An Analysis on the Simulation Modeling for Latch-Up Minimization by High Energy Implantation of Advanced CMOS Devices (차세대 CMOS구조에서 고에너지 이온주입에 의한 래치업 최소화를 위한 모델 해석)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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- v.36D no.2
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- pp.48-54
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- 1999