고밀도 평판형 유도결합 $BCl_3/CF_4$ 플라즈마에 의한 GaAs 계열반도체의 선택적 식각에 관한 연구
(Study of Selective Etching of GaAs-based Semiconductors using High Density Planar Inductively Coupled $BCl_3/CF_4$ Plasmas)
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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- pp.46-47
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- 2005