Alkyliron(Ⅲ) porphyrins, n-butyliron(Ⅲ) tetraphenylporphyrin, (TPP)Fe-Bu and n-butyliron(Ⅲ) tetrakis-(pentafluorophenyl)porphyrin, $(F_{20}TPP)Fe-Bu$ have been evaluated as suitable for olefin free-radical polymerization. Butyl radicals dissociated from n-butyliron(Ⅲ) porphyrin initiated the polymerization reaction, but the ratio of the propagation was low. The GCMS analysis of the reaction mixture of nbutyliron(Ⅲ) porphyrin and styrene has revealed several products containing two butyl groups, while traces of b-hydrogen-abstracted products were observed. The crystal structure of (TPP)Fe-Bu has been determined. The structure of the n-butyliron(Ⅲ) porphyrin reveals the compound containing five-coordinated iron with the average Fe-N distance of 1.973(1) Å and Fe-C of 2.030(2) Å. The iron atom is displaced by 0.137Å from a four nitrogen mean plane. Crystal system is triclinic, and space group is P-1.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.44
no.6
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pp.255-259
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2011
The thickness dependence of magnetic properties was experimentally investigated in nanocrystalline Fe-Hf-N thin films fabricated by a RF magnetron sputtering method. In order to investigate the thickness effect on their magnetic properties, the films are prepared with different thickness ranges from 90 nm to 330 nm. It was revealed that the coercivity of the thin film increased with film thickness. On the contrary, the saturation magnetization decreased with film thickness. On the basis of the SEM and TEM, an amorphous phase forms during initial growth stage and it changes to crystalline structure after heat treatment at $550^{\circ}C$. Nanocrystalline Fe-Hf-N particles are also generated.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.44
no.4
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pp.149-154
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2011
Martensitic stainless steel STS 431 has been nitrided by active screen ion nitriding under the various temperature and time. The thickness of diffusion layer, case depth, hardness and composition phases were investigated using field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), micro-Vickers hardness tester, X-ray diffraction (XRD) and glow discharge spectroscopy (GDS). It was observed that the thickness of diffusion layer depends strongly on the treatment temperature and time. A sample, which was nitrided at $450^{\circ}C$ for 8hours, was a maximum hardness of Hv0.01 1558 and nitride layer of $70{\mu}m$. As shown in XRD patterns, $\varepsilon(Fe_{2-3}N)$ and expanded martensite (${\alpha}_N$) phases which was saturated with nitrogen solid solution were in the nitrided layer treated at $450^{\circ}C$ for 2 hours. Composition phases of $\varepsilon$$(Fe_{2-3}N)$ and ${\gamma}'$ ($Fe_4N$) were observed after active screen nitriding at $450^{\circ}C$ for 8 hours.
The effect of micro-pulse plasma nitriding temperature and time on the case thickness, hardness and nitride formation in the surface of Fe-12Cr-22Mn-X alloy with 3% Co and 1% Ti alloys elements investigated. External compound layer and internal diffusion layer was constituted in plasma nitride case of Fe-12Cr-22Mn-X alloys and formed nitride phase such as ${\gamma}'-Fe4N\;and\;{\varepsilon}-Fe2-3N$. Case depth increased with increasing the plasma nitriding temperature and time. Surface hardness of nitrided Fe-12Cr-22Mn-X alloys obtained the above value of Hv 1,600 and case depth obtained the above value of $45{\mu}m$ in Fe-12Cr-22Mn-3Co alloy and $60{\mu}m$ in Fe-12Cr-22Mn-1Ti alloy. Wear-resistance increased with increasing plasma nitriding time and showing the higher value in Fe-12Cr-22Mn-1Ti alloy than Fe-12Cr-22Mn-3Co alloy.
Proceedings of the Korean Magnestics Society Conference
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2002.12a
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pp.222-223
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2002
자기헤드에서 사용되는 연자성 박막에서 요구되는 특성 중 가장 중요한 것은 우수한 연자기 특성의 화보와 헤드제조공정에서 필수적인 유리접합공정(MIG 헤드의 경우 약 500~600 $^{\circ}C$의 열처리) 이후에도 연자기 특성이 유지되는 내열성이다. 이러한 관점에서 우수한 연자기 특성과 내열성을 동시에 보유하는 연자성 박막재료에 대한 연구가 활발히 진행되어 Fe-TM(Hf, Zr. Ta 등)-(B. C, N) 계 등이 보고되었다[1-4]. (중략)
In this research, magnetic properties and annealing effects of the spin valve structures were investigated, which have Ta underlayer deposited with Ar and $N_2$ gas mixture. Also, TaN underlayer as a diffusion barrier and the substrate were investigated. The structure of the spin valve was Si($SiO_2$)/Ta(TaN)/NiFe/CoFe/Cu/CoFe/FeMn/Ta. Deposition rate was decreased and resistivity and roughness of the TaN films were increased as the $N_2$ gas flow was increased. The XRD results after high temperature annealing showed that Silicides were created in Si/Ta layer, but not in Si/TaN layer. Magnetoresistance ratio (MR) and exchange coupling field ($H_{ex}$) were decreased when the $N_2$ gas flow was increased over 4.0 sccm. The MR of the spin valves with Ta and TaN films deposited with up to 4.0 sccm of $N_2$ gas flow was increased about $0.5\%$ until the annealing temperature of up to $200^{\circ}C$ and then, decreased. TaN film deposited with 8.0 sccm of $N_2$ gas flow showed twice the adhesion of the Ta film. The above results indicate that with 3.0 sccm of $N_2$ gas flow during the Ta underlayer deposition, the magnetic properties of the spin valves are maintained, while the underlayer may be used as a diffusion barrier and the adhesion between the Si substrate and the underlayer is increased.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.36
no.6
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pp.480-490
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2003
Effects of plasma-nitriding on the pitting corrosion of Fe-30at%Al-5at%Cr alloy containing Ti, Hf, and Zr were investigated using potentiostat in 0.1M HCl. The specimen was casted by the vacuum arc melting. The subsequent homogenization was carried out in Ar gas atmosphere at $1000^{\circ}C$ for 7days and phase stabilizing heat treatment was carried out in Ar gas atmosphere at $500^{\circ}C$ for 5 days. The specimen was nitrided in the $N_2$, and $H_2$, (1:1) mixed gas of $10^{-4}$ torr at $480^{\circ}C$ for 10 hrs. After the corrosion tests, the surface of the tested specimens were observed by the optical microscopy and scanning electron microscopy(SEM). For Fe-30at%Al-5Cr alloy, the addition of Hf has equi-axied structure and addition of Zr showed dendritic structure. For Fe-30at%Al-5Cr alloy containing Ti, plasma nitriding proved beneficial to decrease the pitting corrosion attack by increasing pitting potential due to formation of TiN film. Addition of Hf and Zr resulted in a higher activation current density and also a lower pitting potential. These results indicated the role of dendritic structure in decreasing the pitting corrosion resistance of Fe-30Al-5Cr alloy. Ti addition to Fe-30Al-5Cr decreased the number and size of pits. In the case of Zr and Hf addition, the pits nucleated remarkably at dendritic branches.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2009.04b
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pp.3-6
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2009
Aluminum nitride (AIN) thin films were deposited on a polycrystalline 3C-SiC intermediate layer by a pulsed reactive magnetron sputtering system. Characteristics of the AIN/SiC heterostructures were investigated by field emission scanning electron microscopy (FE-SEM), atomic force microscopy (AFM), X-ray diffraction (XRD), and Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR). The columnar structure of AIN thin films was observed by FE-SEM. The surface roughness of AlN films on the 3C-SiC buffer layer was measured using AFM. The XRD pattern of AlN films on SiC buffer layers was highly oriented at (002). Full width at half maximum (FWHM) of the rocking curve near (002) reflections was $1.3^{\circ}$. The infrared absorbance spectrum indicated that the residual stress of AIN thin films grown on SiC buffer layers was nearly negligible. The 3C-SiC intermediate layers are promising for the realization of nitride based electronic and mechanical devices.
The effects of gas composition, pressure, temperature and time on the case thickness, hardness and nitride formation in the surface of tool steels(STD11 and STD61) have been studied by micro-pulse plasma nitriding. External compound layer and internal diffusion layer and the diffusion layer were observed in the nitrided case of tool steels. The relative amounts and kind of phases formed in the nitrided case changed with the change of nitriding conditions. Generally, only nitride phases such as ${\gamma}(Fe_4N)$, ${\varepsilon}(Fe_{2-3}N)$, or $Cr_{1.75}V_{0.25}N_2$ phases were detected in the compound layer, while nitride and carbide phases such as ${\varepsilon}-nitride(Fe_{2-3}N)$, $(Cr,Fe)_{\gamma}C_3$ or $Fe_3C$ were detected in the diffusion layer by XRD analysis. The thickness of compound layer increased with the increase of nitrogen content in the gas composition. Maximum case depth was obtained at gas pressure of 200Pa.
Compound trans-[FeH(NCS(i-Pr)-S)(dppe)₂](1) reacted with isopropyl iodide (i-PrI) to give an Fe(II)-organic isothiocyanide complex, trans-[FeH(NCS(i-Pr)-S)(dppe)₂]I (2). Compound 2 was structurally characterized, in which the hydride ligand appears to be involved in the "dihydrogen" bonding, M-H…H-C. Crystallographic data for 2: monoclinic space group P2₁/n, a=13.490(2)Å, b=17.269(3)Å, c=21.384(3)Å, β=90.682(7)°, Z=4, R(wR₂)=0.0348(0.0894).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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