An investigation was carried out to understand the effect of the amount of free silicon on the tribological properties of Si-SiC. The specimens of dense Si-SiC composites with various amount of free silicon were fabricated in the temperature of 175$0^{\circ}C$ after molding under various pressure. Wear properties were measured by ball-on-plate wear tester under the constant weight of 4 Kgf at constant sliding speed of 500 mm/sec in water. As the result, the Rockwell hardness and fracture strength of Si-SiC composites remained nearly constant up to 16.62 vol% of free silicon in the Si-SiC microstructure. The Si-SiC composites containing the free silicon of 16.62 vol% was considered to be prominent in the tribological properties, which had the friction coefficient of 0.08 and the specific wear rate of 2.4$\times$10-8$\textrm{mm}^2$Kgf-1. The analysis of the wear surface indicated the complicated processes occuring on the surface such as fine polishing, abrasion, microfracture.
In order to manufacture high-quality free-form concrete panel (FCP), it is necessary to analyze the limitations of free-form silicone mold (FSM) and conduct technology development research. Currently, the FSM used in FCP manufacture is classified into a side silicon mold(SSM) and a lower silicon mold(LSM). In this study, the limitations of each silicon mold were analyzed and solutions were proposed. In the case of side silicon mold, there is a limit to cannot supporting the side pressure of concrete. Therefore, a mold stacking method was proposed, and at the same time, a process of correcting the movement value of the rod was proposed. In the case of the lower silicon mold, there is a limit to completely implementing the design shape. Therefore, a real-time scanning method and a process of displaying FCP shape coordinates were proposed. The results of this study are expected to be used as basic data for manufacturing high-quality FCP.
Dopant-free silicon heterojunction solar cells using Transition Metal Oxide(TMO) such as Molybdenum Oxide($MoO_X$) and Vanadium Oxide($V_2O_X$) have been focused on to increase the work function of TMO in order to maximize the work function difference between TMO and n-Si for a high-efficiency solar cell. One another way to increase the work function difference is to control the silicon wafer resistivity. In this paper, dopant-free silicon heterojunction solar cells were fabricated using the wafer with the various resistivity and analyzed to understand the effect of n-Si work function. As a result, it is shown that the high passivation and junction quality when $V_2O_X$ deposited on the wafer with low work function compared to the high work function wafer, inducing the increase of higher collection probability, especially at long wavelength region. the solar cell efficiency of 15.28% was measured in low work function wafer, which is 34% higher value than the high work function solar cells.
Optically encoded porous silicon smart particles were successfully fabricated from the free-standing porous silicon thin films using ultrasono-method. DBR PSi was prepared by an electrochemical etch of heavily doped $p^{{+}{+}}$-type silicon wafer. DBR PSi was prepared by using a periodic pseudo-square wave current. The surface-modified DBR PSi was prepared by either thermal oxidation or thermal hydrosilylation. Free-standing DBR PSi films were generated by lift-off from the silicon wafer substrate using an electropolishing current. Free-standing DBR PSi films were ultrasonicated to create DBR-structured porous smart particles. Optical characteristics of porous smart particles were measured by FT-IR spectroscopy. The surface morphology of porous smart particles was determined by FE-SEM.
Distributed Bragg reflector porous silicon of different characteristics were formed to determine their optical constants in the visible wavelength range using a periodic square wave current between low and high current densities. The surface and cross-sectional SEM images of distributed Bragg reflector porous silicon were obtained using a cold field emission scanning electron microscope. The surface image of distributed Bragg reflector porous silicon indicates that the distributions of pores are even. The cross-sectional image illustrates that the multilayer of distributed Bragg reflector porous silicon exhibits a depth of few microns and applying of square current density during the etching process results two distinct refractive indices in the contrast. Distributed Bragg reflector porous silicon exhibited a porosity depth profile that related directly to the current-time profile used in etch. Its free-standing film was obtained by applying an electro-polishing current.
A packaging technology based on flip-chip bonding and Pb-free solder for silicon pressure sensors on printed circuit board (PCB) is presented. First, the bump formation process was conducted by Pb-free solder. Ag-Sn-Cu solder and the pressed-screen printing method were used to fabricate solder bumps. The fabricated solder bumps had $189-223{\mu}m$ width, $120-160{\mu}m$ thickness, and 5.4-6.9 standard deviation. Also, shear tests was conducted to measure the bump shear strength by a Dage 2400 PC shear tester; the average shear strength was 74 g at 0.125 mm/s of test speed and $5{\mu}m$ shear height. Then, silicon pressure sensor packaging was implemented using the Pb-free solder and bump formation process. The characteristics of the pressure sensor were analogous to the results obtained when the pressure sensor dice are assembled and packaged using the standard wire-bonding technique.
Although the development of free-form architectural technology continues, it consumes a lot of money and time due to the one-time formwork and the difficulty of maintaining quality due to manual work. To this end, in this study, a shape connection technique was proposed and verified to improve the limitations of implementing the curved surface of the existing lower multi-point press. In order to improve the accuracy of the shape, a curved surface was implemented using a silicon cap and a silicon plate. As a result of the error analysis of the shape, a small value of less than 3 mm was found. This study can implement more accurate curved surfaces than conventional technologies and produce high-quality free-form panels.
Sensing characteristics for porous smart particle based on DBR smart particles were reported. Optically encoded porous silicon smart particles were successfully fabricated from the free-standing porous silicon thin films using ultrasono-method. DBR PSi was prepared by an electrochemical etch of heavily doped $p^{++}$-type silicon wafer. DBR PSi was prepared by using a periodic pseudo-square wave current. The surface-modified DBR PSi was prepared by either thermal oxidation or thermal hydrosilylation. Free-standing DBR PSi films were generated by lift-off from the silicon wafer substrate using an electropolishing current. Free-standing DBR PSi films were ultrasonicated to create DBR-structured porous smart particles. Three different surface-modified DBR smart particles have been prepared and used for sensing volatile organic vapors. For different types of surface-modified DBR smart particles, the shift of reflectivity mainly depends on the vapor pressure of analyte even though the surfaces of DBR smart particles are different. However huge difference in the shift of reflectivity depending on the different types of surface-modified DBR smart particles was obtained when the vapor pressures are quite similar which demonstrate a possible sensing application to specify the volatile organic vapors.
Free-standing multilayer distributed Bragg reflectors (DBR) porous silicon dielectric mirrors, prepared by electrochemical etching of crystalline silicon using square wave currents are treated with polymethylmethacrylate (PMMA) to produce flexible, stable composite materials in which the porous silicon matrix is covered with caffeine-impregnated PMMA. Optically encoded free-standing DBR PSi dielectric mirrors retain the optical reflectivity. Optical characteristics of free-standing DBR PSi dielectric mirrors are stable and robust for 24 hrs in a pH 12 aqueous buffer solution. The appearance of caffeine and change of DBR peak were simultaneously measured by UV-vis spectrometer and Ocean optics 2000 spectrometer, respectively.
The effects of silicon on galvannealing behavior of interstitial-free (IF) steels were studied. The growth rate of the Fe-Zn alloy layer was retarded as silicon in the steel added. Titanium in steel strongly favors Fe-Zn reaction, in particular outburst structures, whereas silicon inhibit them. Cross-sectional and planar views of galvannealed coatings were investigated to characterize alloy phase development. A possible mechanism to explain the retardation effect of silicon is discussed in terms of concentration on surface and inhibition layer.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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