Effect of Boron Doping Concentration on the Electrical and Optical Properties of Hydrogenated Amorphous Silicon Carbide Thin Films Prepared by PECVD (플라즈마 화학증착법으로 제조된 수소화된 비정질 탄화실리콘 박막의 전기 및 광학특성에 대한 붕소의 도핑효과)
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- Proceedings of the Materials Research Society of Korea Conference
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- 1999.11a
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- pp.136-136
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- 1999