge device, contacts to the nanobridge were found highly ohmic. The quality of the Bi nanobridge was also proved by the high MR of 123% obtained from transverse MR measurements. These results manifest the possibility of self-assembled nanowire interconnection between various nanostructures for a variety of applications and provide a simple device fabrication method to investigate transport properties on nanowires without complex patterning and etching processes.

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공정조성 SnPb 솔더에 대한 실시간 Electromigration 거동 관찰 (In-situ Observation of Electromigration Behaviors of Eutectic SnPb Line)

  • 김오한;윤민승;주영창;박영배
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제12권4호통권37호
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    • pp.281-287
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    • 2005
  • 공정조성의 SnPb 솔더 선형시편에서 electromigration 현상을 실시간 주사전자현미경을 이용하여 관찰하였다. 공정조성 SnPb 솔더시편에 대한 electronigration 실험은 ${\times}10^4A/cm^2,\;90^{\circ}C$에서 실시하였다. 주사전자현미경 챔버 내에서 진행되는 electromigration 실험 동안 음극의 보이드 형성과 양극의 힐록 성장을 실시간으로 관찰하였다. 음극에서 일어나는 보이드 크기를 실시간 관찰한 결과, 공정조성 SnPb 솔더의 electromigration 거동은 보이드 형성 전에 가지는 잠복기의 존재를 명확히 알 수 있었고, 본 결과는 electromigration 거동으로 인한 플립칩 솔더 범프의 보이드 생성에 대한 잠복기와 관련이 있었다.

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Si(100) 표면에 대한 plasma 처리 효과 (Effects of plasma processes on the surface of Si(100))

  • 조재원;이재열
    • 한국진공학회지
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    • 제8권1호
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    • pp.20-25
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    • 1999
  • 여러 가지 방법의 plasma 표면 처리와 산화 공정이 $SiO_2-Si$(100) 계면에 미치는 물리적 영향을 angle resolved uv-photoelectron spectroscopy(ARUPS)를 이용하여 연구하였다. 표면은 ex situ 방법과 함께 in situ 수소 플라즈마를 이용하여 처리되어 졌으며, 이것은 고진공 고온 열 처리 방법과 비교되어졌다. ARUPS 빛띠 상에 나타난 산화물 가전자 띠에 대한 특징적인 peak 위치는 표면 처리 및 산화 공정 방법에 따라 이동하였다. 이러한 peak의 이동은 Si에서의 띠휨에 의한 것으로 분석되어졌다. 또한 peak 이동의 원인으로 Si-SiO2 계면에 형성된 결점과 표면 처리 공정에 따라 달라지는 표면 거칠기 등을 고려할 수 있었다. 여러 공정에 대한 ARUPS 결과를 비교함으로써 $Si--SiO_2$(계면 결합이 표면 처리 및 산화 방법에 깊이 관련되어 있음을 결론지을 수 있었다. 산소 plasma 공정은 가장 작은 band bending을 보여주었다.

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화학적 산화막을 이용한 epitaxial $\textrm{CoSi}_2$형성과 계면구조 (Formation and Interface Mophologies of the Epitaxial $\textrm{CoSi}_2$ Using the Chemical Oxide on Si(100) Substrate)

  • 신영철;배철휘;전형탁
    • 한국재료학회지
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    • 제8권10호
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    • pp.912-917
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    • 1998
  • 화학적 산화막(SiOx)이 형성된 Si(100)기판 위에 Co-silicide의 형성과 계면 형상에 관한 연구를 하였다. 화학적 산화막은 과산화수소수(H2O2)의 인위적 처리에 의해 약 2nm을 형성시켰다. 그 위에 5nm 두께의 Co 박막을 전자빔 증착기에 의해 증착시킨 후 열처리하여 Co-silicide를 형성하였다. 화학적 산화막 위에서 Co-silicide 반응기구를 알아 보기 위해 $500^{\circ}C$-$900^{\circ}C$의 온도 범위에서 ex-situ와 in-situ 열처리를 하였다. 이와같이 형성된 Co-silicide 시편의 상형성, 표면 및 계면 형상, 그리고 화학적 조성을 XRD, SEM, TEM, 그리고 AES를 이용하여 분석하였다. 분석 결과 es-situ 열처리시 $700^{\circ}C$까지 CoSi2 상은 형성되지 않았고 Co의 응집화현상이 일어났다. $800^{\circ}C$ 열처리한 경우에는 CoSI2가 형성되었고 facet 현상이 크게 나타났으며 불연속적인 grain 들이 형성되었다. In-situ 열처리한 경우에는 저온에서 ($550 ^{\circ}C$)반응하여 Co-silicide가 형성되기 시작하였으며 $600^{\circ}C$부터는 facet에 의해 박막의 특성이 나빠지기 시작했다. $550^{\circ}C$에서 Co가 화학적 산화막 층을 통해 확산하여 균질한 Co-silicide를 형성하였다. 이와같이 형성된 균질한 실리사이드 층을 이용하여 다단계(55$0^{\circ}C$-$650^{\circ}C$-$800^{\circ}C$)열처리에 의해 균질한 다결정 CoSI2의 형성이 관찰되었다.

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The significance of galaxy mergers in stellar mass growth as a function of galaxy and halo mass

  • Lee, Jaehyun;Yi, Sukyoung K.
    • 천문학회보
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    • 제40권1호
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    • pp.46.3-46.3
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    • 2015
  • As theoretical and empirical studies have pointed out, galaxy mergers play a pivotal role in galaxy mass assembly histories. Its contribution is considered to be more significant in more massive galaxies. In order to quantitatively understand the origin of stellar components in galaxies, we investigated stellar mass assembly histories as a function of galaxy and halo mass using semi-analytic approaches. In this study, we found that the most massive galaxies (log $M/M_{\odot}$ ~ 11.75 at z = 0), which are mostly the brightest cluster galaxies, obtain roughly 70% of their stellar components via mergers. The role of mergers monotonically declines with galaxy mass: less than 20% for log $M/M_{\odot}$ = 10.75 at z = 0. The contribution of galaxy mergers to stellar mass growth decays more slowly than that of in-situ star formation. Therefore, merger accretion becomes a dominant channel for stellar mass growth of the most massive group since z~2. However, when it comes to central galaxies in haloes less massive than $10^{13}_{\odot}$, star formation is always dominant.

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High Temperature Lubrication with Phosphate Esters

  • Hanyaloglu, Bengi
    • Tribology and Lubricants
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    • 제11권5호
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    • pp.177-183
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    • 1995
  • Recent work with phosphate esters has shown that a lubricious polymeric film can formed from the vapor phase on interacting during and sliding. This lubrication technique has led to methods to reduce friction and wear to very low values at high temperatures up to 700$^{\circ}$C. Preliminary with synthetic tri aryl phosphates are very promising. The vaporized lubricant forms a polymeric film on the sliding and rolling surfaces reducing the coefficient of friction below 0.05. In-situ formation of the polymeric films shows that the polymer that is formed on the surface exists in different states depending on surface temperature.

고올 윤활상태에서 형성된 경계막의 특성에 관한 연구 (Characterization of the Boundary Films Formed in Lubricated Sliding at High Temperatures)

  • 좌성훈
    • Tribology and Lubricants
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    • 제11권2호
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    • pp.34-43
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    • 1995
  • The boundary films formed in sliding on steel surfaces were characterized using various lubricants. The mechanism of boundary film formation and loss was investigated over a range of temperature. The thickness of the boundary films was monitored in-situ by an ellipsometer, and the composition of the films was analyzed by XPS. The performance of the lubricants is closely associated with boundary film forming ability. In order to achieve high load carrying capacity, a boundary film must be formed on the surface. Sliding is necessary to form the films and some time is also required. As temperature increases, chemical reactivity increases the film formation rate, while the film removal rate increases due to thg decrease of durability of the boundary film material. There is a balance between these two competing mechanisms and this balance is reflected in the boundary film thickness.

레이저 처리에 의한 구상흑연주철의 TiC 복합화에 관한 연구 (Formation of TiC Composite Layer on Ductile Iron by Laser Surface Modification)

  • 김우열;박흥일
    • 한국주조공학회지
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    • 제18권6호
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    • pp.593-603
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    • 1998
  • Commercial ductile iron was coated with titanium and aluminum powders by low pressure plasma spraying and then irradiated with a $CO_2$ laser to produce anti-corrosive TiC composite layer. TiC carbides were precipitated homogeneously in a laser alloyed layer by in-situ reaction between carbon existed in the base metal and titanium with thermal sprayed coating. The formation of gas pores and brittle limited mixing zone with ledeburite microstructure in TiC composite layer were surpressed by the complementary alloying of aluminum. The hardness of TiC composite layer obtained by addition of titanium and aluminum was between 600 and 660 Hv, which was three times as high as the hardness of ferritic ductile iron. From the results of isothermal oxidation at 1123k for 24 hours in air, high temperature oxidation resistance of the TiC composite layer with aluminum was improved and doubled when compared with the TiC composite layer without aluminum.

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압력코어를 이용한 가스 하이드레이트 탐사: ODP Leg 204 (Gas Hydrate Exploration by using PCS(Pressre Core Sampler): ODP Leg 204)

  • 이영주
    • 자원환경지질
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    • 제38권2호
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    • pp.165-176
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    • 2005
  • 심해저 퇴적물에 분포하는 천연가스는 물리, 화학적인 조건에 따라서 세 가지 상(phase)으로 존재한다. 즉, 공극수에 녹아있는 가스의 농도가 용해도 이하이면 용존 가스 형태로 존재할 것이며, 용해도 이상이면 자유가스가(free gas) 형성될 것이며, 자유가스를 포함하는 해저 퇴적물이 저온 고압 조건인 하이드레이트 안정 지역이라면 가스 하이드레이트로 존재한다. 심해저 퇴적물내의 가스의 농도를 정확히 파악할 수 있다면 천연가스와 하이드레이트의 형성과 분포를 예측할 수 쳐다. 그러나, 해저 퇴적물 내에 포함되어 있는 가스의 양을 정확히 측정하는 것은 매우 어렵다. 심해저 퇴적층에서 가스를 채취하는 방법으로 널리 이용되는 공기층 가스 기법을 이용하여 퇴적물내의 가스의 양을 가늠하는 것은 천부 퇴적층에서만 가능하고 심부 지층에서 채취한 가스는 코어 회수와 시료 채취 과정에서 대부분의 가스가 유실되고 극히 일부만 정량 분석된다. 압력 코어(Pressure Core Sampler PCS)는 길이 $1{\cal}m$, 반경 $4.32{\cal}cm$ 규격으로 총 $1,465cm^3$의 퇴적물을 68.9 Mpa 압력 하에서 채취하는 장비이다. ODP Leg 204 시추 동안에 총 6개 지점(site) 에서 압력 코어를 사용하여 각 시추 지점에서 심도에 따른 퇴적물내의 가스의 양과 가스 하이드레이트의 분포를 측정하였다. 분석 결과 시추 위치에 따라서 가스 농도 및 분포 특성이 서로 다르게 나타났다. 하이드레이트 릿지(Hydrate Ridge)의 정상 주변에는 해저면 퇴적물에 메탄가스가 과포화되어 있고 정상 측면 및 분지지역에는 일부 심도의 퇴적물에서만 과포화되어 있었다. 하이드레이트 릿지의 가스 하이드레이트 분포는 압력 코어에 의해서 측정한 현장(in-situ)의 가스 농도 특성과 매우 밀접한 관계가 있는 것으로 나타났다.

MOCVD로 증착된 구리 필름의 초기성장 및 증착조건에 따른 박막특성 (Initial Stage of Film Formation and Material Properties of Cu Film deposited by MOCVD)

  • 황의성;이영록;이지화
    • 한국진공학회지
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    • 제4권S1호
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    • pp.113-117
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    • 1995
  • MOCVD of Cu films were carried out on gold-TiN(1000$\AA$)/Ti/Si wafers from hexafluoroacetylacetonate-Cu(l) vinyltrimethylsilane, Cu(l)(hafac)(vtms), in a small cold-wall type reactor. Effects of the substrate and bubbler temperatures on the film growth rate were studied, and a film with $\rho$=1.8$\pm$0.1$\mu$$\Omega$.cm could be deposited 150nm/min at Ts=200 and Tb=$30^{\circ}C$, respectively. The initial stage of the film formation was also investigated by in-situ laser reflectivity monitoring combined with SEM observations, based on which variations in the film properties depending on the growth conditions were discussed in terms of the nucleation rate and grain size.

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