• 제목/요약/키워드: Copper Plating

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80Ni-20Fe Permalloy 박모 동시석출 기구에 관한 전기화학적 고찰 (An Electrochemical Analysis on the Alloy Deposition of 80Ni-20Fe Permalloy Thin Film)

  • 이경호;강탁;라형용
    • 한국표면공학회지
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    • 제15권1호
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    • pp.11-18
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    • 1982
  • 80% Ni-Permalloy is soft magnetic material with high initial permeability and low magnetic coercive force Hc, and is used to computer memory cores and minirelays of communication e-ngineering. In this paper 80 Permalloy thin film on copper cathode was alloy-deposited from Watts so-lution contatining FeSO4$.$7H2O. The amount of FeSO4$.$7H2O in the solution, pH, temperature of the solution and plating current density were varied as parameters and the resulting comp-osition changes of deposited film were analyzed electrochemically with respect to the parame-ters. From the above procedure electroplating conditions for deposition of 80 Permalloy were est-ablished as following: 17-21 g/$\ell$ of FeSO4$.$7H2O in Watts solution, current density 1.0-2.0 Amp/dm2, pH 2.5-3.0 and temperature range of 50-60$^{\circ}C$.

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방전 플라즈마 소결법으로 제작한 Mo-Cu 합금의 열적, 전기적 특성 (A Study on the Thermal and Electrical Properties of Fabricated Mo-Cu Alloy by Spark Plasma Sintering Method)

  • 이한찬;이붕주
    • 전기학회논문지
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    • 제66권11호
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    • pp.1600-1604
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    • 2017
  • Mo-Cu alloys have been widely used for heat sink materials, vacuum technology, automobile and many other applications due to their excellent physical and electronic properties. Especially, Mo-Cu composites with 5~20 wt% copper are widely used for the heavy duty service contacts due to their excellent properties like low coefficient of thermal expansion, wear resistance, high temperature strength and prominent electrical and thermal conductivity. In most of the applications, high dense Mo-Cu materials with homogeneous microstructure are required for high performance, which has led in turn to attempts to prepare ultra-fine and well-dispersed Mo-Cu powders in different ways, such as spray drying and reduction process, electroless plating technique, mechanical alloying process and gelatification-reduction process. However, most of these methods were accomplished at high temperature (typically degree), resulting in undesirable growth of large Cu phases; furthermore, these methods usually require complicated experimental facilities and procedure. In this study, Mo-Cu alloying were prepared by planetary ball milling (PBM) and spark plasma sintering (SPS) and the effect of Cu with contents of 5~20 wt% on the microstructure and properties of Mo-Cu alloy has been investigated.

한국(韓國)의 청동탑(靑銅塔)에 관한 연구(硏究) (A Study on the Korean Bronze Pagoda)

  • 천득염;지승용
    • 건축역사연구
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    • 제7권2호
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    • pp.29-48
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    • 1998
  • The first Pagoda of Korea was introduced from China, and adapted from the wooden multi-storied pavilion. Also in Bronze one, multi-storied type of wooden pagoda was adapted. Bronze pagoda was used to buddhist ossuary and a kind of metalwork. Metalworks were made of gold, silver, copper, or iron by one of the methods of production-casting or hammering and decorated design of incision, raise, openwork, gold- plating or inlaying with gold and silver. Sometimes it was used as the easy carriage of Buddha image by guess. In most cases, the plan of Bronze pagoda was square and podium was one story. but in the advance of podium two-storied platform appeared. Column appeared in a symbol, so it didn't appear in a square and circular form. It means that the column was vertical member which only divided the wall. In koryo period, Gabled roof and Half-hipped roof was spreaded in public but Bronze pagoda was used to square Hipped roof. Vertical shaft over roof(上輪部), apart from body of pagoda(塔身部), was inserted on the hole above the Bokbal(覆鉢) for the balance of pagoda. And a thick iron bar put in the roof to the platform. It was sustained the balance of pagoda. The stories of pagoda were various from 3rd stories to 9, the lower stories was larger scale and the higher was smaller one.

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불소수지의 무전해 동도금을 위한 단계적 플라즈마 전처리법에 관한 연구 (Study on Two Step Plasma Treatment for Electroless Cu Plating of Fluoropolymer)

  • 신승한;한성호;김영석
    • 한국표면공학회지
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    • 제38권3호
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    • pp.118-125
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    • 2005
  • Low temperature plasma treatment with different gases and rf powers were performed to improve the adhesion strength between polytetrafluoroethylene(PTFE) and electroless deposited copper. According to the research, $H_2$ plasma having hydrogen radical was more effective in surface polarity modification than $O_2$ plasma due to the defluorination reaction. However, surface roughness of PTFE was more increased with $O_2$ than $H_2$ plasma. PTFE treated with $120W-O_2$ plasma and $250w-H_2$ plasma, consecutively showed rougher surface than single step $250w-H_2$ plasma treated one and more hydrophilic than single step $120W-O_2$ plasma treated one. And it showed 5B tape test grade, which is better adhesion property than 1B or 3B obtained by single step plasma treatment. In addition, adhesion strength between PTFE and Cu deposit is also deeply affected by residual water on its interface.

대량생산화학물질 초기위해성평가: 시안화구리의 초기 생태위해성평가 (OECD High Production Volume Chemicals Program: Ecological Risk Assessment of Copper Cyanide)

  • 백용욱;김은주;유선경;노희영;김현미;엄익춘;김필제
    • 생태와환경
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    • 제44권3호
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    • pp.272-279
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    • 2011
  • 본 연구는 OECD 조사 연구 사업의 일환으로 2007년 3,905톤이 생산된 시안화구리의 환경영향에 대해서 물리 화학적 특성, 국내 외 사용량, 환경노출, 환경거동 및 수생태 독성 자료를 이용해 초기위해성평가를 위한 자료를 수집하였다. 물리 화학적 특성에서는 크림색의 결정형 물질로 녹는점이 매우 높은 일반적인 무기화합물의 특성을 보였으나, 시안화칼슘 등과 같은 11개 시안화합물에 비해 매우 낮은 수용해도를 나타내었다(WHO, 2004). 환경 중 노출 개연성은 생산 및 제조 공정이 주요 원인으로 파악되었다. 구리의 전기도금 용도로 사용되는 본 물질은 밀폐된 환경에서 생산되어 외부로의 유출을 억제하고 있으나, 생산 공정 및 도금과정에서 발생되는 산업 폐수 등의 방류 통해 환경으로 유출될 가능성이 있다. 이러한 경로로 유출된 시안화구리의 환경거동성에 대한 연구 자료는 존재하지 않았으며, 무기물의 염에 해당되는 물질로 환경거동 예측 모델링도 불가능하였다. 그러나 하수처리장 배출수의 구리 측정결과(MOE, 2008d)가 낮은 점 등을 들어서 노출평가에 대한 부분은 우선 고려 대상에서 제외하였다. 그러나 낮은 농도로 노출된 시안화구리는 물, 토양, 퇴적물 및 생물체로 이동될 가능성이 존재하여 본 연구에서는 물 환경에 대한 시안화구리의 독성학적 영향을 영양단계에 근거한 3개 실험종 (조류, 물벼룩 및 어류)으로 평가하였다. 평가 결과 모든 실험종의 50% 영향 치사농도 (E(L)$C_{50}$), 최소영향관찰농도 (LOEC) 및 무영향관찰농도 (NOEC)가 1.0 mg $L^{-1}$ 이하로 나타났고, 이를 GHS 분류체계와 대조한 결과 Hazard category 1에 해당하는 고독성 물질로 평가되었다. 위와 같이 조사된 자료를 근거로 하여 시안화구리에 대한 초기 생태위해성 평가를 수행하였다. 대상물질은 사용량이 높으나 작업장내에서는 노출 개연성이 낮고, 무기물의 염인 점을 감안하여 환경거동성은 높지 않을 것으로 판단하였다. 이러한 점을 감안할 때, 본 물질은 생산량 및 사용량이 높은 국가는 노출로 야기되는 수생태 독성을 중점적으로 평가해야 할 것으로 사료된다.

실 규모 태양열 집열판 제작을 위한 구리 및 알루미늄 기판에의 태양광 선택흡수박막 전착;Pulse Current Electrolysis 적용 (Application of Pulse Current Electrolysis to the Large Scale of Copper and Aluminium Substrates for Solar Selective Coatings on Solar Collectors)

  • 이태규;김동형;김형택;여운택
    • 에너지공학
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    • 제5권2호
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    • pp.108-114
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    • 1996
  • 태양열 집열판의 효율을 증대시키기 위하여는 집열판에 조사되는 태양광의 흡수율을 높이고 복사에 의한 열손실을 감소시키는 선택적 박막을 집열판에 입히는 것이 중요한 인자이다. 본 실험에서는 이와같은 광학적 특성을 지니게 하고 동시에 전류효율이 우수한 pulsecurrent 전해법을 도입하여 실제 실용화 규모인 230 cm$\times$60 크기의 대형 기판에 선택흡수박막의 전착을 실시하였다. 도금액의 조성은 크롬산 280 g/$\ell$, propionic acid 15g/$\ell$, 그리고 제 2첨가제10g/$\ell$이었으며, 도금 대상기판으로는 구리와 알루미늄이 사용되었다. 구리 기판의 경우에는 선택흡수박막의 흡수율이 약 0.98이고 복사율은 약 0.17의 광학적 성질을 보였으며, 30$0^{\circ}C$공기 중에서 24시간동안 열처리 후에도 광학적 우수성을 지니고 있어 상품적 가치가 매우 우수하다고 판단되었다. 알루미늄 기판의 경우에는 흡수율이 약 0.97, 복사율이 0.15로서 광학적 성질은 구리 기판에 비해 다소 떨어지지만, 열전도도와 경제성을 고려하면 상품적 가치가 충분하다고 생각된다. 또한 이와 같은 대형기판을 적용하여 안정된 태양광 선택흡수박막의 성공적 제조로 공정의 단순화 및 대량생산 기술을 확보하였으며, 상용화에 돌입하게 되었다.

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전해법에 의한 구리함유 시안의 분해특성 (Characteristics of Copper-catalyzed Cyanide Decomposition by Electrolysis)

  • 이진영;윤호성;김성돈;김철주;김준수;한춘;오종기
    • 자원리싸이클링
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    • 제13권1호
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    • pp.28-38
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    • 2004
  • 시안 함유 도금폐수의 재활용이 가능한 전기적 산화법에 의한 수용액상의 시안 성분 분해특성을 규명하기 위한 실험을 수행하였다. 전해산화에 의한 유리시안 분해실험 결과, 전류효율과 분해속도를 고려할 때 전압 5V, 구리촉매량 Cu/CN 몰비 0.05가 적정조건이었으며, 이때의 전류효율은 26%, 분해속도는 5.6 mM/min 이었으며 적정수준 이상의 전압과 구리첨가는 분해속도를 소폭 상승시키나 전류효율은 증가하지 않았다. 지지전해질의 증가는 전류밀도의 증가로 분해속도를 소폭 증가시키나 전류효율은 크게 감소하였다. 초기 유리시안 농도실험 결과, 과산화수소 산화와 유사한 결과를 나타내어 시안농도 증가시 분해속도 및 전류효율이 동시에 증가하므로 고농도 시안일수록 적절한 공정으로 판단된다. 각 변수가 총괄 반응속도에 미치는 영향을 확인하기 위하여 In($C_{CN}$ /$C_{CNo}$ )와 시간과의 관계로부터 계산한 총괄 반응속도 상수는 $1.6∼7.3${\times}$10^{-3}$ $min^{-1}$ 이었으며 시안농도에 대하여 1차 반응식을 만족하였다.

프리스탠딩 저항형 가스 센서용 산화구리 무전해 도금 탄소스펀지 제조 및 일산화질소 감지 (Fabrication of Copper(II) Oxide Plated Carbon Sponge for Free-standing Resistive Type Gas Sensor and Its Application to Nitric Oxide Detection)

  • 김석진;하성민;명성재;이영석
    • 공업화학
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    • 제33권6호
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    • pp.630-635
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    • 2022
  • 멜라민 스펀지를 열처리하여 제조된 질소함유 탄소 스펀지에 산화구리(CuO)를 무전해 도금하여 기판없이 작동하는 일산화질소(NO) 가스 센서를 제조하였다. 탄소 스펀지 표면의 CuO 함량은 도금 시간이 증가함에 따라 증가하였으나, NO 가스 흡착을 유도한다고 알려져 있는 질소의 함량은 CuO 표면 함량이 증가함에 따라 감소하였다. 미처리 탄소스펀지는 NO 가스에 대하여 18 min에 최대 저항 변화(5.0%)를 나타내었다. 반면에, CuO가 도금된 샘플(CuO30s-CS)은 8 min만에 최대 18.3%의 저항변화를 보였다. 이러한 NO 가스 감지 능력 향상은 CuO로 인하여 탄소 스펀지의 정공 캐리어 수 증가 및 전자전달 촉진에 기인하는 것으로 판단된다. 그러나, 60 s 동안 CuO 무전해 도금된 탄소 스펀지의 NO가스 감지 저항은 1.9%로 오히려 감소하였다. 이는 탄소 스펀지 표면에 CuO로 완전히 도금되어 NO 가스 흡착 능력이 떨어져 저항변화가 감소한 것으로 판단된다. 따라서, CuO가 도금된 탄소 스펀지는 빠르고 우수한 저항변화 특성을 가지고 있어 유용한 NO 가스 센서로 사용할 수 있으나, CuO가 탄소 스펀지 표면을 완전히 도금해서는 안 된다.

비아 홀(TSV)의 Cu 충전 및 범핑 공정 단순화 (Copper Filling to TSV (Through-Si-Via) and Simplification of Bumping Process)

  • 홍성준;홍성철;김원중;정재필
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제17권3호
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    • pp.79-84
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    • 2010
  • 3차원 Si 칩 패키징 공정을 위한 비아 홀(TSV: Through-Si-Via) 및 Au 시드층 형성, 전기 도금을 이용한 Cu 충전기술과 범핑 공정 단순화에 관하여 연구하였다. 비아 홀 형성을 위하여 $SF_6$$C_4F_8$ 플라즈마를 교대로 사용하는 DRIE(Deep Reactive Ion Etching) 법을 사용하여 Si 웨이퍼를 에칭하였다. 1.92 ks동안 에칭하여 직경 40 ${\mu}m$, 깊이 80 ${\mu}m$의 비아 홀을 형성하였다. 비아 홀의 옆면에는 열습식 산화법으로 $SiO_2$ 절연층을, 스퍼터링 방법으로 Ti 접합층과 Au 시드층을 형성하였다. 펄스 DC 전기도금법에 의해 비아 홀에 Cu를 충전하였으며, 1000 mA/$dm^2$ 의 정펄스 전류에서 5 s 동안, 190 mA/$dm^2$의 역펄스 조건에서 25 s 동안 인가하는 조건으로 총 57.6 ks 동안 전기도금하였다. Si 다이 상의 Cu plugs 위에 리소그라피 공정 없이 전기도금을 실시하여 Sn 범프를 형성할 수 있었으며, 심각한 결함이 없는 범프를 성공적으로 제조할 수 있었다.

Cu pad위에 무전해 도금된 UBM (Under Bump Metallurgy)과 Pb-Sn-Ag 솔더 범프 계면 반응에 관한 연구 (Studies on the Interfacial Reaction between Electroless-Plated UBM (Under Bump Metallurgy) on Cu pads and Pb-Sn-Ag Solder Bumps)

  • 나재웅;백경욱
    • 한국재료학회지
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    • 제10권12호
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    • pp.853-863
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    • 2000
  • Cu 칩의 Cu 패드 위에 솔더 플립칩 공정에 응용하기 위한 무전해 구리/니켈 UBM (Under Bump Metallurgy) 층을 형성하고 그 특성을 조사하였다. Sn-36Pb-2Ag 솔더 범프와 무전해 구리 및 무전해 니켈 충의 사이의 계면 반응을 이해하고, UBM의 종류와 두계에 따른 솔더 범프 접합(joint) 강도 특성의 변화를 살펴보았다. UBM의 종류에 따른 계면 미세 구조, 특히 금속간 화합물 상 및 형태가 솔더 접합 강도에 크게 영향을 미치는 것을 확인하였다. 무전해 구리 UBM의 경우에는 솔더와의 계면에서 연속적인 조가비 모양의 Cu$_{6}$Sn$_{5}$상이 빠르게 형성되어 파단이 이 계면에서 발생하여 낮은 범프 접합 강도 값을 나타내었다. 무전해 니켈/무전해 구리 UBM에서는 금속간 화합물 성장이 느리고, 비정질로 도금되는 무전해 Ni의 륵성으로 인해 금속간 화합물과의 결정학적 불일치가 커져 다각형의 Ni$_3$Sn$_4$상이 형성되어 무전해 구리 UBM의 경우에 비해 범프 접합 강도가 높게 나타났다. 따라서 무전해 도금을 이용하여 Cu 칩의 Cu pad 위에 솔더 플립칩 공정에 응용하기 위한 UBM 제작시 무전해 니켈/무전해 구리 UBM을 선택하는 것이 접합 강도 측면에서 유리하다는 것을 확인하였다.다.

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