• 제목/요약/키워드: Chemical hydride

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혈압강하제인 4-${\beta}$-Guanidinoethyl)-17${\alpha}$-methyl-4-aza-5${\alpha}$-androstan-17${\beta}$-ol의 합성 및 평가 (The Synthesis and Evaluation of Antihypertensive 4-(${\beta}$-Guanidinoethyl)-17${\alpha}$-methyl-4-aza-5${\alpha}$-androstan-17${\beta}$-ol)

  • 김정균;이억석;창;두렌보스
    • 대한화학회지
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    • 제19권3호
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    • pp.174-178
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    • 1975
  • 4-(${\beta}$-Guanidinoethyl)-17${\alpha}$-methyl-4-aza-5${\alpha}$-androstan-17${\beta}$-ol(V)을 합성하는데에 필요한 중간화합물인 17${\alpha}$-methyl-4-aza-5${\alpha}$-androstan-17${\beta}$-ol(IX)은 4단계를 거쳐 합성하였으며 IX을 chloroacetonitrile과 축합반응을 한후 $LiAlH_4$로서 환원하여 4-(${\beta}$-aminoethyl)-17${\alpha}$-methyl-4-aza-5${\alpha}$-androstan-17${\beta}$-ol(XI)을 얻었다. Tktle compound인 V은 3가지의 시약, 2-methyl-2-thiopseudourea,3,5-dimethylpyrazole-1-carboxamidine, cyanamide를 각각 XI와 반응시켜 좋은 수득률을 얻었다. 약리작용의 실험결과 V은 classical한 adrenergic neurone blocking agents와 유사하며 혈압강하제로서의 전망은 좋다고 예상된다.

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크롬(VI)-4-(Dimethylamino)pyridine에 의한 알코올류의 산화반응과 반응속도에 관한 연구 (A Study for Kinetics and Oxidation Reaction of Alcohols by Cr(VI)-4-(Dimethylamino)pyridine)

  • 김영식;박영조;김영준
    • 한국산학기술학회논문지
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    • 제14권1호
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    • pp.499-505
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    • 2013
  • 6M-HCl 용매 하에서 헤테로고리 화합물인 4-(dimethylamino)pyridine과 chromium(VI) trioxide의 반응을 통하여 4-(dimethylamino)pyridinium chlorochromate[$C_7H_{10}N_2HCrO_3Cl$] 착물을 합성하여, 적외선분광광도법(IR), 유도결합 플라즈마(ICP) 등으로 구조를 확인하였다. 여러 가지 용매 하에서 4-(dimethylamino)pyridinium chlorochromate를 이용하여 벤질알코올의 산화반응을 측정한 결과 유전상수(${\varepsilon}$) 값이 큰 용매 즉, 시클로헥센<클로로포름<아세톤$H_2SO_4$)를 이용한 N,N'-디메틸포름아미드 용매 하에서 4-(dimethylamino)pyridinium chlorochromate는 벤질 알코올과 그의 유도체들(p-$OCH_3$, m-$CH_3$, H, m-$OCH_3$, m-Cl, m-$NO_2$)을 효과적으로 산화시켰다. 그리고 전자받개 그룹들은 반응속도가 감소한 반면에 전자주개 치환체들은 반응속도를 증가시켰다. 또한 Hammett 반응상수(${\rho}$) 값은 -0.68(303K) 이었다. 그러므로 본 실험에서 알코올의 산화반응 과정은 속도결정단계에서 수소화 전이가 일어나는 메카니즘임을 알 수 있었다.

Hydriding Chemical Vapor Deposition 방법으로 제조된 MgH2의 수소저장 특성 (Hydrogen Storage Property of MgH2 Synthesized by Hydriding Chemical Vapor Deposition)

  • 박경덕;한정섭;김진호;김병관
    • 한국수소및신에너지학회논문집
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    • 제22권3호
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    • pp.380-385
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    • 2011
  • $MgH_2$ was synthesized by hydriding chemical vapor deposition (HCVD). In this study, we examined the hydrogen storage property of $MgH_2$ synthesized by HCVD. The results of pressure-composition-temperature (PCT) measurement showed that the HCVDed $MgH_2$ reversibly absorbed hydrogen as much as 6 wt%. Each hydrogenation rate was very greater than the conventional alloy methods. The reason was that the particle size made by HCVD was small as approximately 1 ${\mu}m$. The PCT of $MgH_2$ made by HCVD methode was similar to a commercial $MgH_2$. The ${\Delta}H$ and ${\Delta}S$ value are respectively -76.8 $kJ/mol{\cdot}H_2$ and -137.4 $kJ/mol{\cdot}H_2$. Mg made by HCVD methode was activated easily than commercial Mg. Also the initial reaction rate was faster than that of commercial $MgH_2$. 70% of the total storage were stored during 400s.

Al 배선 형성을 위한 화학증착법과 물리증착법의 조합 공정에 관한 연구 (Integration of Chemical Vapor Deposition and Physical Vapor Deposition for the Al Interconnect)

  • 이원준;김운중;나사균;이연승
    • 한국재료학회:학술대회논문집
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    • 한국재료학회 2003년도 춘계학술발표강연 및 논문개요집
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    • pp.101-101
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    • 2003
  • Al 박막의 화학증착(CVD)과 Al-Cu 합금박막의 물리증착(PVD)을 조합하는 CVD-PVD Al 공정은 수평방향의 배선과 수직방향의 via를 동시에 형성할 수 있으므로 공정단순화 및 생산원가절감 측면에서 장점이 있어서 DRAM 둥의 반도체 소자의 배선공정으로 매우 유망하다[1]. 본 연구에서는 CVD-PVD Al 공정을 이용하여 초고집적소자의 Al via와 Al 배선을 동시에 형성할 때 층간절연막의 영향을 조사하고 그 원인을 규명하였다. Al CVD를 위한 원료기체로는 dimethylaluminum hydride [($CH_3$)$_2$AlH]를 사용하였고 PVD는 38$0^{\circ}C$에서 실시하였다 층간절연막에 따른 CVD-PVD Al의 via hole 매립특성을 조사한 결과, high-density plasma(HDP) CVD oxide의 경우에는 via hole 매립특성이 우수하였으나, hydrogen silscsquioxane (HSQ)의 경우에는 매립특성이 우수하지 않아서 via 저항이 불균일 하였다. 이는 via 식각 후 wet cleaning 과정에서 HSQ에 흡수된 수분이 lamp를 이용한 degassing 공정에 의해서 완전히 제거되지 않아 CVD-PVD 공정 중에 탈착되어 Al reflow에 나쁜 영향을 미치기 때문으로 판단된다. CVD-PVD 공정 전에 40$0^{\circ}C$, $N_2$ 분위기에서 baking하여 HSQ 내의 수분을 충분히 제거함으로써 via 매립특성을 향상시킬 수 있었다. CVD-PVD Al 공정은 aspect ratio 10:1 이상의 via hole도 완벽하게 매립할 수 있었고 이에의해 제조된 Al 배선은 기존의 W plug 공정에 의해 제조된 배선에 비해 낮은 via 저항을 나타내었다.

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Gallium Nitride 기판의 Mechanical Polishing시 다이아몬드 입자 크기에 따른 표면 Morphology의 변화 (Influence of the Diamond Abrasive Size during Mechanical Polishing Process on the Surface Morphology of Gallium Nitride Substrate)

  • 김경준;정진석;장학진;신현민;정해도
    • 한국정밀공학회지
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    • 제25권9호
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    • pp.32-37
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    • 2008
  • Freestanding hydride vapor phase epitaxy grown GaN(Gallium Nitride) substrates subjected to various polishing methods were characterized for their surface and subsurface conditions, Although CMP(Chemical Mechanical Polishing) is one of the best approaches for reducing scratches and subsurface damages, the removal rate of Ga-polar surface in CMP is insignificant($0.1{\sim}0.3{\mu}m$/hr) as compared with that of N-polar surface, Therefore, conventional MP(Mechanical Polishing) is commonly used in the GaN substrate fabrication process, MP of (0001) surface of GaN has been demonstrated using diamond slurries with different abrasive sizes, Diamond abrasives of size ranging from 30nm to 100nm were dispersed in ethylene glycol solutions and mineral oil solutions, respectively. Significant change in the surface roughness ($R_a$ 0.15nm) and scratch-free surface were obtained by diamond slurry of 30nm in mean abrasive size dispersed in mineral oil solutions. However, MP process introduced subsurface damages confirmed by TEM (Transmission Electronic Microscope) and PL(Photo-Luminescence) analysis.

전기자동차용 Ni/MH 전지 Module의 열관리기술 (Thermal Management of a Ni/MH Battery Module for Electric Vehicle)

  • 김준범
    • 공업화학
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    • 제8권6호
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    • pp.1034-1040
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    • 1997
  • 전기자동차의 동력원으로 사용되는 90Ah급 Nickel/Metal hydride 전지 11개로 구성된 module의 온도특성을 상용 software인 NISA II를 사용하여 해석하였다. 전지 module에 대한 element수를 감축하기 위하여 열전도도가 다른 여러 층을 통하여 전달되는 열흐름에 대한 해석을 전기저항 등가식을 사용하여 단순화하였으며, Cartesian coordinate의 축별로 다른 열전도도를 삽입하는 orthotropic model을 사용하였다. 전지 module의 온도를 낮추기 위하여 알루미늄 재질의 cooling fin을 전지와 전지사이에 삽입하여 실험을 수행하였고, 전지 module 최외곽에 위치한 fin에 의한 최고온도의 강하 효과는 미미하다는 결과를 얻었다. 전지 module내 전지별 온도차이를 극소화하기 위하여 cooling fin의 개수와 두께 그리고 측면 fin의 복합적인 영향에 대한 실험을 수행하였으며, 1mm 두께의 알루미늄 fin을 4개 사용하여 module내 전지별 최고온도의 차이를 $3^{\circ}C$ 이내로 줄일 수 있었다.

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Reaction Kinetics with Hydrogen and Temperature Dependence of the Hydriding Rate for a Magnesium-Based Nickel Iron Oxide Alloy

  • Song, Myoung Youp;Baek, Sung Hwan;Park, Hye Ryoung
    • 대한금속재료학회지
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    • 제50권6호
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    • pp.463-468
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    • 2012
  • A 71.5 wt%Mg-23.5 wt%Ni-5 wt%$Fe_2O_3$ (Mg-23.5Ni-$5Fe_2O_3$) sample was prepared by a quite simple process, reactive mechanical grinding, and its hydriding and dehydriding properties were then investigated. The reactive mechanical grinding of Mg with Ni and $Fe_2O_3$ is considered to facilitate nucleation and shorten the diffusion distances of the hydrogen atoms. After the hydriding-dehydriding cycling, the Mg-23.5Ni-$5Fe_2O_3$ sample contained $Mg_2Ni$ phase. Expansion and contraction of the hydride-forming materials (Mg and $Mg_2Ni$) with the hydriding and dehydriding reactions are also considered to increase the hydriding and dehydriding rates of the mixture by forming defects and cracks leading to the fragmentation of the particles. The temperature dependence of the hydriding rate of the sample is discussed.

N-p-Nitrophenyl Poly(m-Phenylene Isophthalamide)의 합성 (Synthesis of N-p-Nitrophenyl Poly(m-Phenylene Isophthalamide)

  • 김홍범;김동현;이재웅;송상엽;김낙중
    • 대한화학회지
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    • 제37권2호
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    • pp.249-254
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    • 1993
  • N-p-nitrophenyl poly(m-phenylene isophthalamide)는 poly(m-phenylene isophthalamide)를 디메틸술폭사이드(DMSO) 용매속에서 수소화나트륨(NaH)과 반응시킨 후, 1-fluoro-4-nitrobenzene을 첨가하여 43 wt%를 얻었다. 고유점성도는 폴리머를 98% 황산에 녹여 $30^{\circ}C$에서 측정하였으며 그 값은 0.606g/cm${\cdot}$sec(0.125g/25ml)였다. Poly(m-phenylene isophthalamide) 합성에 있어서, 1,3-페닐디아민은 트리에틸아민과 트리에틸아민·염화수소가 있는 클로로포름 용매속에서 클로로이소프탈산과 반응에 의해 얻어졌다. 고유 점성도 값은 같은 조건에서 0.560g/cm${\cdot}$sec 였다. N-p-nitrophenyl poly(m-phenylene isophthalamide)의 치환비율은 $^1H-NMR$ integration에 의해 16.7~47.0%였다. 고유점성도가 큰 poly(m-phenylene isophthalamide)를 사용했을 때는 치환비율이 낮았다.

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$Cp^*Ru(CO)(PR_3)H$형 착물의 합성과 광반응에 의한 H/D 교환반응 (Synthesis of $Cp^*Ru(CO)(PR_3)H$ Type Complexes and Photo-Induced H/D Exchange Reaction)

  • 이동환;김승일;김장일;오영희;감상규
    • 대한화학회지
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    • 제41권12호
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    • pp.645-652
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    • 1997
  • 클로로착물 Cp*Ru(CO)(PR3)H (Cp*=η5-C5Me5, PR3=PMe3, PEt3, PMePh2, PPh3, PCy3)을 출발물질로 사용하여 다양한 히드리드화시약(NaBH4, LiAlH4, LiBEt3H)이나 NaOMe를 반응시켜서 대응하는 히드리드착물 Cp*Ru(CO)(PCy3)H(5)를 합성하였다. Cp*Ru(CO)(PCy3)H(5)착물의 C6D6ㅇ용액에 UV를 조사하면 분자간 및 분자내 C-H결합 활성화반응을 통하여 용매의 중수소와 착물의 배위 리간드인 Cp*, PCy3, Ru-H의 수소 사이에 H/D 교환반응이 진행되었으며 그 반응기구를 설명하였다.

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마이크로채널 탈수소 화학반응기에서 수소화붕소나트륨 수용액의 계면마찰에 대한 실험연구 (Experimental Study of Interfacial Friction in NaBH4 Solution in Microchannel Dehydrogenation Reactor)

  • 최석현;황승식;이희준
    • 대한기계학회논문집B
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    • 제38권2호
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    • pp.139-146
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    • 2014
  • 수소화붕소나트륨은 수소 에너지를 저장 및 공급할 수 있는 안정된 금속 물질이다. 본 논문에서는 탈수소 화학반응기 유로 설계를 위해 수력학적 직경 $461{\mu}m$를 가지는 마이크로채널에서 수소화붕소나트륨 수용액의 탈수소 화학반응이 일어날 때 수용액과 수소 기체 간의 이상유동 계면마찰에 대하여 실험연구를 수행하였다. 화학반응기 마이크로채널은 직사각 단면으로 높이 $300{\mu}m$, 너비 1 mm, 길이 50 mm 로 실리콘 웨이퍼에 공정되었으며, 가수분해 촉진을 위해 루테늄을 촉매로서 100 nm 두께로 채널 표면에 증착하였다. 가시화 결과 Re 수 30 이하에서 기포유동 양상이 관측되었다. 이상마찰승수는 기포율에 선형적으로 비례하며, 탈수소 화학반응기를 설계할 때 계면마찰에 영향을 미치는 수용액의 초기농도, 촉매 화학반응률, 체류시간을 고려해야 된다.