The properties of Al-doped ZnO films deposited with RF magnetron sputtering system in various H2/(Ar + H2) gas ratios (RF 마그네트론 스퍼터링 방법을 사용해 증착된 Al이 도핑 된 ZnO 박막의 H2/(Ar + H2) 가스 비율에 따른 특성)
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- Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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- v.22 no.3
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- pp.122-126
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- 2012