Characteristics of Discharge and nonthermal plasma generation in a micro-air gap spacing between a micro-dielectric barrier and a electrode have been investigated experimentally to chert the potential to be used as a micro-scale nonthermal plasma generator. It is found that the output ozone concentration, as a nonthermal plasma intensity parameter, of the micro-air gnp nonthermal plasma generator depended greatly upon the air gap spacing and thickness of the dielectric barrier. As a result, there is a optimal air gap sparing in the same micro dielectric barrier to generate ozone effectively. And the higher ozone concentration was generated from the thinner micro-barrier.
In order to confirm the creation of the OH radical which influences to RNO bleaching processes, it experimented using laboratory reactor of dielectric barrier discharge plasma (DBDP). The experiments performed in about 4 kind process variables (diameter of ground electrode, diameter of discharge electrode, diameter of quartz tube and effect of air flow rate) which influence to process. In order to examine optimum conditions of design factors as shown in Box-Behnken experiment design, ANOVA analysis was conducted against four factors. The actual RNO removal at optimized conditions under real design constraints were obtained, confirming Box-Behnken results. Optimized conditions under real design constraints were obtained for the highest desirability at 1, 1 mm diameter of ground and discharge electrode, 6 mm diameter of quartz tube and 5.05 L/min air flow rate, respectively.
This work was carried out ozone generation and TCE decomposition characteristics using dielectric ball materials filled barrier discharge reactor and catalyst's reactor for ozone decomposition. Ozone concentration generated from $Al_2O_3$ or $TiO_2$ filled barrier discharge reactor was so high compared with non-filled discharge reactor. This reactor is good discharge structure for generating the high ozone concentration. In addition, TCE decomposition rate and COx conversion rate increased using $MnO_2$ filled discharge reactor, because ozone was decomposed at the same discharge space on the surface of $MnO_2$ catalysts. To identify the $MnO_2$ catalytic effects, TCE decomposition rate reached to 100[%] by the decomposition of ozone at $MnO_2$ catalyst's reactor by the arrangement of $Al_2O_3$ filled discharge reactor and $MnO_2$ catalyst reactor. Finally, $MnO_2$ catalyst is good materials for the decomposition of ozone and this process will be useful for decomposing VOCs such as TCE.
Decomposition of benzene and selectivity of byproducts were investigated by using Dielectric Barrier Discharge (DBD) at atmospheric pressure. In order to increase the decomposition rate and selectivity of byproducts, two types of catalysts, H-ZSM-5 and Na-Y, were optionally employed inside the reactor of the process. The decomposition efficiency of benzene was investigated on the DBD and DBD/catalyst systems at various processing parameters including discharge voltage, residence time, and concentration of benzene. The results showed that, compared with the DBD only, the catalyst-assisted DBD process as a hybrid discharge type had an improved decomposition efficiency at the same process conditions of discharge voltage and residence time
This objective of this study was to investigate the degradation characteristics of phenol, a refractory substance, by using a submerged dielectric barrier discharge (DBD) plasma reactor. To indirectly determine the concentration of active species produced in the DBD plasma, the dissolved ozone was measured. To investigate the phenol degradation characteristics, the phenol and chemical oxygen demand (COD) concentrations were evaluated based on pH and the discharge power. The dissolved ozone was measured based on the air flow rate and power discharged. The highest dissolved ozone concentration was recorded when the injected air flow rate was 5 L/min. At a discharge power of 40W as compared to 70W, the dissolved ozone was approximately 2.7 - 6.5 times higher. In regards to phenol degradation, the final degradation rate was highest at about 74.06%, when the initial pH was 10. At a discharged power of 40W, the rate of phenol decomposition was observed to be approximately 1.25 times higher compared to when the discharged power was 70W. It was established that the phenol degradation reaction was a primary reaction, and when the discharge power was 40W as opposed to 70W, the reaction rate constant(k) was approximately 1.72 times higher.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.49
no.1
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pp.37-43
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2000
In this experimental study we proposed the double dielectric barrier discharge (DDBD) reactor to produce as high an electric field as possible. The experiment are conducted for applied voltage from 15 to 20[kV], $1~4[\ell/min]$ of gas flow rate and 120[Hz] and 240[Hz] of pulse rate. Superposition discharge(SPD) generated in DDBD which combined the surface discharge with the silence discharge was the most effective to reduce the $NO_x$. In the decomposition efficiency per watt, the low pulse rate gave better efficiency than the high pulse rate. However in DeNOx rate, the high pulse rate gave better performance than the low pulse rate. $NO_x$ removal rate and efficiency increased with increasing the applied voltage in all reactors.
Kim, Joo-Sung;Byun, Dong-Jin;Kim, Jin-Sang;Kum, Dong-Wha
Korean Journal of Materials Research
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v.9
no.12
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pp.1216-1221
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1999
GaN films were deposited on sapphire [$Al_2O_3(0001)$] substrates at relatively low temperature by MOCVD using N-atom source based on a Dielectric Barrier Discharged method. Ammonia gas($NH_3$is commonly used as an N-source to grow GaN films in conventional MOCVD process, and heating to high temperature is required to provide sufficient dissociation of $NH_3$. We used a dielectric barrier discharge method instead of $NH_3$ to grow GaN film relatively low temperature. DBD is a type of discharge, which have at least one dielectric material as a barrier between electrode. DBD is a type of controlled microarc that can be operated at relatively high gas pressure. Crystallinity and surface morphology depend on growth temperature and buffer layer growth. With the DBD-MOCVD method, wurtzite GaN which is dominated by the (0001) reflection was successfully grown on sapphire substrate even at $700^{\circ}C$.
Kim, Kwan-Tae;Kim, Yong-Ho;Cha, Min-Suk;Song, Young-Hoon;Kim, Seock-Joon;Ryu, Jeong-In
Journal of Korean Society for Atmospheric Environment
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v.20
no.5
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pp.625-632
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2004
Perfluorocompounds ($PFC_s$), such as tetrafluoromethane ($CF_4$) and hexafluoroethane ($C_2F_6$), have been widely used as plasma etching and chemical vapor deposition (CVD) gases for semiconductor manufacturing processes. Since these $PFC_s$ are known to cause a greenhouse effect intensively, there has been a growing interest in reducing $PFC_s$ emissions. Among various $CF_4$ decomposing techniques, a dielectric barrier discharge (DBD) is considered as one of a promising candidate because it has been successfully used for generating ozone ($O_3$) and decomposing nitrogen oxide (NO). Firstly, optimal concentration of oxygen for $CF_4$ decomposition was found to figure out how many primary and secondary reactions are associated with DBD process. Secondary, to find effective discharge method for $CF_4$ decomposition, a streamer and a glow mode in DBD are experimentally compared, which includes (i) coaxialcylinder DBD, (ii) DBD reactor packed with glass beads. and (iii) a glow mode operation with a helium gas. The test results showed that optimal concentration of oxygen was ranged 500 ppm~1% for treating 500 ppm of $CF_4$ and helium glow discharge was the most efficient one to decompose $CF_4$.
Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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v.23
no.12
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pp.184-190
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2009
Tri-acetyl-cellulose(TAC) film surface was modified by atmospheric-pressure plasma technique to obtain the hydrophilic functional groups and improve the contact angle. TAC film was modified with N2 plasma ionized in dielectric barrier discharge(DBD) reactor under atmospheric pressure. We measured the change of the contact angle and the surface energy with respect to the plasma treatment conditions such as plasma treatment power, discharge gap and N2 gas flow rate. As the plasma treatment speed of 100[mm/sec], the plasma treatment power of 1.5[kW], discharge gap 2[mm] and the $N_2$ gas flow rate 140[LPM], the best contact angle and the highest surface energy were obtained. The degree of hydrophilization depended strongly on the plasma-treating time and discharge power.
Dielectric discharges are an emerging technique in environmental pollutant degradation, which that are characterized by the production of hydroxyl radicals as the primary degradation species. For practical application of the plasma reactor, reactor that can handle large amounts of water are needed. Plasma research to date has focused on small-scale water treatment. This study was carried out basic study for scale-up of a single DBD (dielectric barrier discharge) plasma reactor. The degradation of N, N-Dimethyl-4-nitrosoaniline (RNO, indicator of the generation of OH radical) was used as a performance indicator of multi-plasma reactor. The experiments is divided into two parts: design parameters [effect of distance of single plasma module (1~14 cm), arrangement of ground electrode (single and multi), rector number (1~5) and power number (1~5)]; operation parameter [effect of applied voltage (60~220 V), air flow rate (1~5 L/min), electric conductivity of solution ($1.4{\mu}S/cm$, deionized water)~18.8 mS/cm (addition of NaCl 10 g/L) and pH (5~9)]. Considering the electric stability of the plasma reactor, optimum spacing between the single plasma module was 2 cm. Multi discharge electrodes - single ground electrode array was selected. Combination of power 3-plasma module 5 was the optimal combination for maximum RNO degradation. The optimum 1st voltage and air flow rate for RNO degradation were 180 V and 4 L/min, respectively. The pH and conductivity of the solution was not influencing the RNO degradation.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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