• Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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• v.12 no.6
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• pp.5-8
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• 1975

An Insb magnetic fluxmeter was made of InSb Single Crystal that was grown by Bridgemannmethods and then purified by vapor cone refining method. We investigated some properties of the InSb magneto fluxmeter. It was found that the resistivity and the Hall Coefficient of this single Crystal Were 4.4${\times}10^{-2}{\Omega}$ and $4.5\textrm{cm}^3$/Coul, respectively, at room temperature. The Characteristic Curve of the InSb magnetic fluxmeter between the magnetic field the Hall voltage, with the Current flowing through the element a Parameter, had good lineanty i.e., We obtained a linear Calibration Curve of the flwmeter. The fluxmeter erved the purpose well enough up to 5 k-gaus.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2013.02a
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• pp.668-668
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• 2013

CIGS 박막태양전지는 다른 박막태양전지에 비해 높은 에너지 변환효율을 보이고 있으며, 광범위한 기술 응용분야를 가지고 있다. CIGS를 광흡수층으로 하는 태양전지의 구조는 5개의 단위박막(배면전극, 광흡수층, 버퍼층, 앞면 투명전극, 반사방지막)을 순차적으로 형성시켜 만든다. 단위박막별로 다양한 종류의 재료와 조성, 또한 제조방법에서는 갖가지 물리적, 화학적 박막 제조방법이 사용된다. 현재 광흡수층인 CIGS층의 경우 동시증발법과 스퍼터링법이 높은 효율을 보이고 있다. 본 연구에서는 CIGS층을 3-stage process를 적용한 동시증발법을 사용하였고, Fluxmeter와 기판후면 온도 모니터링을 이용하여 제조하였으며, 버퍼층은 moving 스퍼터링 법으로 ZnS를 증착하였고, 투명전극층은 PLD (Pulsed Laser Deposition)를 이용하여 제조하였다. 가장 높은 광변환효율을 보인 Al/ZnO/CdS/Mo/SLG박막시료는 유효면적 0.45 $cm^2$에 광변환효율 15.71%, Jsc: 33.64 mA/$cm^2$, Voc: 0.64 V, FF: 73.18%를 얻을 수 있었으며, CdS를 ZnS로 대체한 Al/ZnO/ZnS/Mo/SLG 박막시료는 유효면적 0.45 $cm^2$에 광변환효율 12.13%, Jsc: 33.22 mA/$cm^2$, Voc: 0.60 V, FF: 62.85%를 얻을 수 있었다.

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 1996.10a
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• pp.114-115
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• 1996

• 전기의세계
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• v.13 no.1
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• pp.52-53
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• 1964

광전광속측정장치(Photoelectric fluxmeter)는 각종 전구에 대한 시험 및 연구에 가장 중요한 광속(lumenous f.ux)을 측정하는 장치로서 전기조명연구에 지극히 필요한 장치이나, 현재까지 국내에 설비된 시험장치가 많지 않으므로 그 생산 및 연구에 막대한 지장을 초래하던바 금반 체신부 중앙전기통신시험소에 설치되어 지난 1964년 1월 1일부터 각종 전구에 대한 광속시험을 시작하였다. 금반 설치된 장치는 imbed광속지를 수신기로 사용하고 campbell fleeth보상회로에 의하여 백열전구의 구광속 또는 평균 구면광도 및 형광등의 광속을 측정하는것으로 그 원리 및 구성 개요를 알아보고자 한다.

• Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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• 2002.12a
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• pp.132-133
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• 2002

자속밀도를 측정하기 위한 방법으로 Hall 효과; NMR, Fluxgate 등의 다양한 방법등을 사용하고 있다. 그러나 가장 많이 사용되는 방법이 Faraday 전자기 유도 법칙을 이용하여 자속밀도를 측정하는 방법이다. 이 경우 탐지코일에 유도되는 기전력이 자속의 시간 변화율에 비례하기 때문에 자속을 측정하기 위해서는 탐지코일에 유도되는 기전력을 적분을 하여야 한다. (중략)

• Journal of the Korean Magnetics Society
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• v.15 no.6
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• pp.332-335
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• 2005

Output voltage of the flux-meter has always drift due to the input bias current of non-ideal operational amplifier. In this study we have employed a digital sample and hold amplifier which has no voltage drop to compensate drift of the flux-meter automatically. The drift of the developed flux-meter was smaller than $5{\times}10^{-8}\;Wb/s$ for the integration time constant of $RC=10^{-3}$ s.

• Electrical & Electronic Materials
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• v.1 no.4
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• pp.319-332
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• 1988

높은 포화자속밀도와 낮은 철손을 갖는 Fe/aub 80/B$_{12}$Si$_{8}$ 비정질합금을 일반열처리, 자장열처리시켜 그의 자기적특성과 자구구조와의 관계를 조사하였다. 이를 위하여 Fe$_{80}$B$_{12}$Si$_{8}$ 비정질리본을 단롤법으로 제작하여 결정화온도를 측정하였으며 측정된 결정화온도 이하의 여러 온도에서 30분간 Ar-gas 분위기하에서 일반열처리, 자장열처리를 행하였다. 이와같이 하여 준비된 시료의 자기적특성을 조사하기 위하여 D.C., A.C. Recorking Fluxmeter를 이용하였으며 자구구조는 Bitter method로 관찰하였다. as-cast 상태의 시료를 일반열처리함에 따라 내부응력이 완화되면서 maze자구가 점차 사라지고 wave형태의 180.deg.자구가 관찰되었다. 동시에 자화과정에 있어서 자기이력곡선은 Barkhausen jump가 없어 smooth하였다. 그리고 자장열처리시에는 as-cast 상태나 일반열처리에 비해 자기적특성이 현저하게 향상되었으며 이는 열처리를 행함에 따라 내부응력이 완화되면서 maze 자구가 없어지고 일축자기 이방성으로 리본길이방향에 평행하게 형성된 180.deg.자구에 기인하는 것이라 사료된다. 그리고 자장열처리의 경우, 폭방향으로 열처리한 리본의 자구폭은 길이방향으로 열처리한 리본의 폭보다 미세하였으며 전자의 이력손실이 후자의 것보다 더 컸다.다.

• Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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• v.14 no.11
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• pp.912-916
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• 2001

Fluxmeter is a measuring instrument the magnetic flux intensity by means of an integration of the voltage induced to a search coil to unit time. It also is required to a precise integrator since the voltage induced to a search coil has a differential value of the flux ${\Phi}$ to unit time. In this study, a bias current which is a main problem of the integrator in a drift troublesome depending on the temperature of a FET is investigated. We have confirmed that the temperature dependence of both the bias current of a integrator using the FET and the reversal saturated current of the minor carrier in a P-N junction of a semiconductor were the same. The property of a commercial integrator goes rapidly down with increasing temperature. The bias current of a FET is increased twice as much with 10$^{\circ}C$ increment. As a result, the low drift integrator could be developed by setting the lower temperature up with a pottier device.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2010.02a
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• pp.230-230
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• 2010

유기물 반도체 화합물인 Cu-Pc(copper(II)-phthalocyanine)는 우수한 전기적 광학적 특성을 가지며, OLED, MISFET등 소자로서의 활용도가 높다. Cu-Pc 화합물은 $\alpha$-phase, $\beta$-phase, $\gamma$-phase를 포함하는 여러 가지 다결정 polymer로 존재할 수 있다. 가장 잘 알려진 구조로는 열적으로 준안정적인 $\alpha$-phase와 열적으로 안정적인 $\beta$-phase가 있다. Cu-Pc 박막의 구조 및 흡수 특성과 전기적 특성에 대한 기술이 확실히 규명되지 않아 본 연구에서는 두께와 열처리 조건에 따른 결정성 및 방향성을 조사하기 위하여 $\alpha$-phase와 $\beta$-phase의 phase transition 현상 및 전기적 광학적 특성을 규명 하고자 한다. 진공증착 방법 중 하나인 PVD 방법의 thermal evaporation deposition을 이용하여 glass, ITO 기판위에 두께와 열처리에 따른 전기적?광학적 특성을 연구하였다. Cu-Pc 박막의 성장두께는 5nm~50nm 이내로 fluxmeter 및 thickness monitor를 이용하여 제어하였다. 5nm~50nm의 두께에 따른 기판온도를 $200^{\circ}C$로 고정하여 전열 처리 및 후열 처리하여 온도에 따른 박막을 성장한 후, 결정 구조 및 특성 변화와 phase transition 분석하였다. 제작된 Cu-Pc의 박막은 $\alpha$-phase와 $\beta$-phase로 구분할 수 있으며, 열처리에 따른 phase transition 현상이 뚜렷함을 알 수 있다. XRD(X-ray diffraction)를 통하여 박막에 대한 결정 구조 분석 및 FE-SEM(field emission scanning electron microscopy)와 AFM(atomic force microscopy)을 이용하여 Cu-Pc 박막의 구조적 결정성과 방향성 등, 표면 상태와 형상구조에 대해 표면의 특성을 측정하며, 광 흡수도(UV-visible absorption spectra)을 이용하여 phase transition 현상에 따른 I-V 특성을 비교분석 하였다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2010.08a
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• pp.254-254
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• 2010

Cu-Pc(copper(II)-phthalocyanine)는 박막의 형성과정에서 열처리 방식과 온도에 따라 박막의 구조가 변하며, 구조로는 열적으로 준 안정적인 $\alpha$-phase와 열적으로 안정적인 $\beta$-phase가 있다. 본 연구에서는 Cu-Pc 박막의 열적으로 안정적인 $\beta$-phase 구조에 대해 온도 조건 변화에 따른 표면 결정 성장의 특성을 연구하고자 한다. 진공증착 방법 중 하나인 thermal evaporation deposition을 이용하여 glass 기판위에 전열 처리 및 후열 처리에 대해 온도 조건 변화에 따른 $\beta$-phase type의 표면 결정 특성을 연구하였다. Cu-Pc 박막의 성장두께는 50nm 일정한 두께로 fluxmeter 및 thickness monitor를 이용하여 제어하였다. 50nm의 두께에 따른 기판온도를 $100^{\circ}C$, $200^{\circ}C$, $300^{\circ}C$로 전열 처리한 후 각각 전열 처리한 기판온도에 대해 1hour, 2hour, 3hour 후열 처리하여 온도 조건에 따른 박막을 성장한 후, $\beta$-phase type에 대한 결정 구조 및 표면 특성 변화를 분석하였다. 제작된 Cu-Pc의 박막은 $\beta$-phase type으로, 열처리에 따른 $\beta$-phase transition 현상을 연구하였다. XRD(X-ray diffraction)를 통하여 박막에 대한 결정 구조 분석 및 FE-SEM(field emission scanning electron microscopy)을 이용하여 Cu-Pc 박막의 구조적 결정성과 방향성 등, 표면 상태와 형상구조에 대해 표면의 특성을 분석하며, 광 흡수도(UV-visible absorption spectra)을 이용하여 온도 조건에 따른 투과/흡수 현상을 비교분석하였다.