A Study of Data correction method when in-situ end point detection in Chemical-Mechanical Polishing of Copper Overlay (구리 박막 CMP의 실시간 end point detection을 위한 데이터 정밀도 개선 방법에 관한 연구)
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- Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering
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- v.18 no.6
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- pp.1401-1406
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- 2014