The aggressive scaling of dynamic random-access memory capacitors has increased the need to maintain high capacitance despite the limited physical thickness of electrodes and dielectrics. This makes it essential to use high-k dielectric materials. TiO2 has a large dielectric constant, ranging from 30~75 in the anatase phase to 90~170 in rutile phase. However, it has significant leakage current due to low energy barriers for electron conduction, which is a critical drawback. Suppressing the leakage current while scaling to achieve an equivalent oxide thickness (EOT) below 0.5 nm is necessary to control the influence of interlayers on capacitor performance. For this, Pt and Ru, with their high work function, can be used instead of a conventional TiN substrate to increase the Schottky barrier height. Additionally, forming rutile-TiO2 on RuO2 with excellent lattice compatibility by epitaxial growth can minimize leakage current. Furthermore, plasma-enhanced atomic layer deposition (PEALD) can be used to deposit a uniform thin film with high density and low defects at low temperatures, to reduce the impact of interfacial reactions on electrical properties at high temperatures. In this study, TiO2 was deposited using PEALD, using substrates of Pt and Ru treated with rapid thermal annealing at 500 and 600 ℃, to compare structural, chemical, and electrical characteristics with reference to a TiN substrate. As a result, leakage current was suppressed to around 10-6 A/cm2 at 1 V, and an EOT at the 0.5 nm level was achieved.
전력전자학회 2001년도 Proceedings ICPE 01 2001 International Conference on Power Electronics
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pp.44-46
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2001
Increase of gate leakage current causes decrease of gain and increase of noise. In this paper, gate leakage current of GaAs MESEFTs' has been traced with different temperatures from $27^{\circ}C\;to\;350^{\circ}C$ to obtain the zero voltage saturation current $J_s$ which is critical to the temperature dependency of total current. From the results, thermal leakage current coefficient has been proposed to compensate for the total current due to the thermionic emission, tunneling, generation and/or hole injection.
This paper is purposed to develop portable electric instrument to select NI-9223(National instrument comp.) and clamp meter(HIOKI comp.), which can be used in developing electric instrument, to detect leakage current(ZCT) and current(CT) signals. In this paper, The electric instrument that can interface with current and leakage current instrument(HIOKI 9283), is developed by NI-9223 of NI comp.. HIOKI clamp meter can measure current signals certainly by high-sensitivity of 10 ${\mu}A$ resolution(leakage current : at 10 mA range) and current 1~200A range. The NI-9223 use four 16-bit analog-to-digital converters(ADCs) for true simultaneous sampling at up to 1 MS/s per channel. NI-9223 can synchronize all analog input modules installed in the same chassis to share the same start clock and/or sample clocks. The monitoring program is developed by SignalExpress of LabVIEW. The monitoring program are developed to analyze at simultaneous sampling on electrical signals such as leakage current(ZCT) and current(CT). The developed system verification tests were conducted, and portable electric instrument can be used in place which requires analysis of the actual electrical signal.
As a result of the advantages such as high efficiency, continuous current and high stability margin, push-pull converter with continuous current (PPCWCC) is competitive for battery discharge regulator (BDR) which plays an important role in power conditioning unit (PCU). Leakage inductance yields current spike in low-ripple current of PPCWCCs. The operating modes are added due to leakage inductance. Therefore the steady state performance is affected, which is embodied in the spike of low-ripple current. PPCWCCs which are suitable for BDR can be separated into three types by current spike characteristics. Three representative topologies IIs1, IIcb2 and Is3 are analyzed in order to investigate the factors on the magnitude and duration of spike. Equivalent current sampling method (ECSM) which eliminates the sampling time delay and achieves excellent dynamic performance is adopted to prevent the spike disturbance on current sampling. However, ECSM reduces the sampling accuracy and telemetry accuracy due to neglecting the spike. In this paper, ECSM used in PPCWCCs is summarized. The current sampling error is analyzed in quality and quantity, which provides the foundation for offsetting and enhancing the telemetry accuracy. Finally, current sampling error rate of three topologies is compared by experiment results, which verify the theoretical analysis.
본 논문은 여러 가지 환경조건하(염무, 안개, 비)에서 오손된 실키콘애자의 누설전류파형과 파형의 스펙트럼 분석 결과를 나타내었다. 200ms동안 누설전류의 크기가 더욱 커지면 커질수록, 60Hz에서의 스펙트럼의 크기도 커짐을 알 수 있었다. 만일 오손된 애자들이 고밀도의 염무에 접촉되면 낮은 스펙트럼을 갖은 누설전류파형이 계측되었고, 간헐적으로 높은 파형이 계측되었다. 누설전류자료 분석의 경우, 전기적인 활동은 염무 측정시 애자표면에 누적된 오손물질로 인한 일시적인 아크거동으로 특성지어진다. 이것은 애자표면을 따라 흐르는 누설전류에 대한 경로를 제공하게 된 것이다. 그것은 특별한 애자의 퍼포먼스 측정을 평가하기위하여 오손누적의 지표를 갖은 것으로서 중요한 것이다. 만일 표면 저항의 떨어짐이 크게 되면, 그때의 누설전류는 전력품질이 저하시킨 섬락을 중단시키는 공급된 전류이 점차로 증가되어진다.
한국전기전자재료학회 2002년도 춘계학술대회 논문집 유기절연재료 전자세라믹 방전플라즈마 일렉트렛트 및 응용기술
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pp.15-17
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2002
Leakage inductance and temperature rise are two of the more impotent problems facing the magnetic core technology of today's high frequency transformers. Excessive leakage inductance increases the stress on the switching transistors and limits the duty-cycle, and excessive temperature rise can lead the design limitation of high frequency transformer with high current. The flat transformer technology provides a very good solution to the problems of leakage inductance and thermal management for high frequency power. The critical magnetic components and windings are optimized and packaged within a completely assembled module. The turns ratio in a flat transformer is determined as the product of the number of elements or modules times the number of primary turns. The leakage inductance increase proportionately to the number of elements, but since it is reduced as the square of the turns, the net reduction can be very significant. The flat transformer modules use cores which have no gap. This eliminates fringing fluxes and stray flux outside of the core. The secondary windings are formed of flat metal and are bonded to the inside surface of the core. The secondary winding thus surrounds the primary winding, so nearly all of the flux is captured.
KIEE International Transactions on Electrophysics and Applications
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제5C권3호
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pp.131-137
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2005
This paper describes a new approach to the algorithm and fundamental characteristics of the device for monitoring the leakage currents flowing through zinc oxide (ZnO) surge arresters. In order to obtain a technique for a new on-line monitoring device that can be used in the deterioration diagnosis of ZnO surge arresters, the new algorithm and on-line leakage current detection device for extracting the resistive and capacitive currents using the phase shift addition method were proposed. The computer-based on-line monitoring device can sense accurately the power frequency leakage currents flowing through ZnO surge arresters. The on-line leakage current monitoring device of ZnO surge arresters proposed in this work has the high sensitivity compared to the third harmonic leakage current detection devices. As a consequence, it was found that the proposed leakage current monitoring device would be useful for forecasting the defects and degradation of ZnO surge arresters.
We have proposed and fabricated a dual gate AlGaN/GaN high electron mobility transistor (HEMT), which exhibits the low leakage current and the high breakdown voltage for the high voltage switching applications. The additional gate between the main gate and the drain is specially designed in order to decrease the electric field concentration at the drain-side of the main gate. The leakage current of the proposed HEMT is decreased considerably and the breakdown voltage increases without sacrificing any other electric characteristics such as the transconductance and the drain current. The experimental results show that the breakdown voltage and the leakage current of proposed HEMT are 362 V and 75 nA while those of the conventional HEMT are 196 V and 428 nA, respectively.
The thyristor among the power-semi-conductor elements, which has large current capacity and high voltage, is used widely nowadays. When the thyristor was being used to the long time, this element may be able to arise the system trip caused by changing the characteristic and dropping the performance. Therefore, it would be necessary to analyze the characteristic of element to maintain the stable operation of the system. In oder to analyze this characteristic, it would be need to test forward direction, reverse direction and leakage current by supplying the half-sine wave voltage. Among these testing, transient current condition is generated from the testing of leakage current. This transient current may be the main factor of the error in the precise measurement of leakage current. Therefore, this paper analyzes the relationship between supply voltage and transient current in measuring leakage current of the SCR, and then suggests the condition and cause of transient current as appearing the leakage current in the testing the leakage current.
$BiFeO_3$ (BFO) thin films were prepared on $Pt/TiO_2/Si$ substrate by r.f. magnetron sputtering. The effects of deposition pressure on electrical properties were investigated using measurement of dielectric properties, leakage current and polarization. When BFO targets were prepared, Fe atoms were substituted with Mn 0.05% to increase electrical resistivity of films. (Fe+Mn)/Bi ratio of BFO thin films increases with increasing partial pressure of $O_2$ gas. The deposited films showed the only BFO phase at 10 mTorr, the coexistence of BFO and $Bi_2O_3$ phase at 30-50 mTorr, and the only $Bi_2O_3$ phase at 70 mTorr. The crystallinity of BFO films was reduced due to the higher Bi contents and the decrease of surface mobility of atoms at high temperature. The porosity and surface roughness of films increased with the increase of the deposition pressure. The films deposited at high pressure showed low dielectric constant and high leakage current. The dielectric constant of films deposited at various deposition pressures was 84${\sim}$153 at 1 kHz. The leakage current density of the films deposited at 10${\sim}$70 mTorr was about $7{\times}10.6{\sim}1.5{\times}10.2A/cm^2$ at 100 kV/cm. The leakage current was found to be closely related to the morphology and composition of the BFO films. BFO films showed poor P-E hysteresis loops due to high leakage current.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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