• 제목/요약/키워드: Block Copolymer

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공중합체/나노입자 복합체 박막 내 미세구조의 전기장 하에서의 거동 (Behavior of Microdomains in Block Copolymer/Nanoparticle Nanocomposite Thin Films under Electric Field)

  • 배준원
    • 공업화학
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    • 제28권3호
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    • pp.290-293
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    • 2017
  • 블록공중합체와 나노입자로 이루어진 박막은 많은 관심을 불러 일으켜 왔다. 그리고, 이 혼성체들의 물성과 거동을 조절하기 위해서 다양한 방법이 접근되어 왔다. 본 연구에서는, 블록 공중합체와 나노입자로 이루어진 복합체를 박막 형태로 제조한 후, 이를 전기장에 조사하여 박막 내부 구조의 변화와 거동을 살펴보고자 한다. 본 실험에서는 폴리스티렌과 폴리(2-비닐피리딘)으로 구성된 블록공중합체를 사용하였고, 영구 쌍극자를 포함하는 CdSe 나노 입자를 그 속에 도입하였다. 이를 스핀코팅을 통해 박막 형태로 제조하였고, 전기장을 조사하여 전자현미경 방법으로 내부의 구조변화를 고찰하였다. 결과적으로 도입된 나노입자는 전기장에 의해 부여된 힘에 영향을 거의 받지 않고 블록공중합체의 내부에 존재하였으며, 공중합체의 내부 미세상은 전기장의 영향을 받아 전기장 방향으로 배향하였다. 이는 향후 이종으로 구성된 나노복합체의 전기장 하에서의 거동을 파악하는 데 도움이 될 것이다.

콜라겐 코팅된 블록공중합(PCL/PCL-PEG) 나노섬유의 제조 및 특성분석 (Fabrication and characterization of block copolymer (PCL/PCL-PEG) nanofibers binding with collagen by electrospun)

  • 이진우;윤국로
    • 분석과학
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    • 제27권5호
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    • pp.228-233
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    • 2014
  • 전기방사된 나노섬유는 구조 및 비교적 손쉬운 제조공정으로 의료용 재료분야의 활용이 늘어나고 있다. 제조된 나노섬유는 블럭공중합체의 PCL-PEG diamin block copolymer의 혼합 비가 높을수록 말단에 결합된 아민기의 비가 높아진다. 생분해성 고분자인 폴리카프로락톤(Poly(e-caprolactone,PCL)과 폴리카프로락톤-폴리에틸렌글리콜-아민(Poly(e-caprolactone)-Poly(ethylen glycol-$NH_2$))의 블럭공중합체를 혼합한 비율을 조절하여 전기방사법으로 방사함으로써, 세포와의 친화도를 조절하였다. PEG and amine의 비율과 콜라겐의 영향으로 손상된 세포의 성장을 촉진시키는 효과를 기대할 수 있는 생분해성 복합 나노섬유를 제작 및 특성 분석하였다.

블록공중합체 자기조립제어를 통한 무결함 나노구조제작 (Directed Assembly of Block Copolymers for Defect-Free Nanofabrication)

  • 신동옥;정성준;김봉훈;이형민;박승학;;;김상욱
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • 제46권1호
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    • pp.1-6
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    • 2008
  • 블록공중합체(block copolymer)는 각 고분자 블록의 상대적인 조성비와 분자량에 따라 구, 실린더, 라멜라 등의 다양한 자기조립 나노구조를 형성하는 것으로 알려져 있다. 최근에는 블록공중합체의 자기조립 나노구조를 이용하여 나노복합재료, 포토닉 크리스탈, 나노선, 자기저장매체, 플래시 메모리 소자 등에 적용하려는 연구들이 활발히 진행되고 있다. 그러나 자연적으로 형성되는 블록공중합체 나노구조는 수많은 결함구조들을 포함하고 있어 실제 소자 적용에 큰 걸림돌이 되고 있다. 블록공중합체 나노구조의 실제적인 응용을 위해서는 박막상태의 시료 내에서 나노구조의 배향과 배열을 원하는 형태로 조절할 수 있는 공정의 확립이 선행되어야 한다. 즉, 블록공중합체의 자기조립을 나노기술분야에 적용하기 위해서는 대면적으로 완벽히 제어된 블록공중합체 나노구조를 구현하는 것이 필요하다.

Direct Patterning of Self Assembled Nano-Structures of Block Copolymers via Electron Beam Lithography

  • Yoon Bo Kyung;Hwang Wonseok;Park Youn Jung;Hwang Jiyoung;Park Cheolmin;Chang Joonyeon
    • Macromolecular Research
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    • 제13권5호
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    • pp.435-440
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    • 2005
  • This study describes a method where the match of two different length scales, i.e., the patterns from self-assembled block copolymer (<50 nm) and electron beam writing (>50 nm), allow the nanometer scale pattern mask. The method is based on using block copolymers containing a poly(methyl methacrylate) (PMMA) block, which is subject to be decomposed under an electron beam, as a pattern resist for electron beam lithography. Electron beam on self assembled block copolymer thin film selectively etches PMMA microdomains, giving rise to a polymeric nano-pattern mask on which subsequent evaporation of chromium produces the arrays of Cr nanoparticles followed by lifting off the mask. Furthermore, electron beam lithography was performed on the micropatterned block copolymer film fabricated by micro-imprinting, leading to a hierarchical self assembled pattern where a broad range of length scales was effectively assembled, ranging from several tens of nanometers, through submicrons, to a few microns.

Characterization of Linear Polymer-Dendrimer Block Copolymer/Plasmid DNA Complexes: Formation of Core-shell Type Nanoparticles with DNA and Application to Gene Delivery in Vitro

  • Choi, Joon-Sig;Choi, Young-Hun;Park, Jong-Sang
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제25권7호
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    • pp.1025-1030
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    • 2004
  • A hybrid linear polymer-dendrimer block copolymer, poly(ethylene glycol)-block-poly(L-lysine) dendrimer, was synthesized and introduced to form polyionic complexes with DNA. The copolymer formed core-shell type nanoparticles with plasmid DNA. From dynamic light scattering experiments, the mean diameter of the polyplexes was observed to be 154.4 nm. The complex showed much increased water solubility compared to poly(L-lysine). The plasmid DNA in polyplexes was efficiently protected from the enzymatic digestion of DNase I. The cytotoxicity and transfection efficiency for 293 cells was measured in comparison with poly(Llysine).

ATRP(atom transfer radical polymerization)에 의한 polystyrene과 poly ethylene glycol methyl ether methacrylate(PEGMA)의 블록 공중합체의 합성 (Synthesis of block copolymer of polystyrene and polyethylene glycol methyl ether methacrylate(PEGMA) by ATRP (atom transfer radical polymerization))

  • 김상헌
    • 한국응용과학기술학회지
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    • 제26권3호
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    • pp.306-316
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    • 2009
  • In this study, block copolymer of polystyrene and polyethylene glycol methyl ether methacrylate(PEGMA) by ATRP(atom transfer radical polymerization) method was synthesized. 4 arm-molecule which contained halogen atom was synthesized for an initiator. With 4 arm-molecule monodispered polystyrene were synthesized by ATRP method. The molecular change of synthesized monodispersed polystyrene with respect to time was investigated and living polymer characteristic was confirmed. Block copolymer of polystyrene and polyethylene glycol methyl ether methacrylate(PEGMA) was synthesized by ATRP with macroinitiator which was synthesized from the monodispersed polystyrene(Mn=12000). The molecular weight of obtained PS-b-PEGMA was 22,000.

Styrene-Butadiene-Styrene Block Copolymer 위 이온빔 조사를 이용한 주름 구조 생성 메커니즘 연구 (Mechanism of Wrinkle Formation on Styrene-Butadiene-Styrene Block Copolymer via Ion-Beam Irradiation)

  • 이주환;김대현
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제34권2호
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    • pp.130-135
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    • 2021
  • Wrinkle patterns were fabricated on styrene-butadiene-styrene (SBS) block copolymer substrates using ion-beam (IB) irradiation with various intensities. The wavelength of the wrinkle pattern increased as the IB intensity was increased from 800 to 1,600 eV. IB irradiation-induced changes in the surface properties that were confirmed via physicochemical surface analyses. X-ray photoelectron spectroscopy analysis revealed chemical surface reformation due to the IB irradiation, resulting in C-O/C=O bonds after IB irradiation that were not reported before. These results indicate that the surface chemical modification caused by IB irradiation is strongly related to the surface modulus, which is important when fabricating wrinkle patterns. Furthermore, a strong IB irradiation induced a strong compressive strain; thus the size of the wrinkle pattern was increased.