The objective of this research was to establish the size limitation of micro metal forming and analyze the formability of foil. Flat-rolled ultra thin metallic copper foil($3{\mu}m$ in thickness) was used as a forming material and foil was annealed to improve the formability at the temperature of $385^{\circ}C$. Forming die was fabricated by using etching technique of DRIE(deep reactive ion etching) and HNA isotropic etching. For the forming die and coupe. foil were vacuum packed and the forming was conducted as applying hydrostatic pressure of 250MPa to the vacuum packed unit. We successfully obtained the micro channels of $12\~14{\mu}m$ width and $9{\mu}m$ depth from micro forming process we designed. We also investigated the thickness strain distribution of foil from experiment and FE simulation result. Micro channels had a good formability of smooth surface and size accuracy. We expect that micro metal forming technology will be applied to production of micro parts.
Micro-tensile testing system, consisting of a micro tensile loading system and micro-ESPI(Electronic Speckle Pattern Interferometry) system, has been developed for measurement of micro-tensile properties of thin micro-materials. Micro-tensile loading system had a load cell with the maximum capacity of 50N and micro actuator with resolution of 4.5nm in stroke. The system was used to apply a tensile load to the micro-sized specimen. During tensile loading, the micro-ESPI system acquired interferornetric speckle patterns in the deformed specimen and measured the in-plane tensile strain. The ESPI system consisted of a CCD-camera with a lens and the window-based program developed for this experiment. Using this system, stress-strain curves for 4 kinds of electrolytic copper foil 18$\square$m thick were obtained. From these curves, tensile properties, including the elastic modulus. yielding strength and tensile strength, were determined and also values of the plastic exponent and coefficient based on Ramberg-Osgood relationship were evaluated.
전해동박(Electrodeposited Copper Foil)은 전기도금 공정으로 제조되는 얇은 구리 포일로서, 주로 TV, PC, 스마트폰 등 전자제품의 인쇄회로기판에서 전기신호를 전달하는 회로소재로 사용이 되며, 최근에는 모바일 IT, 전기자동차, 지능형 로봇, 그린 에너지 산업 등에서 필수적으로 적용되는 소재로 이용이 급증하고 있는 핵심소재이다. 모바일, Network 고속 통신 기술의 발전에 따라 Data 사용량의 폭증으로 고속/고주파 신호전송이 필요성이 증대되고 있으며 무선 충전 기술의 도입 및 웨어러블 기기의 보급으로 점차 FCCL도 3layer에서 2layer로 점차 그 수요가 바뀌어 가고 있다. 이에 따라 전해동박도 고속/고주파 신호 전송 및 고밀도 특성에 맞추어 저조도, 고밀착력 특성을 요구되는 방향으로 개발 되고 있으며 Line Space 가 기존 $25{\mu}m/25{\mu}m$ 패턴에서 $20{\mu}m/20{\mu}m$ 패턴으로 Fine pitch를 요구함에 따라 전해동박의 박막화, 저조도 고 밀착력 특성이 더 요구되고 있다.
전해동박(Electrodeposited Copper Foil)은 전기도금 공정으로 제조되는 얇은 구리 포일로서, 주로 TV, PC, 스마트폰 등 전자제품의 인쇄회로기판에서 전기신호를 전달하는 회로소재로 사용이 되며, 최근에는 모바일 IT, 전기자동차, 지능형 로봇, 그린 에너지 산업 등에서 필수적으로 적용되는 소재로 이용이 급증하고 있는 핵심소재이다. FPCB/PCB용 전해동박은 최근 휴대폰, PC와 더불어 전 세계적으로 열풍이 불고 있는 스마트폰, 태블릿 등의 최신 전자 모바일기기의 보급이 가속화됨에 따라 해당 제품들의 다기능화, 고집적화가 진행되고 있으며, 5G 이후의 Mobile 기기를 중심으로 하는 차세대 전자기기의 소재 분야의 선점을 위해서 광폭(600 mm 이상) 제품 제조가 가능한 전해 동박으로 다양한 표면처리의 $18{\sim}2{\mu}m$ 급의 얇은 두께를 갖는 경제성이 확보된 고특성 동박이 필요로 되는 상황이다. 이와 더불어 PCB/FPCB에서 요구하는 동박기술의 소개 및 현재 연구 개발 Trend를 소개하고자 한다.
Aluminum 분말과 고분자를 혼합하여 고분자-금속 복합재료(polymer-metal composite)를 만들어 copper foil과 기판의 접착력을 평가하였다. Tape casting 방법을 이용하여 sheet 만들고 vacuum lamination으로 PCB(Printed Circuit Board)기판을 제조한 후 포토공정으로 peel strength pattern을 형성하였으며, 본 연구에서는 최적의 aluminum 조건을 찾기 위하여 압력, 온도, copper foil의 표면 상태와 silane 표면 코팅에 따른 aluminum-polymer복합재료의 peel strength의 변화를 확인하였다. 최적의 조건은 silane 표면 코팅 처리를 한 aluminum 분말로 $210^{\circ}C$에서 $9.7kg/cm^2$ 압력으로 matte면의 돌기 크기가 크며, 응집이 잘 되어있는 copper foil을 사용하여 13.89N의 우수한 peel strength를 구현 할 수 있었다.
In this study, copper foil was electroplated under high current density conditions. We used Polyethylene Glycol (PEG), known for its thermal stability and low decomposition rate, as an inhibitor to form a stable and smooth copper layer on the titanium cathode. The electrolyte was composed of 50 g/L CuSO4 and 100 g/L H2SO4, MPSA as an accelerator, JGB as a leveler, and PEG as a suppressor, and HCl was added as chloride ions for improving plating efficiency. The copper foil electroplated in the electrolyte added PEG which induced to inhibit the growth of rough crystals. As a result, the surface roughness value was reduced, and a uniform surface was formed over a large area. Moreover, the addition of PEG led to priority growth to the (111) plane and the formation of polygonal crystals through horizontal and vertical growth of crystals onto the cathode. In addition, the grains became fine when more than 30 ppm of PEG was added. As the microcrystalline structure changed, mechanical and electrical properties were altered. With the addition of PEG, the tensile strength increased due to grain refinement, and the elongation was improved due to the uniform surface. However, as the amount of PEG added increased, the corrosion rate and resistivity increased due to grain refinement. Finally, it was possible to manufacture a copper foil with excellent electrical and mechanical properties and the best surface properties when electroplating was carried out under the condition of additives with Cl-20 ppm, MPSA 10 ppm, JGB 5 ppm, and PEG 10 ppm.
The burr of micro drilling and micro cutting on thin metal film is a major obstacle to mass production for micro PCB boards in micro technologies of personal computing and telecom explosion. As the burr affects on the assembling process, it is necessary to study continuously on control or elimination of the burr. In order to get higher valued products, it is also needed to competitive techniques with the high resolution. In this paper, we studied experimentally the burr generation that when it is processed on the copper foil by laser in micro-hole machining. Unlike mechanical machining the burr produced on substrate is a resultants of melt and re-solidification of a melten metal which was heated and treated by laser. And higher laser energy increases the size of burr. Therefor in micro-drilling with laser, it is difficult to reduce the effects of burr for very thin metal sheets. We investigated the stale of the burr and analyzed the laser ablation Cu micro machining with respect to laser intensity and processing time.
The copper deposit on steel plate was prepared by pyrophosphate copper plating solution made with variation of inorganic additive. $NH_4OH$ and $NH_4NO_3$ were used as inorganic additives. The copper layer characteristics - tensile strength, crystallite size and crystal orientation - were evaluated by X-ray diffraction and Universal Test Machine. The presence of ammonium nitrate results in reduction of average roughness value from $0.08{\mu}m$ to $0.03{\mu}m$. In pyrophosphate copper plating solution without Inorganic additive, tensile strength of electrodeposit copper foil was reduced from 600 MPa to 180 MPa after 7 days aging. However, when adding ammonium nitrate, there was almost no change of tensile strength, intensity of crystal orientation - (111), (200) and (220) - and crystallite size (2~30 nm).
Usually nanosecond pulsed laser processing of metal is mainly affected by the thermal ablation. Many studies of the theoretical analysis and modeling to predict the laser ablation of metal are suggested on the basis of the photothermal mechanism at higher laser fluence. In this paper, we investigate the etching depth and laser fluence of laser ablation of copper foils and propose the simplified SSB Model(Srinivasan-Smrtic-Babu model) to study the photothermal effect of nanosecond pulsed laser ablation. The experimental results show that the photothermal ablation of the 355nm DPSS $NdYVO_{4}$ laser is useful to process the copper thin foils.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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