Park, Chang-Won;Cho, Dae-Hyun;Hong, Sung-Youl;Han, Jeung-Whan;Lee, Hyang-Woo
YAKHAK HOEJI
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v.42
no.6
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pp.598-606
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1998
The liver expresses a considerable amount of nitric oxide (NO) upon induction with cytokines or/and endotoxin. The NO synthesized by inducible NO synthase (NOS) of the liver see ms to play a role in various hepatic physiological processes. Here we investigate the effects of NO on acetaminophen (AA)-induced liver injury. The treatment of S-nitros-N-acetyl penicillamine (SNAP, exogenous NO donor) at the dose of 0.1mM decreased AA-induced hepatotoxicity suggesting the possibility of NO to play a role in protection from the hepatotoxicity induced by AA. On the other hand, the excessive NO produced by NO donor (SNAP: 0.5, 2.5, 6.25mM) has been shown to cause a concentration dependent hepatotoxicity, and such damages was decreased by Superoxide and increased by superoxide dismutase, indicating that the hepatotoxicity induced by excessive NO depends on balancing between NO and superoxide. Taken together, the results indicate that NO has biphasic effects on hepatotoxicity.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.10
no.3
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pp.89-92
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2009
High-quality Al-N doped p-type ZnO thin films were deposited on Si and buffer layer/Si by DC magnetron sputtering in a mixture of $N_2$ and $O_2$ gas. The target was ceramic ZnO mixed with $Al_2O_3$ (2 wt%). The p-type ZnO thin films showed a carrier concentration in the range of $1.5{\times}10^{15}{\sim}2.93{\times}10^{17}\;cm^{-3}$, resistivity in the range of 131.2${\sim}$2.864 ${\Omega}cm$, mobility in the range of 3.99${\sim}$31.6 $cm^2V^{-1}s^{-l}$, respectively. It was easier to dope p-type ZnO films on Si substrates than on buffer layer/Si. The film grown on Si showed the highest quality of photoluminescence (PL) characteristics. The Al donor energy level depth $(E_d)$ of Al-N codoped ZnO films was reduced to about 50 meV, and the N acceptor energy level depth $(E_a)$ was reduced to 63 meV.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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1992.05a
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pp.50-53
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1992
The GaP crystals are growth by Synthesis Solute Diffusion(SSD) method and its properties are investigated. Etch pits density along vertical direction of ingot is increased from 3.8${\times}$10$^4$cm$\^$-2/ of first freeze to 2.3${\times}$10$\^$5/cm$\^$-2/ of last freeze part. The carrier concentration and mobilities are measured to 197.49$\textrm{cm}^2$/V. sec and 6.75${\times}$10$\^$15/cm$\^$-3/ at room temperature. The temperature dependence of optical energy gap is empilically fitted to E$\_$g/(T)=2.3383-(6.082${\times}$10$\^$-4/T${\times}$/(373.096+T)[eV]. Photo-luminescence spectra measured at low temperature are consist with sharp line-spectra near band-gap energy and radiative recombination between shallow Si-donor to Zn-acceptor and its phonon reprica, and broad emission. The infrared absorption in GaP is cause to phonon coupling modes of TO, LO, LA, TA$_1$, TA$_2$and vibration modes of Ga$_2$O, Si-donor and Zn-acceptor, respectively.
This study utilized citric acid as a floating agent in biological denitrification process and assessed its role under different carbon supplying conditions. Several microcosm tests including citric acid active (CAA), precipitating tablet release active (PTRA) and floating tablet release active (FTRA) were conducted to evaluate nitrate denitrification efficacy. In CAA reactors, nitrate removal was accompanied by the formation of denitrification by-products such as nitrite and nitrous oxide, with the extent of nitrate removal being proportional to citric acid concentration. These results suggest that citric acid induced heterotrophic biological denitrification. PTRA reactor that incorporated CAA and the same electron donor showed a similar denitrification efficiency to CAA reactor. FTRA reactor, which contained the same amount of fumarate as PTRA, enhanced denitrification by 7% as compared to the PTRA reactor. The overall results of this work indicate that surplus citric acid can be efficiently utilized in heterotrophic denitrification.
Recent studies have implicated reactive oxygen species (ROS) as determinants of the pathological pain caused by the activation of peripheral neurons. It has not been elucidated, however, how ROS activate the primary sensory neurons in the pain pathway. In this study, calcium imaging was performed to investigate the effects of NaOCl, a ROS donor, on the intracellular calcium concentration ($[Ca^{2+}]i$) in acutely dissociated dorsal root ganglion (DRG) neurons. DRG was sequentially treated with 0.2 mg/ml of both protease and thermolysin, and single neurons were then obtained by mechanical dissociation. The administration of NaOCl then caused a reversible increase in the $[Ca^{2+}]i$, which was inhibited by pretreatment with phenyl-N-tertbuthylnitrone (PBN) and isoascorbate, both ROS scavengers. The NaOCl-induced $[Ca^{2+}]i$ increase was suppressed both in a calcium free solution and after depletion of the intracellular $Ca^{2+}$ pool by thapsigargin. Additionally, this increase was predominantly blocked by pretreatment with the transient receptor potential (TRP) antagonists, ruthenium red ($50\;{\mu}M$) and capsazepine ($10\;{\mu}M$). Collectively, these results suggest that an increase in the intracellular calcium concentration is produced from both extracellular fluid and the intracellular calcium store, and that TRP might be involved in the sensation of pain induced by ROS.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.24
no.10
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pp.775-778
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2011
TBP (tertiarybutylphosphine), a relatively new material for phosphorus, has been studied with EDMIn (ethyldimethylindium) as an indium source for the growth of InP by MOVPE (metalorganic vapor phase epitaxy). Mirror smooth and good crystalline InP layers were obtained at $500-600^{\circ}C$ with the TBP/EDMIn molar ratio as low as 21. The deposited InP layers are all n-type with the electron concentration in the range of (5-10)${\times}10^{16}\;cm^{-3}$, which is a lot higher than those from $PH_3$. This high concentration is due presumably to the high concentration of donor impurities in TBP. And it has been found that the formation of adduct occurs between EDMIn and TBP at room temperature when the partial pressure of EDMIn in the reactant mixture is above $1{\times}10^{-2}$ Torr. The high concentration of impurities in TBP and the adduct formation between EDMIn and TBP are major obstacles in replacing $PH_3$ and TMIn for the growth of device quality InP layers.
El-Hallag, Ibrahim S.;Moharram, Youssef I.;Darweesh, Mona A.;Tartour, Ahmed R.
Journal of Electrochemical Science and Technology
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v.11
no.3
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pp.291-309
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2020
Chromium was electrodeposited from deep eutectic solvents-based Cr3+ electrolytes on HB-pencil graphite electrode. Factors influencing the electrochemical behavior and the processes of Cr nucleation and growth were explored using cyclic voltammetry and chronoamperometry techniques, respectively. Cr3+ reduction was found to occur through an irreversible diffusion-controlled step followed by another irreversible one of impure diffusional behaviour. The reduction behavior was found to be greatly affected by Cr3+ concentration, temperature, and type of hydrogen bond donor used in deep eutectic solvents (DESs) preparation. A more comprehensive model was suggested and successfully applied to extract a consistent data relevant to Cr nucleation kinetics from the experimental current density transients. The potential, the temperature, and the hydrogen bond donor type were estimated to be critical factors controlling Cr nucleation. The nucleation and growth processes of Cr from either choline chloride/ethylene glycol (EG-DES) or choline chloride/urea (U-DES) deep eutectic solvents were evaluated at 70℃ to be three-dimensional (3D) instantaneous and diffusion-controlled, respectively. However, the kinetics of Cr nucleation from EG-DES was found to be faster than that from U-DES. Cr nucleation was tending to be instantaneous at higher temperature, potential, and Cr3+ concentration. Cr nuclei electrodeposited from EG-DES were characterized at different conditions using scanning electron microscope (SEM). SEM images show that high number density of fine spherical nuclei of almost same sizes was nearly obtained at higher temperature and more negative potential. Energy dispersive spectroscopy (EDS) analysis confirms that Cr deposits were obtained.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.15
no.8
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pp.664-670
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2002
The electrical characteristics of $ZnO-Pr_6O_{11}-CoO-Cr_2O_3-Y_2O_3$(ZPCCY)-based varistors were investigated with $Y_2O_3$ content in the range of 0.0~4.0 mol%. As $Y_2O_3$ content is increased, the average grain size was markedly decreased in the range of 18.6~3.2 $\mu m$ and the density of the ceramic was decreased in the range of 5.53 ~3.74 $g/\textrm{cm}^3$. While, the varistor voltage was increased in the range of 39.4~748.1 V/mm and the nonlinear exponent was in the range of 4.5~51.2 with increasing $Y_2O_3$ content. The addition of $Y_2O_3$ greatly enhanced the nonlinear properties of varistors, compared with the varistor without $Y_2O_3$. In particular, the varistors with $Y_2O_3$content of 0.5 mol% exhibited the highest nonlinearity, in which the nonlinear exponent is 51.2 and the leakage current is 1.3 $\mu A$. The donor concentration and the density of interface states were decreased in the range of (4.19~0.14) $\times$10$^{18}$ /㎤ and (5.38~1.15)${\times}10^{18}/\textrm{cm}^3$, respectively, with increasing $Y_2O_3$ content.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.11
no.1
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pp.48-56
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1998
Pr\ulcornerO\ulcorner-based ZnO varistors were fabricated in the range of $Y_2$O$_3$additive content from 0.5 to 4.0mol%, and its microstructure and electrical properties were investigated. Yttrium was distributed nearly in the grain boundaries and the cluster phase formed at nodal point but more in cluster phase. The average grain size was decreased markedly from 34.9 to 8.6${\mu}{\textrm}{m}$ with increasing $Y_2$O$_3$additive content. It is believed that the decrease of grain size is attributed to the formation of cluster phase and the weakening of driving force for liquid sintering. As a result, $Y_2$O$_3$was acted as the inhibitor of the grain growth. With increasing $Y_2$O$_3$additive content, the varistor voltage, the activation energy, and the nonlinear exponent increased whereas the leakage current decreased, especially 4.0mol% $Y_2$O$_3$-added varistor exhibited very good I-V characteristics; nonlinear exponent 87.42 and leakage current 46.77nA. On the other hand, as $Y_2$O$_3$additive content increases, the varistor showed tendency of the salient decrease for donor concentration and the increase for barrier height. Conclusively, it is estimated that ZnO:Pr varistor compositions added more than 2.0mol% $Y_2$O$_3$are to be used to fabricate useful varistors.
Kim, Dong-Ho;Kim, Hyeon-Beom;Kim, Hye-Ri;Lee, Geon-Hwan;Song, Pung-Geun
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.08a
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pp.145-145
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2010
In this paper, we report that the effects of hydrogen doping on the electrical and optical properties of typical transparent conducting oxide films such as ZnO and $SnO_2$ prepared by magnetron sputtering. Recently, density functional theory (DFT) calculations have shown strong evidence that hydrogen acts as a source of n-type conductivity in ZnO. In this work, the beneficial effect of hydrogen incorporation on Ga-doped ZnO thin films was demonstrated. It was found that hydrogen doping results a noticeable improvement of the conductivity mainly due to the increases in carrier concentration. Extent of the improvement was found to be quite dependent on the deposition temperature. A low resistivity of $4.0{\times}10^{-4}\;{\Omega}{\cdot}cm$ was obtained for the film grown at $160^{\circ}C$ with $H_2$ 10% in sputtering gas. However, the beneficial effect of hydrogen doping was not observed for the films deposited at $270^{\circ}C$. Variations of the electrical transport properties upon vacuum annealing showed that the difference is attributed to the thermal stability of interstitial hydrogen atoms in the films. Theoretical calculations also suggested that hydrogen forms a shallow-donor state in $SnO_2$, even though no experimental determination has yet been performed. We prepared undoped $SnO_2$ thin films by RF magnetron sputtering under various hydrogen contents in sputtering ambient and then exposed them to H-plasma. Our results clearly showed that the hydrogen incorporation in $SnO_2$ leads to the increase in carrier concentration. Our experimental observation supports the fact that hydrogen acting as a shallow donor seems to be a general feature of the TCOs.
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