We developed a novel method of partial discharge(PD) location based on the fact that the waveform of PD signal propagate along the GIB (Gas Insulated Bus) is composed of several modes of electromagnetic wave with different group velocities and cut-off frequencies. From the PD waveform, measured at a broadband PD sensor attached on the GIB, we could derive arrival time and frequency components of different modes using the short term Fourier transform or etc. After the group velocities of different modes are calculated, the location of the PD source could be estimated. To show the effectiveness of this new locating method in a real on site application, we used this method to locate the position of a PD source at a 76 m long 345 kV GIB substation. The estimated location of the PD source using the method proposed above was in good agreement with the actual location found from the inspection result of internal component in the GIB with 2.4% of the estimation error.
Decomposition of non-biodegradable contaminants such as phenol contained in water was investigated using a dielectric barrier discharge (DBD) plasma reactor in the aqueous solutions with continuous oxygen bubbling. Effects of various parameters on the removal of phenol in aqueous solution with high-voltage streamer discharge plasma are studied. In order to choose plasma gas, gas of three types (argon, air, oxygen) were investigated. After the selection of gas, effects of 1st voltage (80 ~ 220 V), oxygen flow rate (2 ~ 7 L/min), pH (3 ~ 11), and initial phenol concentration (12.5 ~ 100.0 mg/L) on phenol degradation and change of $UV_{254}$ absorbance were investigated. Absorbance of $UV_{254}$ can be used as an indirect indicator of phenol degradation and the generation and disappearance of the non-biodegradable organic compounds. Removal of phenol and COD were found to follow pseudo first-order kinetics. The removal rate constants for phenol and COD of phenol were $5.204{\times}10^{-1}min^{-1}$ and $3.26{\times}10^{-2}min^{-1}$, respectively.
A highly sensitive detecting method has been developed for determining part per billion of sulfur in $H_2S$/Ar plasma. The method is based on the excitation of Ar/$H_2S\;or\;Ar/H_2S/O_2$ mixture in hollow cathode glow discharge sustained by radiofrequency (RF) or 60 Hz AC power and the spectroscopic measurement of the intensity of emission lines from electronically excited $S_2^*\;or\;SO_2^*$ species, respectively. The RF or AC power needed for the excitation did not exceed 30 W at a gas pressure maintained at several mbar. The emission intensity from the $SO_2^*$ species showed excellent linear response to the sulfur concentration ranging from 5 ppbv, which correspond to S/N = 5, to 500 ppbv. But the intensity from the $S_2^*$ species showed a linear response to the $H_2S$ only at low flow rate under 20 sccm (mL/min) of the sample gas. Separate experiments using $SO_2$ gas as the source of sulfur demonstrated that the presence of $O_2$ in the argon plasma is essential for obtaining prominent $SO_2^*$ emission lines.
Kim, Hyun;Jang, Sang-Hun;Tae, Heung-Sik;Chien, Sung-Il;Lee, Dong-Ho
센서학회지
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제15권4호
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pp.284-290
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2006
This study uses neon, xenon, and helium gas mixture microdischarge to determine the effects of priming particles on the neon emission characteristics in an alternate current plasma display panel (AC PDP). The infrared (823 nm) and neon emission (585 nm) intensities are measured and compared in the blue cells in the case of new discharge with priming particles or conventional discharge without priming particles, respectively. It is found that the priming particles can produce a plasma discharge effectively even under the weak electric field condition, thereby resulting in reducing the neon emission intensity remarkably without sacrificing the IR emission intensity. As a result, it is found that the Ne emission intensity is reduced by about 46.4 % but the blue visible emission intensity is increased by about 15.2 % when compared with the conventional discharge without priming particles.
This paper deals with the method and algorithm used to find fault locations in gas insulated transmission line. The method uses UHF sensors and digital oscilloscope to detect discharge signals emitted to the outside through insulating spacer in the event of breakdown inside GIL. UHF sensors are the external type and installed at outside of insulating spacers of GIL. And we used wavelet signal processing to analyze the discharge signals and confirm the exact fault location findings in the GIL test line. This method can overcome demerit of TDR(Time Domain Reflectometer) method having been applied to detect fault location for conventional underground transmission lines, and Ground Fault Sensors used in conventional GIS systems. TDR method requires high level of specialty and experience in analyzing the measured signals. Ground fault sensors are installed inside GIL and can be destroyed by high transient voltage. This paper's method can simplify the fault location process and minimize the damage of sensors. In addition, this method can estimate the fault location only by the time difference when discharge signals are arrived to detecting sensors at the ends of GIL sections without reasons of breakdown. To test the performance of our method, we installed sensors at the ends of test line of GIL(84m) and sensed discharge signals occurred in GIL, energized with AC voltage generator up to 700kV.
Recently, ozone is utilized in various fields and its needs are expanding. In this paper, plate type ozonizer have been fabricated to investigate discharge parameter(input power, flow rate of supplied gas, electrode form, etc.) effect to discharge. And the conditions of discharge parameter have been investigated for optimum ozone generation. Ozone concentration is continuously increased with increasing input power for same discharge space, and ozone yield is also increased until maximum point after that it is saturated. Ozone concentration is inversely proportional to flow rate of supplied gas but ozone generation and ozone yield characteristics are improved.
Generation of hydrogen and oxygen gas from water is mostly accomplished by electrolysis. In this report, a scheme is presented regarding the gas generation based on plasmolysis. Unlike electrolysis water dissociation by electrical discharge (plasmolysis) requires a high voltage to cause either electron emission or electron capture, and subsequent ionization of involved molecular species. When electrical discharge is initiated between electrodes separated by water-vapor interface, a very large electric field(~100kV/cm) is developed at the tip of the electrode placed in the vapor phase. It is found that the efficiency of plasmolysis depends on the polarity of the electrode placed in the vapor phase. Also presented is the scheme of hydrogen and oxygen generation by such electrical discharge.
The fiat fluorescent lamp(FFL) can be used to the LCD bat]flighting. In order to evaluate the discharge characteristics of FFL firing voltage, discharge current, luminance and CIE chromaticity with frequency were measured. The experimental results show that firing voltage decreased with increasing the frequency, discharge current increased with increasing the frequency. Luminance of FFL using Xe gas shown $2700\;cd/m^2$ in 700V rms, 80 kHz.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.II
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pp.1161-1164
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2005
A Mercury-free, flat light source which shows high luminance and luminous efficiency simultaneously has been developed. An electrodeless, dielectric barrier discharge is used to generate the plasma using Ne-Xe mixture gas of relatively low gas pressure of a few tens torr in a 4.1 inch diagonal size of flat panel. The basic properties of the long gap glow discharge and its accompanying instabilities, which prevents us from having high luminous efficiency discharge have been analyzed. A new structure and optimized driving methods have been used to generate a glow discharge which shows a wide voltage margin of a few hundred volts. The luminous efficiency and luminance could be 110 lm/W at $1300\;cd/m^2$ and 50 lm/W at $5500\;cd/m^2$.
Silicon deposition by Penning discharge was carried out using a mixture of 5% $SiH_4/H_2$ and Ar gas, and the effects of the deposition conditions(gas mixing raito, substrate temperature. discharge power etc.) on the growth rate, crystallinity and morphology of the films deposited were investigated. The magnetic field(800 G) confined the plasma in the region between the two cathodes and enhanced the discharge current by a factor of a few hundreds below 1 mTorr. The magnetic field-enhanced plasma density resulted in a very large deposition rate of about 300 $\AA$/min at $SiH_4$ flow rate of 0.7 sccm and the substrate temperature of $800^{\circ}C$. Characterization of the films by Raman spectroscopy, X-ray diffraction, and scanning electron microscopy revealed that an epitaxial film with a smooth surface grows above 80$0^{\circ}C$, an amorphous film below $400^{\circ}C$, and a rough polycrystalline film at intermediate temperatures.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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