• 제목/요약/키워드: Chemical reduction deposition

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MOCVD를 이용한 $HfO_2/SiNx$ 게이트 절연막의 증착 및 물성 (Deposition and Characterization of $HfO_2/SiNx$ Stack-Gate Dielectrics Using MOCVD)

  • 이태호;오재민;안진호
    • 마이크로전자및패키징학회지
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    • 제11권2호
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    • pp.29-35
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    • 2004
  • 65 nm급 게이트 유전체로의 $HfO_2$의 적용을 위해 hydrogen-terminate된 Si 기판과 ECR $N_2$ plasma를 이용하여 SiNx를 형성한 기판 위에 MOCVD를 이용하여 $HfO_2$를 증착하였다. $450^{\circ}C$에서 증착시킨 박막의 경우 낮은 carbon 불순물을 가지며 비정질 matrix에 국부적인 결정화와 가장 적은 계면층이 형성되었으며 이 계면층은 Hf-silicate임을 알 수 있었다. 또한 $900^{\circ}C$, 30초간 $N_2$분위기에서 RTA 결과 $HfO_2/Si$의 single layer capacitor의 경우 계면층의 증가로 인해 EOT가 열처리전(2.6nm)보다 약 1 nm 증가하였다. 그러나 $HfO_2/SiNx/Si$ stack capacitor의 경우 SiNx 계면층은 열처리후에도 일정하게 유지되었으며 $HfO_2$ 박막의 결정화로 열처리전(2.7nm)보다 0.3nm의 EOT 감소를 나타내었으며 열처리후에도 $4.8{\times}10^{-6}A/cm^2$의 매우 우수한 누설전류 특성을 가짐을 알 수 있었다.

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Indium-8-Hydroxyquinoline 착물에 관한 흡착벗김전압전류법적 연구 (Adsorptive Stripping Voltammetry of the Indium-8-Hydroxyquinoline Complex)

  • 손세철;엄태윤;서무열;정기석
    • 대한화학회지
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    • 제35권2호
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    • pp.151-157
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    • 1991
  • In-HQ 착물에 대한 벗김전압전류법적 연구를 HMDE를 사용하여 0.1M 아세테이트 완충용액에서 수행하였다. 흡착된 착물의 환원피크 높이에 영향을 주는 여러 가지 분석상의 조건들에 관하여 알아보았다. 최적의 분석조건은 착화제의 농도가 $2{\times}10^{-5}$M, 용액의 pH는 4.75, 주사속도는 10mV/s, 흡착전위와 시간은 각각 -0.450V와 90초임을 알 수 있었다. 여러 다른 이온들의 방해효과와 계면활성제의 영향을 검토하였다. 본 연구에서의 검출한계는 농도 대 피크높이의 직선식으로부터 구하였을 때 90초의 흡착시간시 0.2 ppb이었으며, 4 ppb의 In을 10회 분석하였을 때 상대표준편차는 3.2%이었다.

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MoO3 분말의 수소환원을 통한 CIGS계 후면 전극용 Mo 박막제조 (Fabrication of Mo Thin Film by Hydrogen Reduction of MoO3 Powder for Back Contact Electrode of CIGS)

  • 조태선;김세훈;김영도
    • 대한금속재료학회지
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    • 제49권2호
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    • pp.187-191
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    • 2011
  • In order to obtain a suitable back contacting electrode for $Cu(InGa)Se_2$-based photovoltaic devices, a molybdenum thin film was deposited using a chemical vapor transport (CVT) during the hydrogen reduction of $MoO_3$ powder. A $MoO_2$ thin film was successfully deposited on substrates by using the CVT of volatile $MoO_3(OH)_2$ at $550^{\circ}C$ for 60 min in a $H_2$ atmosphere. The Mo thin film was obtained by reduction of $MoO_2$ at $650^{\circ}C$ in a $H_2$ atmosphere. The Mo thin film on the substrate presented a low sheet resistance of approximately $1{\Omega}/sq$.

사후관리단계에 있는 매립지의 건식침적량 및 토양오염에 관한 연구 -난지도 매립지 사례를 중심으로- (A Study on the Atmospheric Dry Deposition Flux and Soil Contamination in a Completed Landfill - A case study on Nanji landfill -)

  • 이승묵;조경숙;이은영;김윤정;박재우;박석순
    • 환경영향평가
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    • 제8권2호
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    • pp.31-44
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    • 1999
  • Atmospheric dry deposition flux and ambient particle mass size distribution were measured to evaluate the impact of atmospheric deposition around the Nanjido landfill sites. Wind direction affects greatly on the variation of mass flux and mass size distribution and made two times higher when the wind was blown from the road side. The effect of Nanjido landfill on the mass size distribution was significant comparing to simultaneously measured mass size distribution at the other sampling site. The results showed that the particle diameter bigger than $10{\mu}m$ explained the majority of atmospheric dry deposition flux. A survey was also carried out to investigate the contamination of soils in a completed Nanjido landfill. The chemical properties of the soil analyzed in the present study include pH, oxidation-reduction potential (ORP), anion and cation concentration, total organic carbon(TOC), and some-metal elements concentrations were analyzed. Microbial activity in the soils was also evaluated by measuring dehydrogenase activities. TOC in the soil contaminated with leachate was $467.0{\mu}g/g-dry$ soil, and the TOC in the soil, where Nanjido landfill gases were emitted from, was $675{\mu}g/g-dry$ soil. The highest microbial activity of $968.0{\sim}2147{\mu}g-TPF/g-dry$ soil day was found in the soil spouting Nanjido landfill gases. Compared with those in the uncontaminated soil, the concentrations of Cr, Cu and Ph in the contaminated soil were higher.

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Conjugation of mono-sulfobetaine to alkyne-PPX films via click reaction to reduce cell adhesion

  • Chien, Hsiu-Wen;Keng, Ming-Chun;Chen, Hsien-Yeh;Huang, Sheng-Tung;Tsai, Wei-Bor
    • Biomaterials and Biomechanics in Bioengineering
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    • 제3권1호
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    • pp.59-69
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    • 2016
  • A surface resisting protein adsorption and cell adhesion is highly desirable for many biomedical applications such as diagnostic devices, biosensors and blood-contacting devices. In this study, a surface conjugated with sulfobetaine molecules was fabricated via the click reaction for the anti-fouling purpose. An alkyne-containing substrate (Alkyne-PPX) was generated by chemical vapor deposition of 4-ethynyl-[2,2]paracyclophane. Azide-ended mono-sulfobetaine molecules were synthesized and then conjugated on Alkyne-PPX via the click reaction. The protein adsorption from 10% serum was reduced by 57%, while the attachment of L929 cells was reduced by 83% onto the sulfobetaine-PPX surface compared to the protein adsorption and cell adhesion on Alkyne-PPX. In conclusion, we demonstrate that conjugation of mono-sulfobetaine molecules via the click chemistry is an effective way for reduction of non-specific protein adsorption and cell attachment.

폐 RHDS 촉매재생 후 메탈 코로게이트 지지체상에서 워시코팅에 의한 NOx 저감 SCR 촉매에 관한 연구 (A Study on the Possibility of Using of Spent RHDS Catalyst as a SCR Catalyst wash-coated on the metal corrugated substrate)

  • 나우진;차은지;강대환;고영주;조예지;최은영;박해경
    • 한국응용과학기술학회지
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    • 제37권4호
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    • pp.723-732
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    • 2020
  • RHDS 촉매는 코크와 황 화합물 그리고 금속인 바나듐이 표면에 침적되어 비활성화가 된다. 이러한 오염물을 제거하기 위해서 먼저 폐 RHDS 촉매에 묻어있는 중질유분의 세정, 코크와 황 화합물을 고온 배소 처리한 후, 과량으로 침적되어 있는 바나듐의 침출량을 조절하기 위하여 0.5, 1 wt% 옥살산 수용액을 이용하여 초음파 교반기에서 50 ℃, 10 sec 동안 교반하여 NOx 저감을 위한 SCR 촉매로의 적용 가능성을 확인하고자 하였다. 재생처리 한 RHDS 촉매의 성분은 XRF 를 사용하여 분석하였고, 상압 고정층 연속 흐름 반응기 상에서 NOx 저감 성능을 측정하였다. 옥살산 수용액 0.5 wt%, 10 sec 동안 초음파 침출한 촉매가 가장 안정적인 NOx 저감 성능을 보였으며, 375 ℃ 이상의 고온에서는 상용 촉매와 동등 수준의 NOx 저감 성능을 확인할 수 있었으나 저온영역 200 ℃에서 250 ℃까지는 상용 촉매보다 낮은 NOx 저감 성능을 보였다. 따라서 폐 RHDS 촉매를 재생처리 한 후 분말로 메탈 코로게이트 지지체에 워시코팅한 촉매는 상용 SCR 촉매로서 이용 가능함을 확인하였다.

고분자전해질 연료전지의 전극 열화 과정에서 고분자막에 석출된 백금에 관한 연구 (Study on the Platinum Deposition in Membrane of Polymer Electrolyte Membrane Fuel Cell during Electrode Degradation Process)

  • 오소형;권혜진;유동근;박권필
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • 제60권2호
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    • pp.202-207
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    • 2022
  • 고분자 전해질 연료전지(PEMFC)의 전극 열화에 대한 연구는 전극상에서 Pt의 입자 성장 및 활성면적 감소에 대한 연구가 대부분이다. 고분자막과 접해 있는 전극촉매 Pt의 열화는 고분자막 열화에 영향을 주는데, 이와 관련된 연구는 많지 않다. 본 연구에서는 전극촉매 열화 가속 시험 과정에서 열화된 Pt가 고분자막 내부에 석출되는 현상과 그 영향에 대해서 연구하였다. 백금 열화 속도를 가속화시키기 위해 전압 변화(0.6 V ↔ 0.9 V)를 30,000 사이클까지 반복했다. Cathode에 산소를 유입하면서 전압 변화 사이클을 반복했을 때 질소를 유입했을 때 보다 막 내부에 석출된 Pt의 양이 더 많았다. 전압 변화 사이클 횟수가 증가할수록 막 내부에 석출된 Pt의 양이 증가하였고, cathode에서 용해된 Pt가 anode 쪽으로 이동해 20,000 사이클에서는 막 내부에 전체적으로 균일한 분포를 보였다. 이와 같은 전극촉매 열화 가속 시험과정에서 고분자막의 수소투과 전류밀도는 거의 변하지 않아서, 석출된 Pt가 고분자막의 내구성에는 영향을 주지 않음을 확인하였다.

반도체 제조 공정에서의 환경 유해성 배출물 절감 기술 동향 (Waste Minimization Technology Trends in Semiconductor Industries)

  • 이현주;이종협
    • 청정기술
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    • 제4권1호
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    • pp.6-23
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    • 1998
  • 반도체 산업은 각종 전자지기의 발달로 급격히 성장하였으며 현재는 우리 나라에서도 반도체 산업이 경제에서 큰 비중을 차지하고 있다. 국내외의 환경규제와 환경에 대한 대중의 관심이 높아지면서, 반도체 공정의 안전한 관리와 환경유해성 물질의 배출억제를 위하여 반도체 산업에서의 청정기술의 개발이 시급한 과제가 되고 있다. 청정기술이란 근본적으로 환경유해성 오염물질을 배출하지 않는 기술을 의미하나 이는 지금까지 개발된 기술로는 거의 불가능하다. 따라서 공정 내에서부터 환경유해물질의 배출을 최소화하는 기술도 청정기술의 범위에 포함시킨다. 반도체 공정은 연속적인 화학공정들로 구성되어 있으며 그 과정에서 많은 종류의 환경유해성 오염물질이 배출될 수 있다. 반도체 공정에서 발생하는 오염물질들은 기상 형태의 배가스, 액상 형태의 폐수, 폐기물의 세 가지 형태로 나누어 볼 수 있다. 기상의 오염물질을 억제하기 위한 기술로는 오염물질만을 선택적으로 파괴하거나 오염물질만을 농축하여 공정 내에서 재활용하는 방법, 또는 오염을 유발하는 물질 대신 이를 대체할 수 있는 환경에 안전한 물질을 개발하는 방법 등이 있다. 액상의 오염물질을 저감시키는 기술로는 공정의 최적화를 통하여 오염물질의 양을 최소화하는 방법과 유독한 물질로 구성된 원료를 대체하는 방법 등이 있다. 또한 근본적인 오염원을 제거하기 위하여 화학물질의 사용량 자체를 줄이거나 기상을 이용한 세정 시스템 등의 방법을 사용하는 것도 연구중이다.

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화학환원법을 이용한 은 코팅 구리 분말 제조 시 환원제의 영향 및 전기비저항 특성 (Effect of Reductants and their Properties of Electric Resistivity on the Preparation of Ag coated Cu Powders by Chemical Reduction Method)

  • 안종관;윤치호;김동진;조성욱;박제신
    • 대한금속재료학회지
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    • 제48권12호
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    • pp.1097-1102
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    • 2010
  • Silver coated copper powders were prepared by a chemical reduction method with controlling the deposition process variables such as the feeding rate of the silver ionic solution and concentration of the reductants at room temperature. The characteristics of the products were evaluated by scanning electron microscope (SEM), X-ray diffractometer (XRD), atomic absorption spectrophotometer (AA) and a 4 probe resistivity measurement system. The optimum condition of the preparation of Ag coated Cu powders was at 0.05 M of potassium sodium tartrate and 2 ml/min of the feeding rate of the silver ionic solution. Our method successfully produced dense, uniform, and well-dispersed Ag coated Cu powder of $2{\sim}2.5{\mu}m$ witha silver layer of 100~200 nm. Additionally, we found that thespecific resistivity of the 30 wt.% Ag coated Cu powder was similar to that of pure silver, so that the composite powder could be used as an alternative electromagnetic shielding material for silver.

양호한 유기발광소자의 광학적 특성 개선을 위한 Anode 표면특성에 관한 연구 (A study on the Optical Properties of OLED Anode by Chemical Mechanical Polishing)

  • 이우선;최권우;고필주;박주선;나한용
    • 한국조명전기설비학회:학술대회논문집
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    • 한국조명전기설비학회 2008년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.7-9
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    • 2008
  • ITO thin film is generally fabricated by various. methods such as spray, CVD, evaporation, electron gun deposition, direct current electroplating, high frequency sputtering, and reactive DC sputtering. However, some problems such as peaks, bumps, large particles, and pin-holes on the surface of ITO thin film were reported, which caused the destruction of color quality, the reduction of device life time, and short-circuit. Chemical mechanical polishing (CMP) process is one of the suitable solutions which could solve the problems

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