Investigation of Interface States of $HfO_2/Al_2O_3/Si$ MOS System by Deep Level Trasient Spectroscopy
(DLTS를 이용한 $HfO_2/Al_2O_3/Si$ MOS의 계면 상태에 관한 연구)
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- Proceedings of the Korean Ceranic Society Conference
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- 2003.04a
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- pp.35.1-35
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- 2003