The authors describe an analytical method to determine total chlorine in a sanitizer liquid, incorporating a lab-made He-rf-plasma within a PDMS polymer microchip. Helium was used instead of Ar to produce a plasma to achieve efficient Cl excitation. A quartz tube 1 mm i.d. was embedded in the central channel of the polymer microchip to protect it from damage. Rotational temperature of the He-microchip plasma was in the range 1350-3600 K, as estimated from the spectrum of the OH radical. Chlorine was generated in a volatilization reaction vessel containing potassium permanganate in combination of sulfuric acid and then introduced into the polymer microchip plasma (PMP). Atomic emission lines of Cl at 438.2 nm and 837.7 nm were used for analysis; no emission was observed for Ar plasma. The achieved limit of detection was 0.81 ${\mu}g\;mL^{-1}$ (rf powers of 30-70 W), which was sensitive enough to analyze sanitizers that typically contained 100-200 ${\mu}g\;mL^{-1}$ of free chlorine in chlorinated water. This study demonstrates the usefulness of the devised PMP system in the food sciences and related industries.
Using SOHO particle and EUV detection and radio spectrograms from both ground-based and spaceborne instruments, we have studied the first phase of major solar energetic particle (SEP) events associated with wide and fast coronal mass ejections (CMEs) centered at different solar longitudes. Observations support the idea that acceleration of SEPs starts in the helium-rich plasma of the eruption's core well behind the CME leading edge, in association with coronal shocks and magnetic reconnection caused by the CME liftoff; and those "coronal" components dominate during the first ~1.5 hour of the SEP event, not yet being hidden by the CME-bow shock in solar wind. At magnetic connection to the eruption's periphery, onset of SEP emission is delayed for a time of the lateral expansion that is visualized by global coronal (EIT) wave. The first, "coronal" phase of SEP acceleration is followed by a second phase associated with CME-driven shock wave in solar wind, which accelerates high-energy ions from a helium-poor particle population until the interplanetary shock slows down to below 1000 km/s. Based on these and other SOHO observations, we discuss what findings can be expected from STEREO in the SOHO era perspective.
Recently the research about electron transport characteristic and energy distribute function in mixture gases within Helium, has been used and developed widely as industrial quality improvement of extinguish characteristic, electrical dielectric strength ability of application of each species high voltage apparatus, gas plasma etching progress of work to use manufacture of semiconductor, thin film molding by CVD, insulation film to use ultra LSI, etc. This paper analyze electron transport characteristic in the range E/N $1{\sim}60$[Td], pressure $0.1{\sim}6.0$[Torr] by MCS. It is necessary to seek electron drift velocity, diffusion coefficient, lonization coefficients, characteristic energy, mean energy and electron energy distribution function as electron transport characteristic.
Okamoto cavity was modified to generate high power (2.45 GHz, 2 kW) He, N2 and Ar plasmas with WR-340 waveguide. Many factors which influence to the plasma generation were optimized and investigated for the spectroscopic properties of the He plasma generated. Some of the important factors are the diameter of the inner conductor, the distance between the inner and outer conductors and the distance between the tip of the inner conductor and the torch. After optimization for the He, two torches (a commercial mini torch for ICP and a tangential flow torch made locally) were compared and showed similar results for the helium plasma gas flow of 25 L/min~30 L/min. A tall torch (extended) was used to block the air in-flow and reduced the background intensity at 340 nm region (NH band). Emission intensity was measured for determination of halogen element in the aqueous solution with power and carrier gas flow rate. Electron number density and the excitation temperature were on the order of $3.67{\times}10^{11}/cm^3$ and 4,350 K, respectively. These values are similar or a bit smaller than other microwave plasmas. It has been possible to analyze aqueous samples. The detection limit for Cl (479.45 nm) was obtained to be 116 mg/L and needs analytical optimization for the better performance.
As the plasma facing material in the nuclear fusion reactor, tungsten has to bear the irradiation impact of high energy particles. The surface quality of tungsten may affect its irradiation resistance, and even affect the service life of fusion reactor. In this paper, tungsten samples with different surface quality were polished by mechanical processing, subsequently conducted by D2+ implantation and thermal desorption. D2+ implantation was performed at room temperature (RT) with the irradiation dose of 1 × 1021 D2+/m2 by 5 keV D2+ ions, and thermal desorption spectroscopy measurements were done from RT to 900 K. In addition, He irradiation was also performed by 50 eV He+ ions energy with the fluxes of 5.5 × 1021 m-2s-1 and 1.5 × 1022 m-2s-1, respectively. Results reveal that the hydrogen/helium irradiation behavior are both related to surface quality. Samples with high surface quality has superior D2+ retention behavior with less D2 retained after implantation. However, such samples are more likely to generate fuzzes on the surface after helium irradiation. Different morphologies (smooth, wavy, pyramids) after helium irradiation also demonstrates that the surface morphology is related to tungsten crystallographic orientation.
The purpose of this study was to determine the effects of laser Irradiation on Human plasma $\beta-endorphin$ levels, by treating with low level helium-neon (He-Ne) and Infrared(lR) laser. The Laser was fixed frequency of 2400Hz by continuous scanning and irradiating time was 8 minutes each point. Blood samples were taken at before, after, after 15min's treatment and Plasma $\beta-endorphin$ was measured by radioimmunoassay. The samples for this study were 6 normal subjects(3male, 3female). The data were analyzed by paired t-test, one-way ANOVA and simple regression. The results of this study were as follows : 1. The human plasma $\beta-endorphin$ levels were noted as significant increase in after-treatment $(22.84{\pm}10.63pg/ml)$ as compared with before-treatment $(16.96{\pm}9.23pg/ml)$ and significant increase in after 15min's $(27.27{\pm}8.81pg/ml)$ as compared with after-treatment (p<0.05). 2. There were no significant changes in plasma g-endorphin levels between male and female. 3. The human plasma $\beta-endorphin$ levels were high associated in between session reliability (p<0.05).
The Xe plasma flat lamp, considered to be a new eco-friendly LCD backlight, requires a further improvement of its luminance and luminous efficiency. To improve the performance of this type of lamp, it is necessary to understand the effects of the discharge variables on the luminous characteristics of the lamp. In this study, the luminous characteristics of a coplanartype Xe plasma flat lamp with a teeth-type electrode pattern were analyzed while varying the gas composition, gas pressure and input voltage. The effects of the phosphor layer on the discharge and the luminous characteristics of the lamp were also studied. The luminous efficiency of the coplanar-type Xe plasma flat lamp improved as the Xe input ratio and gas pressure increased. Higher luminous efficiency was also obtained when helium (He) was used as a buffer gas and when a phosphor layer was fabricated on the electrode region. In contrast, the luminous efficiency was reduced with increasing the input voltage. It was found that the infrared emissions from the lamp were affected by the Xe excitation rate in the plasma, the Xe gas density, the collisional quenching of excited Xe species by gas molecules, and the recombination rate between the Xe ions and electrons.
A cryogenic electron cyclotron resonance plasma etching system has been built to study wafer-temperature in the silicon etching characteristics. The wafer temperature was controlled from -150 to +30 $^{\circ}C$ during etching using the liquid nitrogen cooled helium gas. Although silicon was etched isotropically in $SF_6$ plasma at room temperatures, we found that it is possible to suppress the etch undercut in Si by reducing a substrate temperature without side wall passivation. In addition, the selectivity of silicon to photoresist was improved considerably at a low wafer temperature. Etch rates, anisotropy and selectivity to photo resist are measured as a function of the wafer temperature in the region of -125 $\sim$ 25$^{\circ}C$ and rf bias power of 20W $\sim$ 80W.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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v.6
no.1
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pp.12-18
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1969
The characteristics of microwave reflection in the media of cold gaseous plasma is analysed to various external magnetic flux density. The DC discharge plasma is generated in the rectangular waveguide which contains two electrodes and helium gas at the pressure of 10-2mm Hg. The reflected and transmitted power of microwave is measured when the electric field is parallel to, and perpendicular to the external magnetic field. It shows that the reflected power is increased as the magnetic flux density is increased in the parallel case, but the maximum value of the reflected power is occured at the cyclotron resonance (3120 Gauss) in the perpendicular case.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2016.02a
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pp.195.1-195.1
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2016
Currently, as Plasma application is expanded to the industrial and medical industrial, low temperature plasma applications became important. Especially in medical and biology, many researchers have studied about generated radical species in atmospheric pressure low temperature plasma directly adapted to human body. Therefore, so measurement their plasma parameter is very important work and is widely studied all around world. One of the plasma parameters is electron density and it is closely relative to radical production through the plasma source. some kinds of method to measuring the electron density are Thomson scattering spectroscopy and Millimeter-wave transmission measurement. But most methods have very expensive cost and complex configuration to composed of experiment system. We selected Michelson interferometer system which is very cheap and simple to setting up, so we tried to measuring electron density by laser interferometer with laser beam chopping module for measurement of temporal phase difference in plasma jet. To measuring electron density at atmospheric pressure Ar plasma jet, we obtained the temporal phase shift signal of interferometer. Phase difference of interferometer can occur because of change by refractive index of electron density in plasma jet. The electron density was able to estimate with this phase difference values by using physical formula about refractive index change of external electromagnetic wave in plasma. Our guiding laser used Helium-Neon laser of the centered wavelength of 632 nm. We installed chopper module which can make a 4kHz pulse laser signal at the laser front side. In this experiment, we obtained more exact synchronized phase difference between with and without plasma jet than reported data at last year. Especially, we found the phase difference between time range of discharge current. Electron density is changed from Townsend discharge's electron bombardment, so we observed the phase difference phenomenon and calculated the temporal electron density by using phase shift. In our result, we suggest that the electron density have approximately range between 1014~ 1015 cm-3 in atmospheric pressure Ar plasma jet.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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