• 제목/요약/키워드: Downsizing

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Etch Characteristics of MgO Thin Films in Cl2/Ar, CH3OH/Ar, and CH4/Ar Plasmas

  • Lee, Il Hoon;Lee, Tea Young;Chung, Chee Won
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.387-387
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    • 2013
  • Currently, the flash memory and the dynamic random access memory (DRAM) have been used in a variety of applications. However, the downsizing of devices and the increasing density of recording medias are now in progress. So there are many demands for development of new semiconductor memory for next generation. Magnetic random access memory (MRAM) is one of the prospective semiconductor memories with excellent features including non-volatility, fast access time, unlimited read/write endurance, low operating voltage, and high storage density. MRAM is composed of magnetic tunnel junction (MTJ) stack and complementary metal-oxide semiconductor (CMOS). The MTJ stack consists of various magnetic materials, metals, and a tunneling barrier layer. Recently, MgO thin films have attracted a great attention as the prominent candidates for a tunneling barrier layer in the MTJ stack instead of the conventional Al2O3 films, because it has low Gibbs energy, low dielectric constant and high tunneling magnetoresistance value. For the successful etching of high density MRAM, the etching characteristics of MgO thin films as a tunneling barrier layer should be developed. In this study, the etch characteristics of MgO thin films have been investigated in various gas mixes using an inductively coupled plasma reactive ion etching (ICPRIE). The Cl2/Ar, CH3OH/Ar, and CH4/Ar gas mix were employed to find an optimized etching gas for MgO thin film etching. TiN thin films were employed as a hard mask to increase the etch selectivity. The etch rates were obtained using surface profilometer and etch profiles were observed by using the field emission scanning electron microscopy (FESEM).

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Schottky 장벽 접합을 이용한 MOS형 소자의 소오스/드레인 구조의 특성 (The characteristics of source/drain structure for MOS typed device using Schottky barrier junction)

  • 유장열
    • 전자공학회논문지T
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    • 제35T권1호
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    • pp.7-13
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    • 1998
  • Submicron급의 고집적 소자에서는 종래의 긴 채널 소자에서 생기지 않던 짧은 채널효과에 기인하는 2차원적인 영향으로 고온전자(hot carrier) 등이 발생하여 소자의 신뢰성을 저하시키는 요인이 되고 있어 이들의 발생을 최소화할 수 있는 다양한 형상의 소오스/드레인 구조가 연구되고 있다. 본 논문에서는 제작공정의 간략화, 소자규모의 미세화, 응답속도의 고속화에 적합한 소오스/드레인에 Schottky장벽 접합을 채택한 MOS형 트랜지스터를 제안하고, p형 실리콘을 이용한 소자의 제작을 통하여 동작특성을 조사하였다. 이 소자의 출력특성은 포화특성이 나타나지 않는 트랜지스터의 작용이 나타났으며, 전계효과 방식의 동작에 비하여 높은 상호콘덕턴스를 갖고 있는 것으로 나타났다. 여기서 고농도의 채널층을 형성하여 구동 전압을 낮게하고 높은 저항의 기판을 사용하므로서 드레인과 기판사이의 누설전류를 감소시키는 등의 개선점이 있어야 할 것으로 나타났다.

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$Ta_2O_{5}$ 커패시터 박막의 유전 특성과 열 안정성에 관한 연구 (The Study on Dielectric Property and Thermal Stability of $Ta_2O_{5}$ Thin-films)

  • 김인성;이동윤;송재성;윤무수;박정후
    • 대한전기학회논문지:전기물성ㆍ응용부문C
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    • 제51권5호
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    • pp.185-190
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    • 2002
  • Capacitor material utilized in the downsizing passive devices and dynamic random access memory(DRAM) requires the physical and electrical properties at given area such as capacitor thickness reduction, relative dielectric constant increase, low leakage current and thermal stability. Common capacitor materials, $SiO_2$, $Si_3N_4$, $SiO_2$/$Si_3N_4$,TaN and et al., used until recently have reached their physical limits in their application to several hundred angstrom scale capacitor. $Ta_2O_{5}$ is known to be a good alternative to the existing materials for the capacitor application because of its high dielectric constant (25 ~35), low leakage current and high breakdown strength. Despite the numerous investigations of $Ta_2O_{5}$ material, there have little been established the clear understanding of the annealing effect on capacitance characteristic and conduction mechanism, design and fabrication for $Ta_2O_{5}$ film capacitor. This study presents the structure-property relationship of reactive-sputtered $Ta_2O_{5}$ MIM capacitor structure processed by annealing in a vacuum. X-ray diffraction patterns skewed the existence of amorphous phase in as-deposited condition and the formation of preferentially oriented-$Ta_2O_{5}$ in 670, $700^{\circ}C$ annealing. On 670, $700^{\circ}C$ annealing under the vacuum, the leakage current decrease and the enhanced temperature-capacitance characteristic stability. and the leakage current behavior is stable irrespective of applied electric field. The results states that keeping $Ta_2O_{5}$ annealed at vacuum gives rise to improvement of electrical characteristics in the capacitor by reducing oxygen-vacancy and the broken bond between Ta and O.

이산선택모형을 이용한 워크아웃기업의 회생요인 분석 (Success Factors of the Korean Corporate Workouts)

  • 강 동 수
    • KDI Journal of Economic Policy
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    • 제26권1호
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    • pp.71-104
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    • 2004
  • 본 연구에서는 기업구조조정의 세부수단을 계량화하고 각 수단과 워크아웃기업의 회생 여부 간에 유의적인 관계가 존재하는지를 확인하였다. 실증분석을 실시한 결과를 요약하면 다음과 같다. 첫째, 채권자 및 채무자 관점 모두에서 워크아웃을 신청할 당시 기업의 채무구조가 동 기업의 회생 여부에 매우 유의적인 영향을 미친 것으로 나타났다. 둘째, 대부분의 부채조정수단이 워크아웃기업에 큰 영향이 없었던 가운데 이 중 출자전환이 비교적 유효한 구조조정 수단인 것으로 분석되었다. 셋째, 자구노력, 고용조정, 그리고 경영진 및 지배구조 교체는 워크아웃기업의 회생 여부에 미친 유의성이 낮았다. 워크아웃기업이 회생하는 데 있어서 세부적인 기업구조조정수단, 즉 채무재조정, 자구노력, 고용조정, 지배구조개선 등보다는 워크아웃 신청 당시 기업의 채무구조가 중요하였다는 측면에서 우리나라의 워크아웃은 기업구조조정을 통한 효율적인 자원배분보다는 채권회수율을 제고하려는 채권자와 금융위기를 극복하려는 정책당국자의 유인구조에 충실하였던 제도라고 평가할 수 있다.

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NiFe/Co/Cu/Co 스핀밸브 자기저항 메모리 셀에서 형상자기이방성이 메모리 특성에 미치는 영향 (Effects of Shape Anisotropy on Memory Characteristics of NiFe/Co/Cu/Co Spin Valve Memory Cells)

  • 김형준;조권구;주승기
    • 한국자기학회지
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    • 제9권6호
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    • pp.301-305
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    • 1999
  • 보자력의 차이는 나타내는 NiFe(60$\AA$)/Co(5$\AA$) 두 자성층으로 구성된 NiFe(60$\AA$)/Co(5$\AA$)/Cu(40~60$\AA$)/Co(30$\AA$) 스핀밸브 박막을 일반적인 사진식각 공정을 사용하여 $\mu\textrm{m}$크기의 자기저항 메모리 셀로 패턴하고, 형상자기이방성이 자기저항 메모리 셀의 스위칭 특성에 미치는 영향에 대해 연구하였다. 자기저항 메모리 셀의 출력 및 스위칭 특성은 셀의 크기에 따라 1mA의 일정한 전류와 30 Oe 이내의 스위칭 자장에서 수 ~ 수십 mV의 출력 전압을 나타내었다. 특히, NiFe/Co/Cu/Co 스핀밸브 박막의 증착시 기판에 의해 유도된 결정성에 의한 일축자기이방성과 스핀밸브 박막을 직사각형 형태의 셀로 패턴할 때 부가되는 형상자기이방성의 크기 및 방향을 적절히 조절함으로써, 메모리 셀을 구성하는 NiFe/Co 층의 스위칭 자장을 약 1/3로 감소시킬 수 있었으며, 이는 자기저항 메모리 셀의 크기가 서브마이크론 범위로 감소될 때 발생하는 스위칭 자장의 증가 문제를 해결하는 데 도움이 될 것으로 사료된다.

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도시개발(都市開發)에 따른 학교신설 요인(要因)에 관한 연구(硏究) - 인천광역시를 중심으로 - (A Study on the Factors Changing the Number of Students according to the Urban Developments - Focusing on Incheon Metropolitan City -)

  • 이화룡;동재욱;조창희
    • 교육시설
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    • 제16권6호
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    • pp.3-12
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    • 2009
  • Reports on population movement(2000-2030) by the National Statistical Office show that the number of elementary school age population will be decreased by 1.4million from 2005 to 2020. It will effect both school size and the policies for school facilities, which have focused on downsizing class as the high standard of OECD nations. As the unfolding evidence is emerging that a number of schools and classes will be emptied out by 2030. This study aims at developing a objective and scientific device for estimate the number of students at future and evaluating the validity of school establishment. In doing so, it explores the relationship between the changing factors and the number of students. It proposes four factors such as the changes of population, the fertility rate, the number of apartment occupant and movement of population. As the result of the statistic analysis on the correlation coefficient, it finds out that the change of apartment occupant has a close correlation with the change in the number of student and has a deep effect on the establishment of school. Finally, it shows the construction of school according to urban developments during 1999-2008 in Incheon Metro-City. This study would help the authorities to expect the future number of student and to restrict overbuilding of surplus classes, finally the reasonable expenditure for school facilities.

일반국도 자산관리시스템 도입을 위한 기본체계 구축에 관한 연구 (Study on Establishing Essential Framework for Importing Asset Management System of National Road)

  • Park, Hyosung;Lee, Soohyng
    • 한국재난정보학회 논문집
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    • 제10권2호
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    • pp.320-334
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    • 2014
  • 우리나라의 경우 그동안 도로부문의 투자는 신규건설 그 자체가 정부 정책의 핵심이었다. 그러나 최근 정부의 도로부문 예산이 2000년을 정점으로 신규건설은 감소하고 유지관리는 증가하는 추세이다. 이러한 추세에서 도로 유지관리 예산 증가에 대한 정당성을 입증하면서 서비스수준에 대한 사용자 요구에 부응할 수 있는 새로운 도로정책 패러다임이 필요하다. 1950~60년대에 사회기반시설을 집중적으로 건설하였던 선진국들이 최근 공공시설물의 노후화에 대처하기 위해 자산관리 개념을 도입하여 많은 성과를 거두고 있다. 본 연구에서는 일반국도의 효율적인 유지관리를 위해 "한국형 도로 자산관리시스템"을 구축하는데 필요한 기본체계를 제시하였다. 이 시스템의 특징은 장기적이며 예방적인 도로 유지관리 정책을 수립할 수 있도록 기존의 포장관리시스템에 경제성 분석 과정을 포함시키는데 있다.

The Simulation and Forecast Model for Human Resources of Semiconductor Wafer Fab Operation

  • Tzeng, Gwo-Hshiung;Chang, Chun-Yen;Lo, Mei-Chen
    • Industrial Engineering and Management Systems
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    • 제4권1호
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    • pp.47-53
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    • 2005
  • The efficiency of fabrication (fab) operation is one of the key factors in order for a semiconductor manufacturing company to stay competitive. Optimization of manpower and forecasting manpower needs in a modern fab is an essential part of the future strategic planing and a very important to the operational efficiency. As the semiconductor manufacturing technology has entered the 8-inch wafer era, the complexity of fab operation increases with the increase of wafer size. The wafer handling method has evolved from manual mode in 6-inch wafer fab to semi-automated or fully automated factory in 8-inch and 12-inch wafer fab. The distribution of manpower requirement in each specialty varied as the trend of fab operation goes for downsizing manpower with automation and outsourcing maintenance work. This paper is to study the specialty distribution of manpower from the requirement in a typical 6-inch, 8-inch to 12-inch wafer fab. The human resource planning in today’s fab operation shall consider many factors, which include the stability of technical talents. This empirical study mainly focuses on the human resource planning, the manpower distribution of specialty structure and the forecast model of internal demand/supply in current semiconductor manufacturing company. Considering the market fluctuation with the demand of varied products and the advance in process technology, the study is to design a headcount forecast model based on current manpower planning for direct labour (DL) and indirect labour (IDL) in Taiwan’s fab. The model can be used to forecast the future manpower requirement on each specialty for the strategic planning of human resource to serve the development of the industry.

DCT 영역 영상 크기 조절 방법들에 대한 PSNR 비교 (PSNR Comparison of DCT-domain Image Resizing Methods)

  • 김도년;최윤식
    • 한국통신학회논문지
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    • 제29권10C호
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    • pp.1484-1489
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    • 2004
  • 비디오 프레임의 크기를 축소하거나 확대할 때, 응용에 따라서는 입력 및 출력이 8${\times}$8 블록 DCT 계수들로 구성되도록 할 필요가 있다. 선형 변환이고 유니터리(unitary) 변환의 일종인 DCT에는 행렬 곱셈에 대한 분배 법칙이 성립한다. 이러한 사실을 이용하여 두가드, 묵허지, 박 등은DCT 영역에서 비디오 프레임들의 크기를 축소하는 방법들을 제안하였다. 이러한 방식으로 영상을 축소 후 확대하면 원 영상의 저 주파수 DCT 계수들이 잘 보존된다. 즉, 원 상(축소되기 전의 영상)과 예측된 영상(축소 후 확대된 영상)의 차이를 부호화 해야 되는 경우 부호화 효율이 매우 높아진다. 이러한 것은 스케일러빌러터를 이용한 비디오 부호화에 바람직한 사실이다. 본 논문에서는 이전의 방식들의 연장선 상에서 가로 세로 각각 2:1로 축소하고 다시 2:1로 확대할 때 DCT 블록의 크기를 다양이 하였다. 실험에 의하면 DCT 블록 크기를 크게 할수록 PSNR 값이 커짐을 알 수 있었다. 그러나, 계산상의 복잡도 역시 커질 것으로 예상된다. 본 논문의 실험 결과는 압축 영역 영상 축소 및 확대를 위한 고속 알고리즘 개발에 중요한 데이터가 될 것으로 생각한다.

대량실직과 노사분규 상황에 있는 근로자에 대한 위기중재 프로그램 적용 사례 (Crisis Intervention for Workers in Severely Stressful Situations After Massive Layoffs and Labor Disputes)

  • 우종민;채정호;최수찬
    • Journal of Preventive Medicine and Public Health
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    • 제43권3호
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    • pp.265-273
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    • 2010
  • Objectives: Due to the economic crisis and globalization, many workers have been suffering from severe occupational stress due to job insecurity and struggles related to downsizing and restructuring. This study aims to assess the stress levels among workers involved in fierce labor disputes and massive layoffs and to evaluate their specific needs and satisfaction with counseling services set up to help workers cope with severely stressful situations? Methods: The authors provided crisis intervention to workers in traumatic situations to compare the differential level of stress responses and needs among the workers remaining employed in a large auto factory, those laid off by it, and those laid off by other companies in the same region (Pyeongtaek, Gyeonggi Province). We measured stress levels using the worker's stress response inventory (WSRI) and heart rate variability (HRV), and assessed workers' satisfaction with the counseling services. Results: 502 workers participated in the program. Fifty-seven percent of them consulted with occupational problems. The mean WSRI score of the workers remaining employed in the automobile factory was higher than that of the unemployed (employed: $39.8{\pm}19.9$ unemployed: $29.3{\pm}18.8$). Ninety-five percent of workers responded that they were satisfied or very satisfied with the counseling services. Conclusions: This study suggests the urgent need for the establishment of a national crisis intervention program dedicated to supporting workers in severely stressful situations.