• Title/Summary/Keyword: Ga doped

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Crystal Growth and Optical Property of Rutiles Doped with Impurity Ions (불순이온을 첨가한 Rutile의 단결정 성장에 관한 연구)

  • 이성영;김병호;정석종;유영문
    • Korean Journal of Crystallography
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    • v.10 no.1
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    • pp.83-87
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    • 1999
  • 부유대용융법에 의하여 전이금속, 희토류금속, 및 3A족 금속이온의 종류와 농도를 조절하면서 Rutile 단결정을 성장하였으며, 결정결함과 1.55 ㎛에서의 광 투과도에 미치는 각 불순이온의 영향을 조사하였다. 주입된 불순이온 중에서 양호한 결정형을 나타내는 이온은 V5+, Fe3+, Al3+, Zr4+, Ga3+, Sc3+이었으며, Al3+, Zr4+, Sc3+ 이온은 우수한 투과도를 나타내었다. 성장된 결정 중에서 가장 양호한 결정형을 제공하고, 산소결핍 및 low-angle grain boundaries의 형성을 최대로 억제하며, 양호한 투과도를 나타낸 우수한 품질의 Rutile 단결정은 TiO2 99.4 at%-Al2O3 0.6 at%로 평가되었다.

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Synthesis and Luminescent Property Investigation of the $Lu_3Al_5O_{12}$:Ce for the White LEDs

  • Lee, Seung-Jae;Park, Joung-Kyu;Bae, Pan-Kee;Kim, Chang-Hae;Chang, Hyun-Ju;Kim, Yong-Rok
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 2008.10a
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    • pp.591-593
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    • 2008
  • In this report, cerium doped lutetium aluminate ($Lu_3Al_5O_{12}$:Ce) phosphor has been synthesized by the solid state method under reduction atmosphere with mixture gas. The prepared phosphor shows a main luminescent peak at 555nm. Consequently, this phosphor is possible to be applicable to white LED lamp by InGaN chips.

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Optical Properties of $Pr^{3+}$-Doped Chalcohalide Glasses ($Pr^{3+}$ 첨가 찰코할라이드 유리의 광학적 특성)

  • Choe, Yong-Gyu;Gang, Bong-Hun;Song, Jae-Hyeok;Jeong, Un-Jin;Heo, Jong;Park, Bong-Je;Seo, Hong-Suk;An, Jun-Tae
    • Proceedings of the Optical Society of Korea Conference
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    • 2007.02a
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    • pp.143-144
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    • 2007
  • 낮은 포논 에너지를 가지는 대표적인 비정질 광소재인 Ge-Ga-Sb-Se 조성의 셀레나이드 유리에 CsI를 첨가한 찰코할라이드 유리 샘플을 제작하고 CsI 함량에 따른 소재의 광 특성 및 첨가된 $Pr^{3+}$ 이온의 광 특성 변화를 조사하였다. 안정한 비정질 상태를 유지하는 CsI의 함량은 약 7.5 몰%로 제한되었으며, 첨가량에 비례하여 단파장 흡수단 파장이 짧아지는 경향을 보였으나 weak absorption tail이 증가 하였다. $Pr^{3+}$ 이온으로부터 발생하는 1.6 ${\mu}m$대역 형광의 제반특성은 CsI의 첨가와 비교적 무관한 것으로 밝혀졌으며 1.06 ${\mu}m$장에서 측정한 비선형 흡수 계수 역시 CsI의 첨가에 영향을 거의 받지 않는 것으로 판명되었다.

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RF파워 변화에 따라 스퍼터된 GZO 박막의 전기적, 광학적 특성

  • Jeong, Seong-Jin;Kim, Deok-Gyu;Kim, Hong-Bae
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2011.02a
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    • pp.86-86
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    • 2011
  • RF magnetron sputtering을 이용하여 RF파워 변화에 따라 GZO 박막을 제작하였다. 박막제작은 유리기판 위에 하였고, 전기적, 광학적 특성을 조사하였다. 박막의 증착시 초기 압력은 $2.0{\times}10^{-6}Torr$, 증착온도는 상온으로 고정하여 증착하였으며, 기판은 Corning 1737 유리 기판을 사용하였다. RF 파워 공정변수는 20W, 50W, 80W, 110W로 변화를 시켰다. 유리기판에 증착된 모든 GZO박막은 200 nm의 두께로 증착되었으며 모든 GZO 박막에서 85% 이상의 투과율을 나타내었다. RF파워가 낮을수록 투과율을 증가하였으며, 광학적 밴드갭 또한 증가하였다. 공정별로 제작된 모든 GZO박막에서 (002)면의 배향성이 관찰되었고, RF파워가 낮을수록 박막의 결정성은 향상되었다. Hall 측정 결과 RF파워가 20W일 때 전기비저항 $1.85{\times}10^{-3}{\Omega}cm$, 전하의 농도 $3.794{\times}10^{20}cm^{-3}$, 이동도 $8.89cm^2V^{-1}s^{-1}$로 전극으로서의 특성을 나타내었다. GZO 박막의 경우 RF 파워가 낮을수록 결정성이 높아지고, 전극의 특성을 갖는 것을 확인할 수 있었다.

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Effect of Post Deposition Annealing Temperature on the Structural, Optical and Electrical Properties of GZO Films Prepared by RF Magnetron Sputtering (RF 마그네트론 스퍼터링으로 증착 된 GZO 박막의 진공 열처리온도에 따른 구조적, 광학적, 전기적 특성 연구)

  • Kim, Daeil
    • Journal of the Korean Society for Heat Treatment
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    • v.24 no.4
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    • pp.199-202
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    • 2011
  • Ga doped ZnO thin films were deposited with RF magnetron sputtering on glass substrate without intentional substrate heating and then the effect of post deposition annealing temperature on the structural, optical and electrical properties of the films was investigated. The post deposition annealing process was conducted for 30 minutes in a vacuum of $1{\times}10^{-3}$ Torr and the vacuum annealing temperatures were 150 and $300^{\circ}C$, respectively. As increase annealing temperature, GZO films show the increment of the prefer orientation of ZnO (002) diffraction peak in the XRD pattern and the optical transmittance in a visible wave region was also increased, while the electrical sheet resistance was decreased. The figure of merit obtained in this study means that GZO films which vacuum annealed at $300^{\circ}C$ have the highest optoelectrical performance in this study.

Development of hand-held coded-aperture gamma ray imaging system based on GAGG(Ce) scintillator coupled with SiPM array

  • Jeong, Manhee;Hammig, Mark
    • Nuclear Engineering and Technology
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    • v.52 no.11
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    • pp.2572-2580
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    • 2020
  • Emerging gamma ray detection applications that utilize neutron-based interrogation result in the prompt emission of high-energy (>2 MeV) gamma-rays. Rapid imaging is enabled by scintillators that possess high density, high atomic number, and excellent energy resolution. In this paper, we evaluate the bright (50,000 photons/MeV) oxide scintillator, cerium-doped Gd2Al2Ga3O12 (GAGG(Ce)). A silicon photomultiplier (SiPM) array is coupled to a GAGG(Ce) scintillator array (12 × 12 pixels) and integrated into a coded-aperture based gamma-ray imaging system. A resistor-based symmetric charge division circuit was used reduce the multiplicity of the analog outputs from 144 to 4. The developed system exhibits 9.1%, 8.3%, and 8.0% FWHM energy resolutions at 511 keV, 662 keV, and 1173.2 keV, respectively. In addition, a pixel-identification resolution of 602 ㎛ FWHM was obtained from the GAGG(Ce) scintillator array.