BiSrCaCuO was prepared by the thermal pyrolysis method. The solid precursor produced by the dehydration of the gel at $120^{\circ}C$ for 12h is not in the amorphous state as expected but in a crystalline state. X-ray diffraction peaks of nearly the same angular position as the peaks of high Tc phase were observed in the precursor. After pyrolysis at $90^{\circ}C$ and calcination at $840^{\circ}C-920^{\circ}C$ for 4h, the high Tc phase was cleary observed. In this paper, the establishment of fabrication condition and additive effects of second elements were examined so as to improve the related properties to the practical use of BiSrCaCuO superconductor, and we reported the production of the BiSrCaCuO high Tc superconductor by the pyrolysis method.
Bi$_2Sr_2CaCu_2O$(Bi-2212) thick films were fabricated on Y2l1 substrate by screen printing method. And the samples were annealed in various atmospheres, respectively. Though samples had many voids, the sample annealed in N$_2$ ; O$_2$ = 1:0 atmosphere and the sample in N$_2$ : O$_2$ = 0:1 showed some Bi 2212 low phase in comparison to other samples. The thickness of Bi-2212 on Y2ll substrates was about 20 ${\mu}$m.
$SrBi_{2x}TaO_9$ ferroelectric thin films were prepared on platinized silicon substrates using MOD proces, and crystallization behavior of the films was investigated with variation of the annealing temperature and Bi content x. Crystalline phase of bismuth layered perovskite structure was formed even by baking the films at $800^{\circ}C$ for 5 minutes in air, and was not changed by annealing at temperatures raning from $700^{\circ}C$ to $900^{\circ}C$ for 1 hour in oxygen ambient. When $SrBi_{2x}TaO_9$ thin films ($0.8\lex\ie1.6$) were annealed at $800^{\circ}C$, Preferred orientation of the films along c-axis was observed with $x\ge1.2$. With increasing Bi content x, surface morphology of the films was changed from equiaxed grains to elongated grains.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.18
no.5
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pp.464-467
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2005
BiSrCaCuO superconducting ceramic thick films were fabricated by chemical process. The x ray diffraction pattern of the BiSrCaCuO thick films contained 110 K phase. The critical temperature of BiSrCaCuO thick films were Tc=95 K-97 K. The critical temperature and critical density of BiSrCaCuO thick film grown at $750 {\circ}C$ were Tc = 95 K and $Jc= 7{\times}10^{6} A/cm^{2}$ We obtained high-Jc as-grown BiSrCaCuO on an MgO substrate by low fressure CVD.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2000.07a
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pp.230-234
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2000
Bi$_2$Sr$_2$Ca$_{n}$Cu$_{n+1}$ O$_{y}$(n$\geq$0; BSCCO)thin film is fabricated via two different processes using an ion beam sputtering method i.e. co-deposition and layer-by-layer deposition. A single phase of Bi2212 can be fabricated via the co-deposition process. While it cannot be obtained by the layer-by-layer process. Ultra-law growth rate in our ion beam sputtering system brings out the difference in Bi element adsorption between the two processes and results in only 30% adsorption against total incident Bi amount by layer-by-layer deposition, in contrast to enough Bi adsorption by co-deposition.on.n.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers
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v.43
no.5
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pp.795-801
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1994
The BiPbSrCaCuO superconductor was fabricated by diffusion of The dual layer composed of SrS12TCaS11TCuS12TOS1xT in upper layer and BiS12TPbSI0.3TCuS12TOS1yT in lower layer, and varified growh-mechanism of BiPbSrCaCuO superconducting phase. And, we produced optimum conditions of spread volume and each stage of sintering time were upper layer:Lower layer=1:0.2, 1:0.4, 1:0.6 and 24hr., 120hr., 210hr. From the result, the optimum conditions are spread volume(Upper layer:Lower layer=1:0.6), sintering time(210hrs.) at 820$^{\circ}C$.The BiPbSrCaCuO superconductor, fabricated optimum condition, showed zero resistance at critical temperature of 70k.
Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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2010.10a
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pp.784-786
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2010
Implementation possibility of inline dispersion management (DM) using bi-end schemes, which consist of one single mode fiber (SMF) and two dispersion compensating fiber (DCF) placed at front and rear of SMF, respectively, is investigated for compensating total dispersion accumulated in a span of WDM transmission links. It is confirmed that if net residual dispersion (NRD) is decided to be ${\pm}10\;ps/nm$ then bi-end scheme is effective to compensate for WDM channels with wide launching power range.
Well oriented Bi2212 superconductor thick films were formed successfully on a copper substrate by liquid reaction between a Cu-free precursor and Cu tape method in which Cu-free BSCO powder mixture was' printed on copper plate and heat-treated. And we examined the effect of heat-treatment atmosphere for the superconducting properties and microstructure of Bi2212. The composition of Cu-free BSCO powder mixture was Bi$_2O_3$ : SrCO$_3$ : CaCO$_3$ = 1.2~2 : 1 : 1 and the heat-treatment for the superconducting formation reaction was performed in air, oxygen, nitrogen and low oxygen pressure. At heat-treatment temperature, the printing layer partially melt by reacting with CuO of the oxidizing copper plate, and the nonsuperconducting phases present in the melt are typically Bi-free phases and Cu-free phases. Among the nonsuperconducting phases, it is known that the (Sr,Ca)CuO$_3$ phase restrain the formation of the Bi2212 superconducting phase. Because a kind of the nonsuperconducting phases is controled by the oxygen partial pressure, the optimum condition in which the remnants of the second phases don't leave in the fully processed conductor was determined by XRD and the critical tempera to re (Tc) analysis.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.13
no.6
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pp.272-278
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2003
$Bi_4Ti_3O_{12}$ (BIT) and $(Bi_{3.25}La_{0.75})(Ti_{2.97}V_{0.03})O_{12}$ (BLTV) thin films were deposited on ITO/glass substrates by metal organic chemical vapor deposition (MOCVD) using ultrasonic spraying. After deposition of the films in oxygen atmosphere for 30 min, the films were heated by rapid thermal annealing (RTA) method, especially direct insertion, at various temperatures. The films were investigated on phase formation temperature, microstructure and electrical properties. From x-ray diffraction (XRD) patterns, the perovskite phase formation temperature of BLTV thin film was about $600^{\circ}C$ which was lower than that of BIT, $650^{\circ}C$. The leakage current of the BLTV thin film was measured to be $1.52\times 10^{-9}$A/$cm^2$ at an applied voltage of 1 V. The remanent polarization (Pr) and coercive field (Ec) values of the BLTV film deposited at $650^{\circ}C$ were $5.6\muC/cm^2$ and 96.5 kV/cm, respectively.
Kim, Kwan-Soo;Kim, Shin;Yoon, Sang-Ok;Park, Jong-Guk
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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v.8
no.5
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pp.201-205
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2007
Low temperature sintering behavior and microwave dielectric properties of the $BiNbO_{4^-}$ and the $ZnNb_2O_{6^-}zinc$ borosilicate glass(ZBS) systems were investigated with a view to applying the composition to LTCC technology. The addition of $10{\sim}30$ wt% ZBS in both systems ensured successful sintering below $900^{\circ}C$. For the $BiNbO_{4^-}ZBS$ system, the sintering was completed when 15 wt% ZBS was added whereas 25 wt% ZBS was necessary for the $ZnNb_2O_{6^-}zinc$ system. Secondary phase was not observed in the $BiNbO_{4^-}ZBS$ system but a small amount of $ZnNb_2O_6$ with the willemite structure as the secondary phase was observed in the $ZnNb_2O_{6^-}ZBS$ system. In terms of dielectric properties, the application of the $BiNbO_{4^-}$ and the $ZnNb_2O_{6^-}ZBS$ systems sintered at $900^{\circ}C$ to LTCC were shown to be appropriate; $BiNbO_{4^-}15$ wt% ZBS($\varepsilon_r=25,\;Q{\times}f\;value=3,700GHz,\;\tau_f=-32ppm/^{\circ}C$) and $ZnNb_2O_{6^-}25$ wt% ZBS($\varepsilon_r=15.8,\;Q{\times}f\;value=5,400GHz,\;\tau_f=-98ppm/^{\circ}C$).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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