• 제목/요약/키워드: Co-Deposition

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다층박막 $Fe(50{\AA}/[Co(17{\AA})/Cu(24{\AA})]_20$의 증착률 및 열처리가 자기저항에 미치는 효과 (Effect of Deposition Rate and Annealing Temperature on Magnetoresistance in Fe$Fe(50{\AA}/[Co(17{\AA})/Cu(24{\AA})]_20$Multilayers)

  • 김미양;최수정;최규리;송은영;오미영;이장로;이상석;황도근;박창만
    • 한국자기학회지
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    • 제8권5호
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    • pp.282-287
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    • 1998
  • 유리 기판위에 dc magnetron sputtering 방법으로 제작한Fe(50 $\AA$)/[Co(17 $\AA$)/Cu(24 $\AA$)]20 다층박막에 관하여 자기저항비의 기저층, 자성층, 비자성층의 증착률 및 열처리 의존성을 살펴보았다. 낮은 base 압력 중에서의 막의 증착은 Co/Cu 계면의 산화를 억제하여 자기저항비를 장가시켰다. 극대 자기저항비를 얻기위해 요구되는 증착률은 Fe는 1$\AA$)/s 이상, Cu는 2.8 $\AA$)/s 이었으며 Co는 증착률이 2 $\AA$/s 보다 높은 경우에 평탄한 자구형성을 이루어 자기적 향비가 높아지는 경향을 보였다. 40$0^{\circ}C$까지의 시료에 대한 역처리는 다층박막의 주기성을 유지한채 더 큰 결정립을 형성시켜 반강자성적으로 결합한 막의 부분이 증가함으로써 자기저항비를 증가시켰다.

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반구형 LPCVD 다결정 실리콘 박막의 구조 및 특성 (Structure and Properties of Hemispherical Grain LPCVD Polycrystalline Silicon Films)

  • 박영진;전하응;이승석;이석희;우상호;김종철;박헌섭;천희곤;오계환
    • 한국재료학회지
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    • 제1권2호
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    • pp.77-85
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    • 1991
  • LPCVD(Low Pressure Chemical Vapor Deposition) System을 이용하여 여러가지 증착 변수에 따른 실리콘 박막의 표면형상에 대해 고찰하였다. 중착압력, 중착온도, 반응기체의 유속에 따라 증착층의 표면형상이 큰 변화를 나타냈으며, 증착압력과 반응기체의 유속이 증가할수록 유효면적이 최대가 되는 증착온도가 증가하였다. 이러한 실험결과는 안정한 핵의 생성률이 최대가 될때 유효표면적이 최대가 된다는 가정으로부터 유도된 식과 일치하는 결과를 나타냈다.

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첨가제 없이 제작된 나노구조 코발트 산화물 리튬이온 배터리 전극의 전기 화학적 특성 (Electrochemical Properties of Additive-Free Nanostructured Cobalt Oxide (CoO) Lithium Ion Battery Electrode)

  • 김주윤;박병남
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제31권5호
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    • pp.335-340
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    • 2018
  • Transition metal oxide materials have attracted widespread attention as Li-ion battery electrode materials owing to their high theoretical capacity and good Li storage capability, in addition to various nanostructured materials. Here, we fabricated a CoO Li-ion battery in which Co nanoparticles (NPs) are deposited into a current collector through electrophoretic deposition (EPD) without binding and conductive agents, enabling us to focus on the intrinsic electrochemical properties of CoO during the conversion reaction. Through optimized Co NP synthesis and electrophoretic deposition (EPD), CoO Li-ion battery with 630 mAh/g was fabricated with high cycle stability, which can potentially be used as a test platform for a fundamental understanding of conversion reaction.

전고상 리튬 박막 전지 구현을 위해 펄스 레이저 증착법으로 LiCoO2 정극위에 성장시킨 비정질 (Li, La)TiO3고체 전해질의 특성 (Amorphous Lithium Lanthanum Titanate Solid Electrolyte Grown on LiCoO2 Cathode by Pulsed Laser Deposition for All-Solid-State Lithium Thin Film Microbattery)

  • 안준구;윤순길
    • 한국세라믹학회지
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    • 제41권8호
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    • pp.593-598
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    • 2004
  • 1 $\mu$m이하의 전고상 리튬 박막전지의 구현을 위해 펄스 레이저 증착법을 이용하여 Pt/TiO$_2$/SiO$_2$/Si 기판위에 LiCoO$_2$정극을 증착온도와 Li/Co 간의 몰 비율을 변화시켜가며 성장시켰다. 특히, Li/Co=1.2의 조성을 갖는 LiCoO$_2$를 50$0^{\circ}C$의 증착온도에서 성장시킬 경우 53 $\mu$Ah/$cm^2$-$\mu$m의 높은 초기 용량값을 가지며 100 싸이클 후에도 67.6%의 용량값을 유지하였다. LiCoO$_2$/Pt/TiO$_2$/SiO$_2$/Si위에 고체 전해질인 (Li, La)TiO$_3$를 비정질상으로 하여 PLD방법으로 낮은 온도대역에서 증착온도를 다양하게 하여 증착하였다. 10$0^{\circ}C$의 증착온도에서 LiCoO$_2$Pt/TiO$_2$/SiO$_2$/Si위에 성장시킨 (Li, La)TiO를 가지고 LiClO$_4$ in PC 안에서 Li anode와 충$.$방전 측정 결과 약 51$\mu$Ah/$cm^2$-$\mu$m의 초기 용량값을 나타내었으며 100싸이클 후에도 90%의 훌륭한 방전용량의 보존력을 나타내었다. 비정질상의 (Li, La)TiO$_3$ 고체 전해질은 전고상 박막전지로의 구현이 가능하다.

DC Magnetron Sputtering에 의한 ATO 박막의 제조 (I)증착특성 (Preparation of ATO Thin Films by DC Magnetron Sputtering (I) Deposition Characteristics)

  • 윤천;이혜용;정윤중
    • 한국세라믹학회지
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    • 제33권4호
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    • pp.441-447
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    • 1996
  • Sb doped SnO2(ATO:Antinomy doped Tin Oxide) thin films were prepared by a DC magnetron spttuering method using oxide target and the deposition characteristics were investigated. The experimental conditions are as follows :Ar flow rate : 100 sccm oxygen flow rates ; 0-100 sccm deposition temperature ; 250 -40$0^{\circ}C$ DC sputter powder ; 150~550 W and sputtering pressure ; ; 2~7 mTorr. Deposition rate greatly depends not on the deposition temperature but on the reaction pressure oxygen flow rate and sputter power,. when the sputter powder is low ATO thin films with (110) preferred orientation are deposited. And when the sputter power is high (110) prefered orientation appeares with decreasing of oxygen flow rate and increasing of suputte-ring pressure.

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Chemical Solution Deposition 방법으로 증착된 $Bi_{0.8}A_{0.2}FeO_3$ (A=Pb, Co) 박막의 자기적 특성에 대한 연구

  • 차정옥;안정선
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2011년도 제41회 하계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.245-245
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    • 2011
  • $BiFeO_3$ (BFO)박막에 전위금속 Pb와 Co를 각각 치환환 박막을 chemical solution deposition 방법으로 Pt/Ti/SiO2/Si(100) 기판위에 증착하였다. Bi 자리에 Pb와 Co를 20 at.% 치환하였으며, 치환된 $Bi_{0.8}Pb_{0.2}FeO_3$ (BPFO), $Bi_{0.8}Co_{0.2}FeO_3$ (BCFO) 박막의 구조적, 자기적 특성 변화를 BFO 박막과 비교하여 조사하였다. XRD 패턴을 분석한 결과 BPFO, BCFO 박막들은 모두 rhombohedrally distorted perovskite 구조였으며 불순물인 pyrochlore 상이 약하게 관측되었다. 치환이 이루어진 BPFO, BCFO 박막들의 자기 이력곡선은 안정된 포화곡선을 나타냈으며 BFO의 포화값(5 emu/$cm^3$)에 비해 크게 증가된 55 emu/$cm^3$, 35 emu/$cm^3$의 값을 나타냈다. 또한 보자력장(coercive field, Hc)값도 BFO의 500 Oe보다 크게 증가된 1,200 Oe, 800 Oe의 값을 보였다.

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Development Status of Equipment for Mass Production of AMOLED Panels Using 'Super Grain Silicon' Technology

  • Hong, Jong-Won;Na, Heung-Yeol;Chang, Seok-Rak;Lee, Ki-Yong;Kim, Sang-Soo
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 한국정보디스플레이학회 2009년도 9th International Meeting on Information Display
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    • pp.1136-1139
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    • 2009
  • Recently, various Ni doping systems and thermal annealing systems have been developed for fabrication of polycrystalline silicon film using SGS (super grain silicon) for medium and largesize AMOLED panels. In this study, we compare the potential of Ni doping systems including ALD (atomic layer deposition), AMD (atmospheric metal deposition), in-line sputter, and crystallization annealing systems including batch type furnace, inline furnace, and RTA (rapid thermal annealing) developed for the SGS method. Additional requirements for those systems to be used for mass production of large AMOLED TVs are suggested based on evaluation results for both poly-Si films and TFT backplanes.

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Characteristic of Lower Hydrogenated Oxide Films Deposited by the Higher Energy Assisting Deposition Systems Using the with Precursor Siloxane Species

  • Kim, J.;Yang, J.;Park, G.;Hur, G.;Lee, J.;Ban, W.;Jung, D.
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2014년도 제46회 동계 정기학술대회 초록집
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    • pp.339.1-339.1
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    • 2014
  • In this paper we studied the application of inter-poly dielectric as silicon dioxide-like film was deposited by the higher energy assisting deposition (HEAD) process the modified CCP process, which enables low temperature (LT) process and improving film density. In these experiments the relative hydrogen concentration of $SiO_2$-like films deposited on silicon substrate were analyzed by the secondary ion mass spectroscopy (SIMS) and it was shown that our lower hydrogenated oxide (LHO) film prepared by HEAD process with the precursor contained the siloxane species had lower hydrogen concentration, $8{\times}10{\cdot}^{22}cm{\cdot}^3$ than that of the commercial undoped silicon glass (USG) film ($1{\times}10{\cdot}^{21}cm{\cdot}^3$) prepared by the high density plasma-chemical vapor deposition (HDP-CVD). We consider that the LHO film deposited by HEAD process used as high performance material into Flash memory devices.

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Electrophoretic Superconducting Film Applications

  • Fenghua, Li;Jue, Wang;Soh, Dea-Wha;Zhanguo, Fan
    • 동굴
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    • 제76호
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    • pp.15-17
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    • 2006
  • [ $YBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$ ] superconductor films have been prepared on silver substrates by electrophoretic deposition. As silver does not react with $YBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$ compound and has little influence on its superconductivity, it is usually doped in $YBa_2Cu_3O_7$ to improve the strength of the material and eliminate micro cracks. It has been proved that Ag additive can lower the melting temperature of $YBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$ and act as linking bridge among $YBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$ particles, thus in this paper Ag doped $YBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$ thick films are prepared by electrophoretic co deposition. As there are only some referenced experience formula and models for co electrophoretic deposition and does not exist unified explanation, the behavior of Ag particles during co electrophoretic deposition is also studied.