This study investigated the effects of the alkaline detergent and acid rinse used for cleaning milking machines on the eight commercially available teatcup liner materials. The sample liners prepared for use in the clean-in-place process were analyzed by ultraviolet spectrophotometer, ion chromatography and liquid chromatography. Among the eight liner materials, the ultraviolet spectra of 3 sample liners were shown to have a similar peak shape after cleaning, but the ultraviolet spectra peak shape of 5 sample liners was noticeably changed. No products were detected by ion chromatography in any of the liner materials used in this study. When the liner materials were only treated with alkaline detergent, some additional peaks were observed using liquid chromatography which indicate the creation of molecular substance and elution from liner materials, however, these peaks disappeared when the liner materials were cleaned with the acid rinse. Therefore, we propose that an acid rinse should be applied, after cleaning the milking machine with the alkaline detergent.
In this study, we evaluated the dilute HF Cleaning to reduce residual defects made by W CMP process. But, One point we should focus is It should not effect to metal thin film reliability. The purpose of this test is to verify barrier metal damage during HF cleaning and based on this result we get rid of slurry residue defect which is main defect of W CMP process for the better yield.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제17권4호
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pp.204-207
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2016
Experimental study of UV-irradiated O2/H2 gas phase cleaning for PMMA (Polymethylmethacrylate) removal is carried out in a load-locked reactor equipped with a UV lamp and PBN heater. UV enhanced O2/H2 gas phase cleaning removes polymethylmethacrylate (PMMA) better at lower process pressure with higher content of H2. O2 gas compete for UV (184.9 nm) absorption with PMMA producing O3, O(1D) and lower dissociation of PMMA. In our experimental conditions, etching reaction of PMMA at the substrate temperature between 75℃ and 125℃ had activation energy of about 5.86 kcal/mol indicating etching was controlled by surface reaction. Above the 180℃, PMMA removal was governed by a supply of reaction gas rather than by substrate temperature.
This study was carried out a investigate the effect of chemical cleaning of corrosion product in cooling system made of copper and copper alloy as basic material and used cooling water as pure water. We studied chemical cleaning condition that minimizes the influence on basic material by means of EDTA solution so as to eliminate the slurry in cooling system. As a result, we found that the main components of sludge in cooling system produced by corrosion of copper were $Cu_2O$, CuO, Cu, and Fe. The optimum condition of chemical cleaning was 400 ppm EDTA solution at $60^{\circ}C$.
The beeswax-treated volumes of the Annals of Joseon Dynasty, designated as a UNESCO's Memories of the World, have been more seriously damaged than the untreated ones. As a continuous effort to develop the optimal conservation techniques for the damaged beeswax-treated volumes of the Annals, this study examines the effectiveness of wet cleaning on the conservation of the beeswax-treated paper. To do this, wet cleaning is performed on the duplicated beeswax-treated paper and the Hanji that are aged at $105^{\circ}C$ for 30 days using distilled water of $24^{\circ}C$ and $50^{\circ}C$. As results, it is observed that pH of the both the beeswax-treated paper and the Hanji increase, indicating the removal of the acid of the aged paper samples through wet cleaning. After the wet cleaning, however, the physical properties and viscosity of the Hanji decrease, while those of the beeswax-treated paper increase. It is also found that wet cleaning contributes to enhancement of most optical properties of the Hanji, but not for those of the beeswax-treated paper except for the $b^*$ value. Analyses of UV absorbance of cleaning water demonstrate that both the beeswax-treated paper and the Hanji have typical spectra of chromophore compounds of cellulose.
멤브레인 파울링은 지표수를 처리하는 저압 멤브레인 기술 적용의 확장에 있어 큰 장애가 된다. 따라서 파울링 제어를 위한 주기적인 수리학적 세정기술의 최적화는 매우 중요하다. 주기적인 수리학적 세정과 이와 연관된 파울링 현상에 관한 올바른 이해는 멤브레인 세정 전략을 최적화하기 위해 매우 유용할 수 있다. 실험적으로 측정한 투과도와 전통적인 Hermia 파울링 모델 예측 치의 비교를 통해, 본 연구에서는 합성 탁도유발 시료를 처리하는 가압식 멤브레인 공정에서 30분 여과와 정세정/역세정이 포함된 1분 세정조건을 바탕으로 6번의 운전사이클을 통해 발생하는 파울링 현상을 분석하고 이를 통해 지배적인 파울링 기작을 정량적으로 이해하고자 하였다. 단독 세정에서, 첫 번째 운전사이클에서 발생하는 파울링은 완전공극막힘 현상에 의해 주로 지배되었고 마지막 운전 사이클에서는 케이크 형성이 지배적인 파울링 기작으로 관찰되었다. 정세정과 역세정이 혼합된 경우, 파울링 속도는 감소하였으나 전반적으로 케이크 형성이 주 파울링 기작으로 관찰되었다.
식기세정용 세정제의 조성에 따른 오일(O) 및 세정수용액(W)의 계면의 물성에 미치는 영향을 조사하였으며 계면물성에 따른 세정효과를 검토하였다. 또한 각 조성에 따른 식기표면에 오염된 오일의 세정력과 세척 헹굼 후 오염물 및 세척제의 잔류성에 대한 평가를 하였다. 본 연구에서 사용된 세정제의 조성에 있어서 고체표면에 오염된 오일의 제거는 세척액/오일/고체 간의 계면물성과 깊은 관련이 있었으며, 특히 전진 및 후진 동적접촉각에 크게 의존하였다. 전진 및 후진접촉각이 동시에 낮은 경우에 세정액의 침투성이 매우 커서 고체표면에 오염된 오일의 제거효과가 높았으며 세척 후 오염물의 잔류가 거의 없었다. O/W의 계면장력이 작을수록 오염된 오일의 유화가 잘 되었으며 계면장력이 높을수록 유화가 잘 이루어지지 않았다. 그러나 본 연구에서는 유화효과는 세척력에 크게 영향을 미치지 못하였으며 특히 낮은 계면장력을 갖는 세정제의 경우 세척 후 세정제 물질이 피세척물의 표면에 잔류하는 문제점이 있었다.
This paper investigates the dependence of a-Si:H/c-Si passivation and heterojunction solar cell performances on various cleaning processes of silicon wafer and surface morphology. It is observed that passivation quality of a-Si:H thin-films on c-Si wafer highly depends on wafer surface conditions. The MCLT(Minority carrier life time) of wafer incorporating intrinsic (i) a-Si:H as a passivation layer shows sensitive variation with cleaning process and surface morpholgy. By applying improved cleaning processes and surface morphology we can obtain the MCLT of $200{\mu}sec$ after H-termination and above 1.5msec after i a-Si:H thin film deposition, which has implied open circuit voltage of 0.720V.
Alkaline powder cleaning agents (APCAs) were prepared by blending of $Na_2CO_3$ tetrasodium pyrophosphate (TSPP). sodium orthosilicate (Na-OSi), Na-dioctyl sulfosuccinate (303C), Demol C, and MJU-100A (100A). The physical properties of APCAs tested with steel specimen showed the following results. The cleaning powers of APCA-6 ($Na_2CO_3$ 250g/TSPP 70g/Na-OSi 40g/303C 60g/Demol C 50g/100A 30g mixture) for press-rust preventing oil was 97% and 98% degreasing at 2wt%, $70^{\circ}C$ and $90^{\circ}C$, respectively; for Quenching oil, the cleaning power of APCA-6 was 95% degreasing at 2wt% and $70^{\circ}C$. From the results, it was ascertained that APCA-6 exhibited a good cleaning power. Also low foaming power tests proved that the APCA-6 maintained good defoaming effect.
목적: 본 연구는 안경원에서의 안경용 초음파세척기를 이용한 소프트렌즈 세척 실태를 조사하고 세척용기를 달리하였을 때의 단백질 제거 효과를 비교하기 위하여 수행되었다. 방법: 서울시 소재 75개 안경원을 대상으로 소프트렌즈 세척 실태에 관한 설문조사를 실시하였다. 또한 인공누액을 사용하여 소프트렌즈에 인위적으로 단백질을 침착시킨 후 세척용기를 달리하여 안경용 초음파세척기로 세척한 후 단백질 잔존량을 측정함으로써 세척효율을 비교하였다. 또한 반복적인 초음파 세척으로 인한 소프트렌즈의 표면과 습윤성 변화를 분석하였다. 결과: 안경원에서 콘택트렌즈 세척에 안경용 초음파세척기를 이용하는 주목적은 신속함 때문임을 확인하였다. 세척용기로 플라스틱 렌즈 용기와 유리병 렌즈용기를 사용하고 안경용 초음파세척기로 소프트렌즈를 세척한 경우 유리병 렌즈용기를 사용하였을 때 세척효율이 높은 경향을 보였으나 유의성 있는 차이는 아니었다. 한편 반복적인 초음파 처리로 인하여 소프트렌즈의 표면과 습윤성의 변화가 나타남을 관찰할 수 있었다. 결론: 안경용 초음파세척기 이용 시 세척용기로 플라스틱 렌즈용기와 유리병 렌즈용기의 사용이 모두 효과적이었지만 반복적인 초음파 세척 시에는 세척용기를 사용하였다 하더라도 초음파로 인한 소프트렌즈의 변성이 우려되므로 주의를 기울여 사용하여야 것이다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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