• Title/Summary/Keyword: DC 플라즈마

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플라즈마 방전에 의한 황산화물의 분해저거

  • 우인성;황명환;강현춘
    • Proceedings of the Korean Institute of Industrial Safety Conference
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    • 1997.11a
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    • pp.309-312
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    • 1997
  • 최근 자동차의 급격한 증가와 더불어 자동차 배기가스로부터 배출되는 오염물질은 우리의 생존을 위협하고 있다. 또한 소각로에서 온도제어 결함에 의하여 배출되는 다이옥신 같은 휘발성유기물과 질소산화물, 황산화물 같은 유해물질은 세계적인 대기오염의 문제로 이의 적절한 처리방법 및 기술이 요구되어 왔으나 아직은 미흡한 상태이다. 따라서 이 문제의 해결방안으로서 플라즈마 방전에 의한 배기가스 중 유해물질을 제거하기 위한 연구가 여러학자들에 의하여 수행되어왔으나 아직은 실용화되지 못하고있다. 그에 관한 연구로는 DC Corona방전방식, 세라믹 반응기 방식, 연면방전방식(surface discharge induced plasma chemical process, SPCP), 장치변화에 따른 기타의 방식 둥을 들 수 있다. 본 연구에서는 원통형, 코일형 연면방전전극을 이용하여 황산화물 가스를 분해제거하였다. (중략)

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The effect of plasma treatment of aluminum/CFRP composites (알루미늄/CFRP 복합재의 플라즈마 표면처리의 효과)

  • 신명근;김만태;한운용;이지훈;이경엽
    • Proceedings of the Korean Society of Precision Engineering Conference
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    • 2003.06a
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    • pp.401-404
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    • 2003
  • This paper investigates the effect of plasma treatment of aluminum on the fracture toughness of aluminum/CFRP composites, The surface of the aluminum panel was treated by a DC plasma. The plasma treatment was carried out at volume ratio of acetylene gas to nitrogen gas of 5:5 and the treatment times used was 30 sec. The fracture toughness of plasma-treated aluminum/CFRP' composites was compared with that of untreated aluminum/CFRP composites and The fracture surface of aluminum/CFRP composites was compared with SEM. The results showed that fracture toughness of plasm-treated aluminum/CFRP composites was about 50% higher than that of untreated aluminum/CFRP composites.

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Reactive Ion Etching Characteristics of Aluminum Oxide Films Prepared by PECVD in $CCl_4$ Dry Etch Plasma (플라즈마 화학증착한 알루미늄 산화박막의 $CCl_4$ 플라즈마에서의 반응성 이온식각 특성)

  • 김재환;김형석;이원종
    • Journal of the Korean Ceramic Society
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    • v.31 no.5
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    • pp.485-490
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    • 1994
  • The reactive ion etching characteristics of aluminum oxide films, prepared by PECVD, were investigated in the CCl4 plasma. The atomic chlorine concentration and the DC self bias were determined at various etching conditions, and their effects on the etch rate of aluminum oxide film were studied. The bombarding energy of incident particles was found to play the more important role in determining the etch rate of aluminum oxide rather than the atomic chlorine concentration. It is considered to be because the bombardment of ions or neutral atoms breaks the strong Al-O bonds of aluminum oxide to help activate the formation reaction of AlCl3 which is the volatile etch product.

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DLC 증착 효율 향상을 위한 DBD표면처리 특성 및 증착된 DLC 특성 분석

  • Yang, Jong-Geun;Go, Min-Guk;Suresh, Rai;Ahmed, M.W.;Hyeon, Su-Yeon;Gang, Je-Won;Lee, Heon-Ju
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2014.02a
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    • pp.208.2-208.2
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    • 2014
  • 이 실험은 DLC 증착의 효율향상을 위한 것이다. 이에 따라 대기압에서 DBD를 이용하여 샘플의 surface free energy를 향상시켜 다이아몬드 증착공정의 효율을 향상시켰다. DBD공정은 2 kW의 전압과 Ar 2000sccm 그리고 방전시간을 5분으로 고정하여 실험하였다. 다이아몬드증착은 PECVD기법을 이용하여 실험하였다. 실험장비로는 DC Arc 플라즈마트론을 이용하여 실험하였다. AFM, SEM, XRD, Tribology를 이용하여 다이아몬드 증착효율 향상 및 특성에 대하여 분석하였으며 DBD를 이용한 표면처리가 증착효율을 향상에 기여하는 것을 확인하였다.

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Dielectric barrier discharge of the inner wall of polymer tubes (저 유전율 고분자 튜브 내부의 유전체 장벽 방전 연구)

  • Jo, Yong-Gi;Ban, Won-Jin;Jeong, Dong-Geun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2014.11a
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    • pp.199-199
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    • 2014
  • 좁은 관경을 갖는 상대 유전율 3 이하인 PTFE와 PE 고분자 튜브 내부에 플라즈마 방전을 일으켜 고분자 튜브 표면 그래프팅 기술을 개발 하고자 하였다. 스텐트 및 인공혈관 등에 적용이 가능한 내부지름 3 mm 이하의 원통형 고분자 생체 식립체 내부 표면을 그래프팅하는 기술이다. 좁은 고분자 튜브 내부에 생성되는 방전은 고분자의 관경에 의해 방전개시 전압이 결정되었다. 방전개시 이후 DC glow discharge 에서 나타나는 전압과 전류의 특징들이 나타났다. 전압과 전류의 파형 분석에서는 고분자 표면과 가스 간의 새로운 용량성 임피던스가 형성되는 것을 관찰하였다. 고분자 내부 표면에 플라즈마의 방전 형태는 면 방전 (surface discharge)의 형태로 나타났다.

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Linux Real Time Control Thread Design for the ITER PF/CS MRC

  • Suh, J.H.;Oh, J.S.;SONG, Inho;Yoo, M.H.
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2019.11a
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    • pp.128-129
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    • 2019
  • ITER AC/DC Converter는 플라즈마 운전에서 기능적인 역할과 동작 모드에 따라 PF/CS, TF, CC Plant로 구분되어 동작하며 PF, CS, VS1 컨버터는 플라즈마 전류 발생, 증감, 형상제어, 위치제어를 하며 PCS(Plasma Control System), MRC(Master Controller)에 의해 제어된다. MRC는 상위 제어인 PCS와 LCC(Local Control Cubicle)의 Middle Ware Layer에서 여러 Linux Machine들과 복잡한 통신망으로 연결되어 초전도 코일 전류 Driver에 있어서 Control과 Soft Down을 위한 Real Time 제어 기능을 한다. 본 논문은 이러한 제어를 구현하기 위한 Linux Real Time Control Thread Design의 구성과 결과를 논의하고자 한다.

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Effect of Plasma Treatment of Aluminum on the Fracture Toughness of Aluminum/CFRP Composites (알루미늄의 플라즈마 표면처리가 알루미늄/CFRP 복합재의 파괴인성에 미치는 영향)

  • 신명근;이경엽
    • Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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    • v.20 no.8
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    • pp.153-157
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    • 2003
  • In the present work, the effect of plasma treatment of aluminum on the fracture toughness of CFRP/aluminum composites was investigated. The surface of the aluminum was treated by a DC plasma. The plasma treatment was carried out at volume ratio of acetylene gas to nitrogen gas of 5:5 and the treatment time used was 30 sec. Cracked lap shear specimens of aluminum/CFRP composites were made using secondary bonding procedure. Fracture toughness of aluminum/CFRP composites was determined using the work factor approach. Then, the fracture toughness of plasma-treated aluminum/CFRP composites was compared with that of untreated aluminum/CFRP composites. The results showed that the fracture toughness of plasma-treated aluminum/CFRP composites was about 50 % higher than that of untreated aluminum/CFRP composites.

The Mechanical Properties of The Compound Layer of Nitrided AISI 4140 Using a PECVD (PECVD를 이용하여 질화된 AISI4140의 화합물층 유무에 따른 기계적 특성 연구)

  • Jeong, Yeon-Ju;Park, Hyeon-Jun;Kim, Hyeong-Sun;Mun, Gyeong-Il
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2015.05a
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    • pp.75-75
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    • 2015
  • 산업이 발달되고 제품이 소형화 및 고품질화됨에 따라 그에 따른 제품의 품질 조절이 용이하고 자동화하기 쉬울 뿐만 아니라 공해문제 및 후가공 문제 등이 없는 이온질화 열처리 기술의 보급이 급속도로 확산되고 있다. 특히 플라즈마 이온질화는 가스조성, 처리온도, 질화시간, 가스압력 및 인가전류를 조절함으로써 질화층은 물론 화합물의 상을 용이하게 조절할 수 있다. 위와 같은 변수들을 조절함으로써 PECVD 장비에서 DC pulse power를 사용하여 플라즈마 질화법으로 질화처리하였으며 AISI4140강에서 화합물층의 유무에 따른 기계적인 특성을 비교 조사하고자 하였다.

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Linear facing target sputtering을 이용하여 PET 기판위에 성막한 AZO 박막의 특성 연구

  • Sin, Hyeon-Su;Jeong, Jin-A;Kim, Han-Gi
    • Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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    • 2010.02a
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    • pp.223-223
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    • 2010
  • 본 연구에서는 Al-doped ZnO (AZO) 박막을 linear facing target sputter (LFTS) 시스템을 이용하여 성막 하였고 박막의 특성을 분석하였다. LFTS 시스템은 마주보는 두 AZO 타겟 사이에 고밀도의 플라즈마를 구속시켜 플라즈마 데미지 없이 산화물 박막을 성막 시킬 수 있는 장치이다. LFTS로 성막된 AZO 박막의 인가된 DC 파워에 따른 전기적 특성을 분석하기 위해 four-point probe와 Hall measurement 장비를 이용하여 분석을 진행 하였으며, 광학적 특성 분석을 위해 UV/Vis spectrometer 장비를 이용하여 분석하였다. AZO 박막의 구조적, 표면적 특성을 분석하기 위해 X-ray diffraction(XRD) 및 scanning electron microscope(SEM)을 사용하여 상온에서 성막된 AZO 박막의 특성을 관찰 하였다. 또한 AZO 박막의 PET 기판과의 접합성 및 구부림 시의 안정성을 평가하기 위해 bending test를 진행 하였다. 최적화된 AZO 박막으로부터 기판에 성막 중 열처리공정이나 후 열처리 공정의 진행 없이 35 ohm/square의 낮은 면저항과 약 80 % 이상의 투과율을 얻을 수 있었다. LFTS 시스템을 이용하여 낮은 공정온도에서 AZO 박막을 성막 하였음에도 불구하고 낮은 저항과 높은 투과도 특성을 나타내고 있어 기존의 투명 박막을 대체 할 수 있는 가능성을 제시하였다

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Status Summary of Local Controller for the ITER 전원장치 (ITER 전원장치 Local Controller Design Status Summary)

  • Suh, J.H.;Yoo, M.H.;Oh, J.S.;Choi, J.W.;Choi, J.H.;Shin, H.K;Park, H.J.;Lee, L.S.;Kim, C.W.
    • Proceedings of the KIPE Conference
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    • 2016.11a
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    • pp.188-189
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    • 2016
  • ITER AC/DC Converter Local Controller는 플라즈마 제어 시스템에서 요구하는 전압 전류 명령에 따라 초전도 코일에 전류를 공급하고 컨버터 System 자체 보호 기능, 초전도 코일시스템 이상 시 Bypass 및 코일 에너지를 계통에 회생하여 에너지를 방전하여야 한다. 코일 별로 플라즈마 제어에 필요한 높은 전압 전류는 전원 장치의 직렬 접속이 요구되고(2직렬, 4직렬, 6직렬) 제어적으로 이들 제어 시스템들은 신뢰도가 높은 디지털 설계를 요구 한다. 본 논문은 다 직렬 전원 장치 제어를 위한 Local Controller의 설계 내용을 논의하고자 한다.

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