[ $RuO_2$ ]는 DRAM과 FRAM소자에서 고유전 capacitors의 저전극물질로서 폭넓게 연구되고 있다. 본 연구에서는 XRD, SEM, AFM 분석 등을 통하여 금속유기 화학 증착법(MOCVD)으로 $RuO_2$ 증착시 핵생성에 영향을 미치는 수소, 산소, 아르곤 ECR플라즈마 전처리 효과를 조사하였으며, 아르곤 ECR플라즈마 전처리의 경우 가장 높은 핵생성 밀도를 나타내었다. ECR 플라즈마 전처리를 통한 $RuO_2$의 핵생성 향상 메카니즘은 아르곤이나 수소 ECR 플라즈마는 TiN막 표면의 질소나 산소원자를 제거하고 따라서 TiN막 표면은 Ti-rich TiN으로 바뀌게 되는 것이다.
In the boiling heat transfer mechanism, CHF(critical heat flux) is the significantly important parameter of the system. So, many researchers have been struggling to enhance the CHF of the system in enormous methods. Recently, there were lots of researches about enormous CHF enhancement with the nanofluids. In that, the pool boiling CHF in nanofluids has the significantly increased value compared to that in pure water because of the deposition of the nanoparticle on the heater surface in the nanofluids. The aim of this study is the comparison of the effect of the nanoparticle deposited surface and the modified surface which has the similar morphology and made by MEMS fabrication. The nanoparticle deposited surface has the complex structures in nano-micro scale. Therefore, we fabricated the surfaces which has the similar wettability and coated with the micro size post and nano structure. The experiment is performed in 3 cases : the bare surface with 0.002% water-ZnO nanofluids, the nanoparticle deposited surface with pure water and the new fabricated surface with pure water. The contact angle, a representative parameter of the wettability, of the all 3 cases has the similar value about 0 and the SEM(scanning electron microscope) images of the surfaces show the complex nano-micro structure. From the pool boiling experiment of the each case, the nanoparticle deposited surface with pure water and the fabricated surface with pure water has the almost same CHF value. In other words, the CHF enhancement of the nanoparticle deposited surface is the surface effect. It also shows that the new fabricated surface follows the nanoparticle deposited surface well.
The performance of gas turbines is decreased as their operating hours increase. Fouling in the axial compressor is one of main reasons for the performance degradation of gas turbine. Airborne particles entering with air at the inlet into compressor adhere to the blade surface and result in the change of the blade shape, which is closely and sensitively related to the compressor performance. It is difficult to exactly analyze the mechanism of the compressor fouling because the growing process of the fouling is very slow and the dimension of the fouled depth on the blade surface is very small compared with blade dimensions. In this study, an improved analytic method to predict the motion of particles in compressor cascades and their deposition onto blade is proposed. Simulations using proposed method and their comparison with field data demonstrate the feasibility of the model. It if found that some important parameters such as chord length, solidity and number of stages, which represent the characteristics of compressor geometry, are closely related to the fouling phenomena. And, the particle sloe and patterns of their distributions are also Important factors to predict the fouling phenomena in the axial compressor of the gas turbine.
Kim, Ji-Hoon;Seo, Jae-Won;Kang, Hye-Seung;Kim, Jeong-Kyu;Kim, Jeong-Won;Lee, Han-Gil;Kwon, Young-Kyung;Park, Yong-Sup
한국진공학회:학술대회논문집
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한국진공학회 2010년도 제39회 하계학술대회 초록집
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pp.63-63
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2010
Using both experimental and theoretical approaches, we have investigated the adsorption properties of an organic molecule (HATCN), which is used in OLEDs as an efficient hole injection layer, on metal and inert surfaces. We have also studied the structural and electronic properties of such interfaces and the dependences on deposition thickness. We have observed different trends in work function changes with different surfaces. Our photoelectron spectroscopic measurements have revealed an abnormal phenomenon in HATCN on a metal (Cu) surface: the work function decreases at lower coverage (~monolayer) of HATCN on a metal (Cu) surface, but it increases back and becomes higher than that of a bare Cu surface at higher coverage. It has, on the contrary, been observed that the work function of graphene surface just increases as the HATCN coverage increases. Our first-principles density functional calculations has not only verified our experimental observations, but also disclosed the underlying mechanism of such abnormal and different work function behaviors. We have found that the change in work function results from mutual polarization induced by the geometrical deformation and the bond dipole formed at the interface due to the charge redistribution. At low coverage of HAT-CN on Cu substrate, the former reduces the work function significantly by pulling down the vacuum level, while the latter tends to push up the vacuum level resulting in the work function increase.
The permeate flux decline due to membrane fouling can be addressed using a variety of theoretical stand-points. Judicious selection of an appropriate theory is a key toward successful prediction of the permeate flux. The essential criterion f3r such a decision appears to be a detailed characterization of the feed solution and membrane properties. Modem theories are capable of accurately predicting several properties of colloidal systems that are important in membrane separation processes from fundamental information pertaining to the particle size, charge, and solution ionic strength. Based on such information, it is relatively straight-forward to determine the properties of the concentrated colloidal dispersion in a polarized layer or the cake layer properties. Incorporation of such information in the framework of the standard theories of membrane filtration, namely, the convective diffusion equation coupled with an appropriate permeate transport model, can lead to reasonably accurate prediction of the permeate flux due to colloidal fouling. The schematic of the essential approach has been delineated in Figure 5. The modern approaches based on appropriate cell models appear to predict the permeate flux behavior in crossflow membrane filtration processes quite accurately without invoking novel theoretical descriptions of particle back transport mechanisms or depending on adjust-able parameters. Such agreements have been observed for a wide range of particle size ranging from small proteins like BSA (diameter ${\~}$6 nm) to latex suspensions (diameter ${\~}1\;{\mu}m$). There we, however, several areas that need further exploration. Some of these include: 1) A clear mechanistic description of the cake formation mechanisms that clearly identifies the disorder to order transition point in different colloidal systems. 2) Determining the structure of a cake layer based on the interparticle and hydrodynamic interactions instead of assuming a fixed geometrical structure on the basis of cell models. 3) Performing well controlled experiments where the cake deposition mechanism can be observed for small colloidal particles (< $1\;{\mu}m$). 4) A clear mechanistic description of the critical operating conditions (for instance, critical pressure) which can minimize the propensity of colloidal membrane fluting. 5) Developing theoretical approaches to account for polydisperse systems that can render the models capable of handing realistic feed solutions typically encountered in diverse applications of membrane filtration.
Interest in the integrated capacitors, which make it possible to reduce the size of and to obtain improved electrical performance of an electronic system, is expanding. In this study, $Ta_2$O\ulcorner thin film capacitors for MCM integrated capacitors were fabricated on a Upilex-S polymer film by DC magnetron reactive sputtering and the effects of low temperature annealing at various atmospheres and substrate surface morphology on the capacitor characteristics were discussed. The low temperature($150^{\circ}C$) annealing produced improved capacitor yield irrespective of the annealing at mosphere. But the leakage current of the $O_2$-annealed film was larger than that of any other films. This is presumably mosphere. But the leakage current of the $O_2$-annealed film was larger than that of any other films. This is presumably due to the change of the $Ta_2$O\ulcorner film surface by oxygen, which was explained by conduction mechanism study. Leakage current and breakdown field strength of the capacitors fabricated on the Upilex-S film were 7.27$\times$10\ulcornerA/$\textrm{cm}^2$ and 1.0 MV/cm respectively. These capacitor characteristics were inferior to those of the capacitors fabricated on the Si substrate but enough to be used for decoupling capacitors in multilayer package. Roughness Analysis of each layer by AFM demonstrated that the properties of the capacitors fabricated on the polymer film were affected by the surface morphology of the substrate. This substrate effect could be classified into two factors. One is the surface morphology of the polymer film and the other is the surface morphology of the metal bottom electrode determined by the deposition process. Therefore, the control of the two factors is important to obtain improved electrical of capacitors deposited on a polymer film.
Ti과 Si의 초기 반응이 Titanium Silicide의 표면 거칠기 (Surface roughness)를 고찰하기 위해 연구하였다. 형성기구는 In-situ AES와 LEED의 측정장비로 연구하였다. Ti의 하나나 두 원자층이 초고진공에서 원자적으로 깨끗한 Si 기판 위에 증착되었다. Reconstruction이 된 $7{\times}7$ Si(111) 표면이 초 고진공하에서 얻어졌으며 박막의 증착은 Quartz Crystal Oscillator로 측정되었다. In-situ 측정 결과 Ti과 Si의 초기 반응이 실온에서 일어났으며 Disorder막을 형성하였다. 낮은 온도($200^{\circ}C{\sim}300^{\circ}C$)에서 Ti과 Si의 Intermixing이 고찰되었고 $400^{\circ}C$ 근처에서 $1{\times}1$ Si(111) LEED 패턴이 관찰되었다. 이것은 Disorder막이 Order막으로 변화가 생긴 것을 나타낸다. 더 높은 온도에서 $7{\times}7$ Si(111) LEED 패턴이 재관찰되었는데 이것은 3차원적인 $TiSi_2$의 형성을 증명하는 것이다.
Objective : Recent studies indicate that the deposition of ${\beta}-amyloid$ ($A{\beta}$) is related in the pathogenesis of Alzheimer's disease (AD), but the underlying mechanism is still not clear. Method : To investigate the potential cellular functions of APP and water extract of the JangwonHwangagambang (JWHG), we use as in vitro model, neuro 2A cells were treated with either JWHG or its oriental medicines, and the effect in APP expression was determined by MTT and LDH assay. JWHG have been shown to be neuroprotective in different model systems. We asked whether JWHG treatment would influence cell survival and AD-like pathology in APP-induced neuronal cells. Result : JWHG and water extracts of some oriental medicine has attenuated high cell death in vitro. JWHG-treated cells increased percentage of cell survival more longly than controls. JWHG had significantly increas neurite outgrowth in the as compared to control cells. Conclusion : These results suggest that JWHG prevent APP-induced neurotoxicity through attenuating oxidative stress, and may be useful as potential therapeutic agents for AD.
As the trench width in the interconnect technology decreases down to nano-scale below 50 nm, superconformal gap-filling process of Cu becomes very critical for Cu interconnect. Obtaining superconfomral gap-filling of Cu in the nano-scale trench or via hole using MOCVD is essential to control nucleation and growth of Cu. Therefore, nucleation of Cu must be suppressed near the entrance surface of the trench while Cu layer nucleates and grows at the bottom of the trench. In this study, suppression of Cu nucleation was achieved by treating the Ru barrier metal surface with capacitively coupled hydrogen plasma. Effect of hydrogen plasma pretreatment on Cu nucleation was investigated during MOCVD on atomic-layer deposited (ALD)-Ru barrier surface. It was found that the nucleation and growth of Cu was affected by hydrogen plasma treatment condition. In particular, as the plasma pretreatment time and electrode power increased, Cu nucleation was inhibited. Experimental data suggests that hydrogen atoms from the plasma was implanted onto the Ru surface, which resulted in suppression of Cu nucleation owing to prevention of adsorption of Cu precursor molecules. Due to the hydrogen plasma treatment of the trench on Ru barrier surface, the suppression of Cu nucleation near the entrance of the trenches was achieved and then led to the superconformal gap filling of the nano-scale trenches. In the case for without hydrogen plasma treatments, however, over-grown Cu covered the whole entrance of nano-scale trenches. Detailed mechanism of nucleation suppression and resulting in nano-scale superconformal gap-filling of Cu will be discussed in detail.
As an environment-friendly alternative energy resource, ethanol may be used to obtain hydrogen, a clean energy source. Thus, studies on catalytic reactions involving ethanol have been studied to understand the underlying principles in the reaction mechanism using various oxide-supported catalysts. Among them, Au-based catalysts have shown a superior activity in producing hydrogen gas. In the present study, Au/$TiO_2$ catalysts were prepared by deposition-precipitation method to understand their catalytic activities toward ethanol and acetaldehyde with increasing gold loading, especially at the very low Au loading regime. A commercially available $TiO_2$ (Degussa P-25) was employed and the Au loading was varied to 0, 0.1, 0.5, and 1.0 wt% respectively. The catalysts showed characteristic x-ray diffraction (XRD) features at $2{\theta}=78.5^{\circ}$ that could be assigned to the presence of gold nanoparticles. Its reactivity measurements were performed under a constant flow of ethanol and acetaldehyde at a flow rate of ${\sim}0.6{\mu}mol/sec$ and the substrate temperature was slowly raised at a rate of 0.2 K/sec. We observed that the overall reactivity of the catalysts increased with increasing Au loading along with selectivity favoring dehydrogenation to product hydrogen gas. In addition, we disclosed various reaction channels involving competitive reaction paths such as dehydrogenation, dehydration, and condensation. In addition, subsequent reactions of acetaldehyde obtained from dehydrogenation of ethanol, were found to occur and produce butene, crotonaldehyde, furan, and benzene. Based on the results, we proposed overall reaction pathways of such reaction channels.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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