Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.48
no.3
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pp.87-92
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2015
Carbon thin films were deposited on STS 316L sheets by inductively coupled plasma enhanced magnetron sputtering with or without substrate bias voltage. Typical Raman spectrum for amorphous diamond-like carbon (DLC) was obtained, and the interfacial contact resistance (ICR) was measured to show its conductive nature. The electrochemical impedance spectroscopy (EIS) was used to investigate the corrosion mechanism of the carbon coating under the polymer electrolyte membrane fuel cell (PEMFC) condition. According to the pore-corrosion mechanism, the electrolyte penetrates the carbon coating through the pores and reacts with the substrate. As the substrate corrosion proceeds, the pore enlargement occurs and the surface area of the substrate exposed to the electrolyte. Applicability of the carbon coating for the PEMFC bipolar plate was evaluated by potentiodynamic polarization experiments. Finally, an adhesion problem was briefly considered.
Kim, Hae-Jin;Son, Mee-Kyung;Lee, Kyung-Ku;Lee, Bo-Ah;Kim, Young-Joon
International Journal of Oral Biology
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v.37
no.1
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pp.9-16
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2012
The aim of this study was to evaluate surface characteristics and biological properties of the dentin -derived hydroxyapatite (HA) coating on titanium substrate. Dentinderived HA was obtained from extracted human teeth using a calcination method at $850^{\circ}C$. The commercially pure titanium (cp-Ti, ASTM Grade II) was used as a metallic substrate and a radio frequency magnetron sputtering method was employed as a coating method. Scanning electron microscopy (SEM) and energy dispersive X-ray analysis (EDX) were utilized to investigate the coating aspects and composition. Atomic forced microscopy (AFM) and a surface profiler were used to assess the surface morphology and roughness. Corrosion tests were performed in phosphate-buffered saline at a $36.5{\pm}1^{\circ}C$ in order to determine the corrosion behavior of the uncoated and coated specimens. The biocompatibility of dentin-derived HA coated specimens with fetal rat calvarial cells and human gingival fibroblasts was assessed by SEM and cell proliferation analysis. The results showed that the dentin-derived HA coatings appeared to cover thinly and homogeneously the surfaces without changing of the titanium substrate. The EDX analysis of this the coating surface indicated the presence of Ca and P elements. The mean surface roughness of cp-Ti and dentin-derived coating specimens was $0.27{\mu}m$ and, $1.7{\mu}m$, respectively. Corrosion tests indicated a stable passive film of the dentin-derived HA coating specimens. SEM observations of fetal rat calvarial cells and human fibroblast cells on coated surfaces showed that the cells proliferated and developed a network of dense interconnections. The cells on all specimens proliferated actively within the culture period, showing good cell viability. At day 1 and 3, dentin-derived coating specimens showed 89% and 93% cell viability, respectively, when normalized to cp-Ti specimens. These results suggest that dentin-derived HA coating using the RF magnetron sputtering method has good surface characteristics and biocompatibility.
PURPOSE. The purpose of this study was to assess the surface characteristics and the biocompatibility of zirconium (Zr) coating on Ti-6Al-4V alloy surface by radio frequency (RF) magnetron sputtering method. MATERIALS AND METHODS. The zirconium films were developed on Ti-6Al-4V discs using RF magnetron sputtering method. Surface profile, surface composition, surface roughness and surface energy were evaluated. Electrochemical test was performed to evaluate the corrosion behavior. Cell proliferation, alkaline phosphatase (ALP) activity and gene expression of mineralized matrix markers were measured. RESULTS. SEM and EDS analysis showed that zirconium deposition was performed successfully on Ti-6Al-4V alloy substrate. Ti-6Al-4V group and Zr-coating group showed no significant difference in surface roughness (P>.05). Surface energy was significantly higher in Zr-coating group than in Ti-6Al-4V group (P<.05). No difference in cell morphology was observed between Ti-6Al-4V group and Zr-coating group. Cell proliferation was higher in Zr-coating group than Ti-6Al-4V group at 1, 3 and 5 days (P<.05). Zr-coating group showed higher ALP activity level than Ti-6Al-4V group (P<.05). The mRNA expressions of bone sialoprotein (BSP) and osteocalcin (OCN) on Zr-coating group increased approximately 1.2-fold and 2.1-fold respectively, compared to that of Ti-6Al-4V group. CONCLUSION. These results suggest that zirconium coating on Ti-6Al-4V alloy could enhance the early osteoblast responses. This property could make non-toxic metal coatings on Ti-6Al-4V alloy suitable for orthopedic and dental implants.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.38
no.2
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pp.49-54
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2005
Flexible copper clad laminates (FCCL) fabricated by sputtering has advantages in fine pitch etching and dimensional accuracy than previous casting or laminating type FCCL, But its lower adhesion is inevitable technical challenge to solve for commercializing it. Chromium (Cr) which strongly reacts with O moiety was used as tie-coating layer in order to improve low adhesion between copper (Cu) and polyimide (PI). Sputtering raw polyimide (SRPI) and casting raw polyimide (CRPI) were used as substrates at this research. PI was pretreated by plasma before sputtering, and each sample was varied with RF power and Cr thickness on sputtering. Peel strength of the FCCL on SRPI was higher than that on CRPI. Adhesion had maximum value when 10 nm of Cr was deposited on SRPI by RF power of 50 W. It seems to be by the formation of Cu-Cr-O solid solution at the metal-PI interface.
Multilayer NbCxC1-x/Y2O3/Ti were sputter-coated on the alumina substrate, starting with a 0.7 ㎛ thick NbCxC1-x layer grown on substrate, followed by 0.7 ㎛ thick Y2O3 layer and 1 ㎛ thick Ti layer. To find out the optimum conditions for thickness uniformity and adhesion, sputtering works have been done with the variation of sputtering power and Ar pressure. After vacuum annealing at 950℃ and 1000℃, the thermal stability of the NbCxC1-x/Y2O3/Ti coated alumina substrates has been investigated by peel off test. The coating scheme didn't cause any debonded layer after an annealing at 950℃ for 3hrs. However, it was peeled off after annealing at 1000℃ for 3hr. It was found that the thermal stability of Al2O3/NbCxC1-x/Y2O3/Ti coating scheme changed with the NbCxC1-x composition.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.36
no.2
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pp.109-124
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2023
For decades, sputtering as a physical vapor deposition (PVD) method has been a widely used technique for film coating processes. The sputtering enables oxides, metals, alloys, nitrides, etc to be deposited on a wide variety of substrates from silicon wafers to polymer substrates. Meanwhile, transparent conductive oxides (TCOs) have played important roles as electrodes in electrical applications such as displays, sensors, solar cells, and thin-film transistors. TCO films fabricated through a sputtering process have a higher quality leading to an improved device performance than other films prepared with other methods. In this review, we discuss the mechanism of sputtering deposition and detail the TCO materials. Related technologies (processing conditions, materials, and applications) are introduced for electrical applications.
Boron carbide thin coatings were deposited on silicon wafers by DC magnetron sputtering using a ${B}_4$C target with Ar as processing gas. Various amounts of methane gas (${CH}_4$) were added in the deposition process to better understand their influence on tribological properties of the coatings. Reciprocating wear tests employing an oscillating friction wear tester were performed to investigate the tribological behaviors of the coatings in ambient environment. The chemical characteristics of the coatings and worn surfaces were studied using X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and Auger Electron Spectroscopy (AES). It revealed that ${CH}_4$addition to Ar processing gas strongly affected the tribologcal properties of sputtered boron carbide coating. The coefficient of friction was reduced approximately from 0.4 to 0.1, and wear resistance was improved considerably by increasing the ratio of ${CH}_4$gas component from 0 to 1.2 vol %. By adding a sufficient amount of ${CH}_4$(1.2 %) in the deposition process, the boron carbide coating exhibited lowest friction and highest wear resistance.
Proceedings of the Korean Society of Tribologists and Lubrication Engineers Conference
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2003.11a
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pp.78-84
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2003
Boron carbide thin coatings were deposited on silicon wafers by DC magnetron sputtering using a $B_4C$ target with As as processing gas. Various amounts of methane gas $(CH_4)$ were added in the deposition process to better understand their influence on tribological properties of the coatings. Reciprocating wear tests employing an oscillating friction wear tester were performed to investigate the tribological behaviors of the coatings in ambient environment. The chemical characteristics of the coatings and worn surfaces were studied using X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS) and Auger Electron Spectroscopy (AES). It revealed that $CH_4$ addition to As processing gas strongly affected the tribologcal properties of sputtered boron carbide coating. The coefficient of friction was reduced approximately from 0.4 to 0.1, and wear resistance was improved considerably by increasing the ratio of $CH_4$, gas component from 0 to $1.2\;vol\;\%$. By adding a sufficient amount of $CH_4\;(1.2\%)$ in the deposition process, the boron carbide coating exhibited lowest friction and highest wear resistance.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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