Formation of Dielectric Carbon Nitride Thin Films using a Pulsed Laser Ablation Combined with High Voltage Discharge Plasma (펄스 레이저 애블레이션이 결합된 고전압 방전 플라즈마 장치를 이용한 유전성 질화탄소 박막의 합성)
-
- Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
- /
- 제16권7호
- /
- pp.641-646
- /
- 2003